JPS5848487B2 - 高純度炭化珪素粉末の製造方法 - Google Patents
高純度炭化珪素粉末の製造方法Info
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- JPS5848487B2 JPS5848487B2 JP51035472A JP3547276A JPS5848487B2 JP S5848487 B2 JPS5848487 B2 JP S5848487B2 JP 51035472 A JP51035472 A JP 51035472A JP 3547276 A JP3547276 A JP 3547276A JP S5848487 B2 JPS5848487 B2 JP S5848487B2
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- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 19
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 17
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000002006 petroleum coke Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 2
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000003323 beak Anatomy 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体製造用治具或いは均熱管の原料として適
した高純度炭化珪素粉末の製造方法に関するものである
。
した高純度炭化珪素粉末の製造方法に関するものである
。
従来、炭化珪素を大量に製造するには、珪石粉と炭素粉
にオガ屑食塩等を添加し、電気炉に充填した後、該炉内
のコアの抵抗発熱により珪石粉と炭素粉を反応させてい
る。
にオガ屑食塩等を添加し、電気炉に充填した後、該炉内
のコアの抵抗発熱により珪石粉と炭素粉を反応させてい
る。
しかし、この方法にあってはコア周辺が最高温度となり
外側の炉壁に向かって次第に温度が低下するため、外周
部に未反応層が残ったり、原料中の不純物が凝縮し易い
温度範囲が生じ、生或した炭化珪素中の不純物の量に不
均一な分布が発生したり、その炭化珪素がインコットと
呼ばれる多結晶集合体となったりする虞れがあった。
外側の炉壁に向かって次第に温度が低下するため、外周
部に未反応層が残ったり、原料中の不純物が凝縮し易い
温度範囲が生じ、生或した炭化珪素中の不純物の量に不
均一な分布が発生したり、その炭化珪素がインコットと
呼ばれる多結晶集合体となったりする虞れがあった。
したがって、一旦これを粉砕したり、攪拌混合してC
, Fe等の不純物の均一分布化を計る必要があるため
、該粉砕工程、攪拌工程時に不可避的に不純物が混入し
、純度の低い炭化珪素粉となる欠点があった。
, Fe等の不純物の均一分布化を計る必要があるため
、該粉砕工程、攪拌工程時に不可避的に不純物が混入し
、純度の低い炭化珪素粉となる欠点があった。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、粉末状で、二
次汚染を起こす粉砕工程、攪拌工程を一切行わずにその
まま各種の原料として使用できる高純度の炭化珪素粉を
得ようとするものである。
次汚染を起こす粉砕工程、攪拌工程を一切行わずにその
まま各種の原料として使用できる高純度の炭化珪素粉を
得ようとするものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
まず5CIfL以下の粒径の高純度珪石粉と5wIl以
下の粒径の高純度炭素粉とをたとえば円筒状の黒鉛質容
器に充填して密封する。
下の粒径の高純度炭素粉とをたとえば円筒状の黒鉛質容
器に充填して密封する。
次いで、この容器を黒鉛管状炉に連続的に移動させ、炉
内に窒素ガス等の非酸化性ガスを流通させつつ、炉内温
度を著しい粒成長を起こすことなしに炭化珪素化できる
温度範囲すなわち1800〜2200℃に保持し珪石と
炭素とを反応せしめて炭化珪素粉を造る。
内に窒素ガス等の非酸化性ガスを流通させつつ、炉内温
度を著しい粒成長を起こすことなしに炭化珪素化できる
温度範囲すなわち1800〜2200℃に保持し珪石と
炭素とを反応せしめて炭化珪素粉を造る。
本発明に使用する高純度珪石粉としては、たとえば石英
ガラス用珪石を粉砕、篩別した後、塩酸で煮沸し脱水、
乾燥して純化処理したもの等である。
ガラス用珪石を粉砕、篩別した後、塩酸で煮沸し脱水、
乾燥して純化処理したもの等である。
