JPS5835996B2 - 4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾ−ル系化合物の製造方法 - Google Patents
4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾ−ル系化合物の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
- C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、除草剤の有効成分として或はその中間体とし
て有用な4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾール又
はその塩(以下4−ベンゾイルピラゾール系化合物と略
す)の製造方法に関し、詳しくはピラゾロン系化合物と
ペンシトリクロライド系化合物とを反応させ、加水分解
して4−ベンゾイルピラゾール系化合物を製造する方法
に関する。
て有用な4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾール又
はその塩(以下4−ベンゾイルピラゾール系化合物と略
す)の製造方法に関し、詳しくはピラゾロン系化合物と
ペンシトリクロライド系化合物とを反応させ、加水分解
して4−ベンゾイルピラゾール系化合物を製造する方法
に関する。
従来、4−ベンゾイルピラゾール系化合物は特開昭50
−126830.同51−138672、同54−14
8786などによって、ピラゾロン系化合物とベンゾイ
ルハライド系化合物とを反応させて製造されることが知
られている。
−126830.同51−138672、同54−14
8786などによって、ピラゾロン系化合物とベンゾイ
ルハライド系化合物とを反応させて製造されることが知
られている。
この方法は中間物として5−ベンゾイルオキシヒドラシ
ール系化合物を生成、次いでこのものの5位のベンゾイ
ル基を4位に転位させることによって、4ベンゾイルピ
ラゾ一ル系化合物を生成している。
ール系化合物を生成、次いでこのものの5位のベンゾイ
ル基を4位に転位させることによって、4ベンゾイルピ
ラゾ一ル系化合物を生成している。
しかしながら、この方法で使用する原料のベンゾイルハ
ライド系化合物は、刺激性を有して取扱いにくいもので
ある。
ライド系化合物は、刺激性を有して取扱いにくいもので
ある。
また、このものは通常、トルエン又はハロゲノトルエン
を側鎖塩素化してペンシトリクロライド系化合物を生成
させ、これを加水分解して安息香酸系化合物を生成、更
にホスゲン又は塩化チオニルを反応させることによって
製造されており、その製造方法は多数の工程から構成さ
れている。
を側鎖塩素化してペンシトリクロライド系化合物を生成
させ、これを加水分解して安息香酸系化合物を生成、更
にホスゲン又は塩化チオニルを反応させることによって
製造されており、その製造方法は多数の工程から構成さ
れている。
本発明者達は、トルエン又はハロゲノトルエンを側鎖塩
素化したペンシトリクロライド系化合物を直接、ピラゾ
ロン系化合物と反応させ、加水分解したところ、目的の
4−ベンゾイルピラゾール系化合物が生成することの知
見を得た。
素化したペンシトリクロライド系化合物を直接、ピラゾ
ロン系化合物と反応させ、加水分解したところ、目的の
4−ベンゾイルピラゾール系化合物が生成することの知
見を得た。
本発明は、一般式(■)
(式中Rは水素原子又は低級アルキル基である)で表わ
されるピラゾロン系化合物と、一般式(川)(式中、X
l及びX2は水素原子又は)・ロゲン原子である)で表
わされるペンシトリクロライド系化合物とを反応させ、
この反応生成物な加水分解して、一般式(I[) (式中、 R,Xl 及びX2 は前述の通りである) で表わされる4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾー
ル又はその塩を製造することを特徴とする、4−ベンゾ
イル−5−ヒドロキシピラゾール系化合物の製造方法で
ある。
されるピラゾロン系化合物と、一般式(川)(式中、X
l及びX2は水素原子又は)・ロゲン原子である)で表
わされるペンシトリクロライド系化合物とを反応させ、
この反応生成物な加水分解して、一般式(I[) (式中、 R,Xl 及びX2 は前述の通りである) で表わされる4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾー
ル又はその塩を製造することを特徴とする、4−ベンゾ
イル−5−ヒドロキシピラゾール系化合物の製造方法で
ある。
前記一般式のRの低級アルキル基としては、メチル、エ
チル、イングロビル、tert −ブチルなどが挙げ
