JPS5859986A - ビニル基を有するスピロオルソエステル化合物 - Google Patents

ビニル基を有するスピロオルソエステル化合物

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JPS5859986A
JPS5859986A JP56158626A JP15862681A JPS5859986A JP S5859986 A JPS5859986 A JP S5859986A JP 56158626 A JP56158626 A JP 56158626A JP 15862681 A JP15862681 A JP 15862681A JP S5859986 A JPS5859986 A JP S5859986A
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Tetsuji Jitsumatsu
実松 徹司
Kiyokazu Mizutani
水谷 清和
Yoshihisa Ogasawara
小笠原 誉久
Takeshi Endo
剛 遠藤
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規化合物に関するものな、本発明により提供
される化合物は前記一般式〔1〕で示される2−ビニル
−14,S−)リオキサスピロ〔4,甲〕アルカン(こ
工でmは4.5まには6の整数である)であり、さらに
具体的には2−ビニル−1,4,6−)リオキサスピロ
(44)ノナン、2−ビニル−1,4,6−)リオキサ
スピロ(4,5)デカンおよびλ−ビニルー14,6−
ドリオキサスビロ(4,6)ウンデカンであって、本発
明に係るこれらの化合物(以下化合物〔1〕と総称する
)は、例えば重合性単量体として有用である。
化合物〔1〕はl−ブチロラクトン、δ−バレロラクト
ンおよびm−カプロラクトンから選ばれるラクトン類と
ブタジェンモノオキシドとの付加反応によって製造する
ことができる。この反応式を示すと以下のごとくなる。
(こ\でtは3.41丸は5の整数) 化合物〔1〕の製造に際しては、ブタジェンモノオキシ
ド1モルに対して好ましくはラクトン類1モル以上さら
に好ましく#′i、12〜2モルのラクトン過剰で反応
させるのが適当で、これらを例えば塩化メチレンやテト
ラヒドロフラン等のごとき溶剤中で、酸例えばBF3・
at、018nCL4、TiCz4、FeCj、等のご
ときルイス。
酸を触媒として、反応させることによシ、化合物〔1〕
が合成される。
一般に反応温度は特に制限はないが、0℃〜60°0ゲ
で行表う。望ましい製造方法の一例は、ラクトン類とは
ぼ等重量の溶媒とを反応器に仕込み、液温を所定温度に
維持しつ\、所要量の通常はラクトンと溶媒からなる溶
液に対して01〜3重量%の触媒を添加し、続いてブタ
ジェンモノオキシドを単独でf走は等重量程度までの溶
媒との溶液として滴下する方法である。
反応の進行程度は反応液を例えばガスクロマトグラフ(
GCと略記する)または液体クロマトグラフ、(HLC
と略記する)で分析することによって容易に知ることが
できる。所要反応時間は一般に3時間前後で、5〜6時
間もかけれは充分でl)、反応終了時には反応液にアル
カリを加えて酸触媒を中和する。
反応液からの化合物〔1〕の分離取得はっぎのように行
なわれる。例えば反応液を氷水にょシ冷却しながら、こ
れにアルカリ水溶液例えば槽水酸化ナトリウム水溶液を
添加し、攪拌混合後、水層と有機層に分別す4゜有機層
中の未反応ラクトン化合物がはソ零になるまで上記操作
を繰り返した後、有機層を10%N a Cl  水溶
液で洗浄し、次に硫酸マグネシウムにより有機層を脱水
した後、まず常圧蒸留にょシ低沸点物を除去し、残渣を
減圧蒸留することにょυ、化合物〔1〕が取得される。
スピロオルソエステル化合物のカチオン重合に関しては
、Journal  of Macromole−cu
lar  5cience Chemistry、A9
 (5)。
849〜865 (1975)などに記載されているが
、スピロオルソエステル化合物のカチオン重合について
今までに知られているのは下記化合eimoみである(
Journal  of Polym−er−8cie
nce  Polymer  Letters昭5$−
45481号公報など)oしかしながら下記化合物は、
ラジカル重合においてもスピロオルソエステル環の開環
が起きる性質を有している・(mは3〜5の整数) こnK対して本発明者らは鋭意研究の結果、カチオン重
合するのみならず、スピロオルソエステル環の開環を起
さずにラジカル重合するという。
上記化合物とは異質の特性を具備する化合物〔1〕を見
出したのである◎さらに化合物〔1〕は重合時の体積収
縮が非常に小さい特長を4持っている。
化合物〔1〕は一般に市販されているブタジェンモノオ
キシドとラクトン類との付加反応により容易に合成でき
、簡単な工程で製造することが可能であるという工業的
利点を有する。
化合物〔1〕の重合反応は次のように理解される9ラジ
力ル重合: カチオン重合: /’/W−OHOH 化合峻〔1〕はラジカル]1合翔始剤にょクラジヵ比重
合しその際、上記反応式〔2〕K示されるごとく、末端
ビニル基により重合が進行し、スピロオルソエステル環
は保持される0オた。化合物〔1〕はカチオン重合開始
剤によりカチオン重合しその際、上記反応式〔3〕K示