また、本発明に使用する高純度炭素粉としては、たとえ
ば石油コークスを粉砕、篩別した後2600〜2200
℃の温度下で塩ガスを吹きつけて純化処理したもの等で
ある。
ば石油コークスを粉砕、篩別した後2600〜2200
℃の温度下で塩ガスを吹きつけて純化処理したもの等で
ある。
さらに、本発明における高純度珪石粉と高純度炭素粉と
のね径を571gI1以下に限定した理由はこれらの粒
径が51mlを越えると、粉末状の炭化珪素が収率よく
得られないからである。
のね径を571gI1以下に限定した理由はこれらの粒
径が51mlを越えると、粉末状の炭化珪素が収率よく
得られないからである。
なお、上記珪石粉と炭素粉との配合割合は、通常珪石粉
:炭素粉とのモル比が1:3となるようにすればよい。
:炭素粉とのモル比が1:3となるようにすればよい。
また、珪石粉、炭素粉を充填した黒鉛質容器の炉内にお
ける移動速度は充填量、炉内温度等により適宜選定すれ
ばよい。
ける移動速度は充填量、炉内温度等により適宜選定すれ
ばよい。
しかして、本発明によれば高純度珪石粉と高純度炭素粉
とを黒鉛容器内に密封し、これを管状炉内に移動させる
ことにより、該珪石粉と炭素粉とを均一に加熱して反応
できるとともに著しい粒成長を起こすことのない温度に
よって処理するため生威した炭化珪素が二次汚染を誘引
する粉砕工程、攪拌工程を一切行わずにそのまま各種の
原料として使用できる高純度炭化珪素粉として得ること
ができる。
とを黒鉛容器内に密封し、これを管状炉内に移動させる
ことにより、該珪石粉と炭素粉とを均一に加熱して反応
できるとともに著しい粒成長を起こすことのない温度に
よって処理するため生威した炭化珪素が二次汚染を誘引
する粉砕工程、攪拌工程を一切行わずにそのまま各種の
原料として使用できる高純度炭化珪素粉として得ること
ができる。
嘴骨 次に
本発明の実施例を説明する。
本発明の実施例を説明する。
実施例 1
石英ガラス用珪石を粉砕、篩別した後、これを塩酸溶液
に1時間浸漬煮沸し水洗脱水、乾燥して下記第1表に示
す粒度分布、不純物含有量の珪石粉を造った。
に1時間浸漬煮沸し水洗脱水、乾燥して下記第1表に示
す粒度分布、不純物含有量の珪石粉を造った。
一方、石油コークスを粉砕、篩別した後、これを220
0’Cに加熱しつつ塩素ガスを2時間吹き付けて同第1
表に示すね度分布、不純物含有量の炭素粉を造った。
0’Cに加熱しつつ塩素ガスを2時間吹き付けて同第1
表に示すね度分布、不純物含有量の炭素粉を造った。
次いで、上記珪石粉と炭素粉とを1:3のモル比で混合
し、この混合粉を円筒状黒鉛容器(外径160m,内径
1357EJ長さ1000m)に充填して密封した後、
この容器を内径17071lIIl,発熱部の長さ20
0071gIlの黒鉛管状炉に入れ、該容器をプランジ
ャにより5 0 0 11m/ Hrの速度で移※慟さ
せ、炉内に窒素ガスを供給しつつ炉内温度を1900℃
±20℃にして容器内の珪石と炭素とを反応せしめ炭化
珪素粉を得た。
し、この混合粉を円筒状黒鉛容器(外径160m,内径
1357EJ長さ1000m)に充填して密封した後、
この容器を内径17071lIIl,発熱部の長さ20
0071gIlの黒鉛管状炉に入れ、該容器をプランジ
ャにより5 0 0 11m/ Hrの速度で移※慟さ
せ、炉内に窒素ガスを供給しつつ炉内温度を1900℃
±20℃にして容器内の珪石と炭素とを反応せしめ炭化
珪素粉を得た。
得られた炭化珪素粉の収率は91多で、その粒度分布お
よび不純物含有率を調べたところ、下記第2表の結果を
得た。
よび不純物含有率を調べたところ、下記第2表の結果を
得た。
上表より明らかな如く、本発明方法により得られた炭化
珪素は粉末状でかつ純度が高くそのまま各種の原料とし
て使用できることがわかる。
珪素は粉末状でかつ純度が高くそのまま各種の原料とし
て使用できることがわかる。
実施例 2
前記第1表に示す珪石粉、炭素粉を充填した円*水筒状
黒鉛容器の移動速度を400m/Hrとし、かつ炉内温
度を2100℃に設定した以外、前記実施例1と同様な
方法にて炭化珪素粉を得た。
黒鉛容器の移動速度を400m/Hrとし、かつ炉内温
度を2100℃に設定した以外、前記実施例1と同様な
方法にて炭化珪素粉を得た。
得られた炭化珪素粉のね度分布および不純物含有量を調
べた。
べた。
その結果を下記第3表に示す。以上詳述した如く、本発
明によれば粉末状でかつ不純物混入分布が均一な高純度
の炭化珪素を簡単かつ収率よく得ることができ、二次汚
染を起こす粉砕工程、攪拌混合工程を一切行うことなく
、そのまま半導体製造用治具、半導体製造用均熱管など
不純物の揮散を極端にきらう部材の原料として好適に利
用できる等顕著な効果を有する。
明によれば粉末状でかつ不純物混入分布が均一な高純度
の炭化珪素を簡単かつ収率よく得ることができ、二次汚