られ、Xl及びX2のハロゲン原子としは、塩素原子、
臭素原子、沃素原子などが挙げられる。
チル、イングロビル、tert −ブチルなどが挙げ
られ、Xl及びX2のハロゲン原子としは、塩素原子、
臭素原子、沃素原子などが挙げられる。
本発明によれば、従来法に比べて安価な原料物質が使用
でき、容易に目的の4−ベンゾイルピラゾール系化合物
が高収率で製造できるので、工業的に有意義である。
でき、容易に目的の4−ベンゾイルピラゾール系化合物
が高収率で製造できるので、工業的に有意義である。
本発明方法では、一般にピラゾロン系化合物及びペンシ
トリクロライド系化合物を一20〜200℃、望ましく
は0℃〜180℃、更に望ましくは60〜150℃の温
度で縮合反応させ、次いでこの反応生成物を加水分解す
る反応が行なわれる。
トリクロライド系化合物を一20〜200℃、望ましく
は0℃〜180℃、更に望ましくは60〜150℃の温
度で縮合反応させ、次いでこの反応生成物を加水分解す
る反応が行なわれる。
この反応生成物は普通、反応系外に取り出されることな
くそのまま水が添加されて、通常の加水分解反応に供せ
られる。
くそのまま水が添加されて、通常の加水分解反応に供せ
られる。
この縮合反応では一般に、脱酸剤又は触媒の存在下に行
なわれる。
なわれる。
脱酸剤としては、例えばピリジン、トリエチルアミンな
どの第3級有機アミン類、アルカリ金属又はアルカリ土
類金属の水酸化物、炭酸塩或は重炭酸塩などの塩基性物
質が挙げられる。
どの第3級有機アミン類、アルカリ金属又はアルカリ土
類金属の水酸化物、炭酸塩或は重炭酸塩などの塩基性物
質が挙げられる。
触媒とじては、例えば塩化アルミニウム、塩化亜鉛、ア
ルミニウムアマルガム、弗化水素などが挙げられる。
ルミニウムアマルガム、弗化水素などが挙げられる。
脱酸剤又は触媒の使用量は普通、ピラゾロン系化合物1
モルに対して1〜5モル、望ましくは1〜3モル、更に
望ましくは2〜3モルである。
モルに対して1〜5モル、望ましくは1〜3モル、更に
望ましくは2〜3モルである。
また、この反応では溶媒を存在させた状態でも行なわれ
る。
る。
溶媒としては、例えば水、メタノール、エタノールなど
のアルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテルなどのエーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどの環状エーテル類、ベンゼン、トルエンなどの
芳香族炭化水素類、塩化メチレン、ジクロロエタン、テ
トラクロロエタン、m−ジクロロベンゼンなどのハロゲ
ン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの
ケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン
などの非プロトン性極性溶媒、二硫化炭素などが挙げら
れる。
のアルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテルなどのエーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどの環状エーテル類、ベンゼン、トルエンなどの
芳香族炭化水素類、塩化メチレン、ジクロロエタン、テ
トラクロロエタン、m−ジクロロベンゼンなどのハロゲ
ン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンなどの
ケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン
などの非プロトン性極性溶媒、二硫化炭素などが挙げら
れる。
本発明の加水分解反応は一般に、前述の縮合反応の反応
生成物に水を添加することによって行なわれる。
生成物に水を添加することによって行なわれる。
例えば前述の縮合反応の終了を確認した後、反応生成物
を反応系外に取り出さず、引き続いて、普通0℃〜15
0℃、望ましくは室温〜100℃の状態にて、塩基性物
質を含有するアルコール水溶液を加えることによって、
或は塩酸、硫酸などの鉱酸の水溶液を加えることによっ
て行なわれる。
を反応系外に取り出さず、引き続いて、普通0℃〜15
0℃、望ましくは室温〜100℃の状態にて、塩基性物
質を含有するアルコール水溶液を加えることによって、
或は塩酸、硫酸などの鉱酸の水溶液を加えることによっ
て行なわれる。
本発明の縮合及び加水分解の反応時間は、他の反応条件
の違いによって一概に規定できないが、普通0.2〜1
0時間である。
の違いによって一概に規定できないが、普通0.2〜1
0時間である。
反応終了後、反応混合物には溶媒抽出、酸処理、蒸留な
どの通常の分離、精製手段が施されて目的の4−ベンゾ
イルピラゾール系化合物が得られる。
どの通常の分離、精製手段が施されて目的の4−ベンゾ
イルピラゾール系化合物が得られる。
次に本発明方法の実施例を記載する。
実施例 1
1・3−ジメチル−5−ピラゾロン1グ及び2・4−ジ
クロロベンシトリクロライド2グを、140℃で3時間
加熱、攪拌しながら反応させた。
クロロベンシトリクロライド2グを、140℃で3時間
加熱、攪拌しながら反応させた。
反応終了後、この反応液を70”Cに冷却し、水酸化カ
リウム1.1♂を50%エタノール水溶液10TLlに
溶解させた溶液を滴下し、1時間攪拌下に反応させ、室
温迄冷却した。
リウム1.1♂を50%エタノール水溶液10TLlに
溶解させた溶液を滴下し、1時間攪拌下に反応させ、室
温迄冷却した。
反応混合物に塩酸を加えて酸性にした後、塩化メチレン
を加えて抽出し、無水硫酸す) IJウムで乾燥して粗
結晶2.41を得た。
を加えて抽出し、無水硫酸す) IJウムで乾燥して粗
結晶2.41を得た。
このものを液体クロマトグラフィーで分析したところ、
目的物1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベン
ソイル)−5−ヒドロキシピラゾールが22%含有され
ていた。
目的物1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベン
ソイル)−5−ヒドロキシピラゾールが22%含有され
ていた。
実施例 2
1・3−ジメチル−5−ピラゾロン0.5f、2・4−
ジクロロベンシトリクロライド1.1及びピリジンo、
4mlを、120℃で4時間反応させた。
ジクロロベンシトリクロライド1.1及びピリジンo、
4mlを、120℃で4時間反応させた。
この反応液に、予め水酸化カリウム0.7Pを水5ml
とエタノール5mlに溶解した溶液を70 ’Cで攪拌
しながら加え、1時間維持した。
とエタノール5mlに溶解した溶液を70 ’Cで攪拌
しながら加え、1時間維持した。
反応混合物を室温にまで冷却し、塩化メチレン20m1
を加えてよく攪拌した後、水層を分取し、濃塩酸を加え
てpHを1とした。
を加えてよく攪拌した後、水層を分取し、濃塩酸を加え
てpHを1とした。
水層に塩化メチレンを加えて抽出し、抽出液を水洗し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後溶媒を留去して、1・
3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル)−
5−ヒドロキシピラゾール0.65L?を得た。
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後溶媒を留去して、1・
3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾイル)−
5−ヒドロキシピラゾール0.65L?を得た。
実施例 3
■・3−ジメチル−5−ピラゾロン2グを水10rIl
lに溶解させ、室温で攪拌下にベンシトリクロライド3
,5りを加え、30分間反応させた。
lに溶解させ、室温で攪拌下にベンシトリクロライド3
,5りを加え、30分間反応させた。
この反応液に、予め水酸化カリウム52を50%エタノ
ール水溶液15rIllに溶解させた溶液を80℃で攪
拌しながら加え、30分間維持した。
ール水溶液15rIllに溶解させた溶液を80℃で攪
拌しながら加え、30分間維持した。
反応混合物を前記実施例2の場合と同様に精製処理して
、1・3−ジメチル−4−ベンゾイル−5−ヒドロキシ
ピラゾール2.5rを得た。
、1・3−ジメチル−4−ベンゾイル−5−ヒドロキシ
ピラゾール2.5rを得た。
実施例 4
前記実施例3において1−イソプロピル−3−メチル−
5−ピラゾロン2f、p−ブロモベンシトリクロライド
3.91及び水酸化カリウム4グを使用することを除い
ては、前記実施例3の場合と同様にして反応させ精製処
理して、■−イソプロピルー3−メチルー4−(4−ブ
ロモベンゾイル)=5−ヒドロキシピラゾール2,2i
を得た。
5−ピラゾロン2f、p−ブロモベンシトリクロライド
3.91及び水酸化カリウム4グを使用することを除い
ては、前記実施例3の場合と同様にして反応させ精製処
理して、■−イソプロピルー3−メチルー4−(4−ブ
ロモベンゾイル)=5−ヒドロキシピラゾール2,2i
を得た。
実施例 5
3−メチル−5−ヒラゾロン1グを水10rILlに懸
濁し、室温でベンシトリクロライド2グを加え、1時間
反応させた。
濁し、室温でベンシトリクロライド2グを加え、1時間
反応させた。
この反応液に、予め水酸化カリウム2.9iを50%エ
タノール水溶液15m1に溶解させた溶液を90℃で攪