染を起こす粉砕工程、攪拌混合工程を一切行うことなく
、そのまま半導体製造用治具、半導体製造用均熱管など
不純物の揮散を極端にきらう部材の原料として好適に利
用できる等顕著な効果を有する。
Claims (1)
- 1 5m以下の粒径の高純度珪石粉と同粒径の高純度
炭素粉とを混合し、これを黒鉛製密封容器に充填した後
、この容器を管状炉に連続的に移動させ、炉内温度を1
800〜2200℃に保持して該容器内の珪石と炭素と
を反応せしめることを特徴とする高純度炭化珪素粉末の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51035472A JPS5848487B2 (ja) | 1976-03-31 | 1976-03-31 | 高純度炭化珪素粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51035472A JPS5848487B2 (ja) | 1976-03-31 | 1976-03-31 | 高純度炭化珪素粉末の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52117899A JPS52117899A (en) | 1977-10-03 |
| JPS5848487B2 true JPS5848487B2 (ja) | 1983-10-28 |
Family
ID=12442708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51035472A Expired JPS5848487B2 (ja) | 1976-03-31 | 1976-03-31 | 高純度炭化珪素粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5848487B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6060285U (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-26 | ぺんてる株式会社 | 自動芯繰出式シヤ−プペンシル |
| WO2013027790A1 (ja) * | 2011-08-24 | 2013-02-28 | 太平洋セメント株式会社 | 炭化珪素粉末及びその製造方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1169895B (it) * | 1982-10-28 | 1987-06-03 | Toshiba Ceramics Co | Elemento stampato a base di carburo di silicio per l'uso nella fabbricazione di un semiconduttore |
| FI82231C (fi) * | 1988-11-30 | 1991-02-11 | Kemira Oy | Foerfarande foer framstaellning av keramraomaterial. |
| JP2660650B2 (ja) * | 1993-04-08 | 1997-10-08 | 大平洋ランダム株式会社 | α型炭化珪素の製造方法 |
-
1976
- 1976-03-31 JP JP51035472A patent/JPS5848487B2/ja not_active Expired
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6060285U (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-26 | ぺんてる株式会社 | 自動芯繰出式シヤ−プペンシル |
| WO2013027790A1 (ja) * | 2011-08-24 | 2013-02-28 | 太平洋セメント株式会社 | 炭化珪素粉末及びその製造方法 |
| JPWO2013027790A1 (ja) * | 2011-08-24 | 2015-03-19 | 太平洋セメント株式会社 | 炭化珪素粉末及びその製造方法 |
| US9382121B2 (en) | 2011-08-24 | 2016-07-05 | Taiheiyo Cement Corporation | Silicon carbide powder and method for producing same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52117899A (en) | 1977-10-03 |
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