拌しながら加え、1時間維持した。
タノール水溶液15m1に溶解させた溶液を90℃で攪
拌しながら加え、1時間維持した。
反応混合物を室温にまで冷却し、濃塩酸で酸性にし、塩
化メチレンで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、溶媒を留去して粗結晶1.71を得た。
化メチレンで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、溶媒を留去して粗結晶1.71を得た。
このものを液体クロマトグラフィーで分析したところ、
3−メチル−4−ベンゾイル−5−ピラゾロン(m、p
、258〜266℃)が38%含有されていた。
3−メチル−4−ベンゾイル−5−ピラゾロン(m、p
、258〜266℃)が38%含有されていた。
実施例 6
1・3−ジメチル−5−ピラゾロン1グ、2・4−ジク
ロロベンシトリクロライド2.41?及び無水塩化アル
ミニウム1.81を加熱して100℃で0.5時間反応
させた。
ロロベンシトリクロライド2.41?及び無水塩化アル
ミニウム1.81を加熱して100℃で0.5時間反応
させた。
反応生成物を放冷し、ジクロロエタン20TLlを加え
、徐々に6規定の塩酸30m1を加えた後、加熱して還
流状態で1時間反応させた。
、徐々に6規定の塩酸30m1を加えた後、加熱して還
流状態で1時間反応させた。
反応混合物を冷却して分液し、塩化メチレンで抽出した
抽出層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出、これを
濃塩酸で処理し、再度塩化メチレンで抽出した。
抽出層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出、これを
濃塩酸で処理し、再度塩化メチレンで抽出した。
この抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去
して1・3−ジメチルー4−(2・4−ジクロロベンゾ
イル)−5−ヒドロキシピラゾール1.61を得た。
して1・3−ジメチルー4−(2・4−ジクロロベンゾ
イル)−5−ヒドロキシピラゾール1.61を得た。
実施例 7
1・3−ジメチル−5−ピラゾロン1.36?、2・4
−ジクロロベンシトリクロライド3.11及び無水塩化
アルミニウム3.11を混合、溶融した後、100℃に
昇温しで1時間反応させた。
−ジクロロベンシトリクロライド3.11及び無水塩化
アルミニウム3.11を混合、溶融した後、100℃に
昇温しで1時間反応させた。
反応生成物を放冷し、ジクロロエタン10rfLlを加
え、水冷しながら、徐々に水5一次いで濃塩酸15TI
Llを加え、70℃で2時間反応させた。
え、水冷しながら、徐々に水5一次いで濃塩酸15TI
Llを加え、70℃で2時間反応させた。
反応混合物を放冷し、有機層を分取し、3%の水酸化カ
リウム水溶液で抽出し、塩酸で処理して再び塩化メチレ
ンで抽出した。
リウム水溶液で抽出し、塩酸で処理して再び塩化メチレ
ンで抽出した。
抽出層を水洗して乾燥し、溶媒を留去して1・3−ジメ
チル−4−(2・4−ジクロロベンソイル)−5−ヒド
ロキシヒラソール3.21を得た。
チル−4−(2・4−ジクロロベンソイル)−5−ヒド
ロキシヒラソール3.21を得た。
実施例 8
1・3−ジメチル−5−ピラゾロン1.32Pをジクロ
ロエタン8rrLlに溶解させ、無水塩化アルミニウム
3.1tを添加し、攪拌しながら70℃に加温した。
ロエタン8rrLlに溶解させ、無水塩化アルミニウム
3.1tを添加し、攪拌しながら70℃に加温した。
そこへ、2・4−ジクロロベンシトリクロライド3vを
ジクロロエタン5mlに溶解させた溶液を滴下し、還流
状態で1時間反応させた。
ジクロロエタン5mlに溶解させた溶液を滴下し、還流
状態で1時間反応させた。
反応生成物を放冷し、濃塩酸15TLlを徐々に加え、
70℃で2時間反応させた。
70℃で2時間反応させた。
その後、有機層を分取し、水洗、乾燥し、溶媒を留去し
て、1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾ
イル)−5−ヒドロキシピラゾール3.21を得た。
て、1・3−ジメチル−4−(2・4−ジクロロベンゾ
イル)−5−ヒドロキシピラゾール3.21を得た。
前述の反応例において、ジクロロエタンの代りに二硫化
炭素を使用し、同様に縮合反応及び加水分解反応を行な
ったところ、良好な結果が得られた。
炭素を使用し、同様に縮合反応及び加水分解反応を行な
ったところ、良好な結果が得られた。
実施例 9
3−メチル−5−ピラゾロン1.11Pをジクロロエタ
ン101rllに溶解させ、無水塩化アルミニウム3.
1iを加えた。
ン101rllに溶解させ、無水塩化アルミニウム3.
1iを加えた。
攪拌しながら、2・4−ジクロルベンシトリクロライド
31をジクロルエタン5aに溶解させた溶液を滴下し、
還流状態で1時間反応させた。
31をジクロルエタン5aに溶解させた溶液を滴下し、
還流状態で1時間反応させた。
反応生成物を放冷し、濃塩酸15aを徐々に加え、70
°で2時間反応させた。
°で2時間反応させた。
放冷後、固形物を1取し、水洗後乾燥させて3−メチル
−4−(2・4−ジクロルベンゾイル)−5−ヒドロキ
シピラゾール3.01を得た。
−4−(2・4−ジクロルベンゾイル)−5−ヒドロキ
シピラゾール3.01を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、Rは水素原子又は低級アルキル基である)で表
わされるピラゾロン系化合物と一般式(式中、Xl及び
X2は水素原子又はハロゲン原子である)で表わされる
ペンシトリクロライド系化合物とを反応させ、この反応
生成物を加水分解して、一般式 (式中、R,Xl及びX2は前述の通りである)で表わ
される4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾール又は
その塩を製造することを特徴とする、4−ベンゾイル−
5−ヒドロキシピラゾール系化合物の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55029829A JPS5835996B2 (ja) | 1980-03-11 | 1980-03-11 | 4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾ−ル系化合物の製造方法 |
| US06/240,313 US4383116A (en) | 1980-03-11 | 1981-03-04 | Process for producing 4-benzoylpyrazoles |
| IT20241/81A IT1168080B (it) | 1980-03-11 | 1981-03-10 | Procedimento per la produzione di 4-benzoilpirazoli |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55029829A JPS5835996B2 (ja) | 1980-03-11 | 1980-03-11 | 4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾ−ル系化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56127360A JPS56127360A (en) | 1981-10-06 |
| JPS5835996B2 true JPS5835996B2 (ja) | 1983-08-05 |
Family
ID=12286909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55029829A Expired JPS5835996B2 (ja) | 1980-03-11 | 1980-03-11 | 4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾ−ル系化合物の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4383116A (ja) |
| JP (1) | JPS5835996B2 (ja) |
| IT (1) | IT1168080B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4855442A (en) * | 1988-04-13 | 1989-08-08 | Monsanto Company | Substituted 3-hydroxy pyrazoles |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3939203A (en) * | 1968-03-18 | 1976-02-17 | General Mills, Inc. | Certain substituted 2-hydroxybenzophenoximes and the process of extracting copper therewith |
| US4146726A (en) * | 1974-03-28 | 1979-03-27 | Sankyo Company Limited | Pyrazole sulfonates |
| US4070536A (en) * | 1975-06-19 | 1978-01-24 | Sankyo Company Limited | Process for the preparation of 4-benzoylpyrazole derivatives |
-
1980
- 1980-03-11 JP JP55029829A patent/JPS5835996B2/ja not_active Expired
-
1981
- 1981-03-04 US US06/240,313 patent/US4383116A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-03-10 IT IT20241/81A patent/IT1168080B/it active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4383116A (en) | 1983-05-10 |
| IT1168080B (it) | 1987-05-20 |
| JPS56127360A (en) | 1981-10-06 |
| IT8120241A0 (it) | 1981-03-10 |
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