されるごとく、スピロオルソエステル環の開環が起り、
エステル結合が生成し、粘稠なポリマーを与える。
上述の通り1本発明の化合物〔1〕はカチオン重合する
のみならず、スピロオルソエステル環を保持したままラ
ジカル重合することができ、また重合時の体積収縮が小
さい特長を有する。
化合物〔1〕はラジカル重合性の官能基であるビニル基
と、カチオン重合性の官能基である′スピロオルソエス
テル基の両基を1分子中に有する新規な化合物であ#P
%従って彼栗橋用モノマーとしても有用である。
従来のラジカル重合性のモノマーあるいはカチオン重合
性のモノマーは下表−1に示すように重合時非常に大き
な体積収縮を伴う0 表−1従来上ツマ−の重合時の体積収縮率の例重合時の
体積収縮力;大きいと1例えば成形材料として使用した
場合に寸法精度がでないとか、注型材料として利用した
場合にはうめこみ物に収縮によるひずみがかがるとか、
型との接着力の低下や隙間が生じるなどの問題がある。
また、m料として使用した場合、内部ひずみによる塗板
との密着性の低下やそりがおこるとか、接着剤として使
用した場合、内部ひずみによる接着力の低下やそり、変
形などの使用上の問題を生ずる。
これに対して化合物〔1〕をラジカル重合触媒によ炒重
合させた時の体積収縮率を求めると約40%であり、ま
九カチオン重合時の体積収縮率は約5.5%であって、
一般のラジカル重合性ビニルモノマーやカチオン重合性
のモノマーに比較して非常に小さいことが確認された〇 ここで、体積収縮率(%)は、(1−(化合物〔1〕の
比重/重合体の比重))X100で表わされる。
上述のように本発明の化合物〔1〕は容易かつ安価に製
造することができ、しかもラジカル重合をよびカチオン
重合のいずれの方法によっても重合させることが可能で
あり、しかも重合時の体積収縮率が非常に小さいという
特長を持っている。
従って本発明の化合物〔1〕は、成形材料、複合材料、
接着剤、注型材料、塗料などに使用して極めて有用な化
合物である。
化合物〔1〕のラジカル1合は1通常のラジカル重合手
段、例えば紫外線、赤外線、熱、電子線又はマイクロt
llKより行なうことができる。
紫外線ラジカル重合では1通常光開始剤が用いられる。
好適に利用できる光開始剤としては、アセトフェノン、
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2
.2−ジェトキシアセトフェノン 41−イソプロピル
−2−ヒドロキシ−2−メチルブロビオフエノン、2−
ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4.4’−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾフェノ
ン。
)fルー(0−ベンゾイル)−ベンゾニー)=1−フェ
ニル−1,2−プロパンジオンー2−(。
−エトキシカルボニル)−オキシム、1−フェニル−1
,2−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)−オキ
シム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル
、ベンゾインイソブチJk :L −fル、ベンゾイン
オクチルエーテル、ベンジル又はジアセチル等のカルボ
ニル化合物iメチルアントラキノン、クロロアントラキ
ノン、クロロチオキサ7トン、2−メチルチオキサント
ン又は2−i−プロピルチオキサントン等のアントラキ
ノン又はキサントン誘導体;ジフェニルスルフィド、ジ
フェニルジスルフィド又はジチオカーノくメート等の硫
黄化合物;d−クロロメチルナフタレン、アントラセン
等があるO 赤外線、熱、マイクロ波による重合に際しては。
分解によってラジカルを生成し得るものであればいずれ
のラジカル開始剤の使用も可能である。例えば、ジーt
ert−ブチルパーオキシド、2.5−ジメチル−2,
5−ジ(tert−メチレンく−オキシ)ヘギサン、t
ert−ブチルノ1イドロノ(−オキシド、tart−
メチレン(−オキシベンゾエート等の有機過酸化物;2
,2’−アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合瞼;
過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等の過酸塩が使用
できるO又、電子線などの電離性放射線による重合は通
常無触媒系で行なわれるO 触媒を用いる場合その使用量は、一般に単量体の合計量
に基づきα01〜10wt%、好ましくは0.1〜5w
t%の範囲である。
ラジカル重合は、紫外線あるいは電離性放射線の照射に
よる場合は常温でも進むが、その他の場合は、加温ない
し加熱状態で円滑に進行する。重合時に溶媒を使用する
場合、好ましく用いられる溶媒としては例えばトルエン
、キシレン、酢酸エチル%N、N−ジメチルホルムアミ
ド、クロロホルム、ジオキサン等があげられるot7を
化合物〔1〕のカチオン重合は一般によく知られている
方法、すなわちカチオン重合開始剤の存在下例えば紫外
線、赤外線、熱またはマイクロ波などによって行なう。
紫外線照射の場合のカチオン重合触媒として。
φ−NUN −PFj、φ−NヨしBP番などの芳香族
ジアゾニウム塩;φ−I−φ・BP、  等の芳゛香族
ハロニCH,; 等の周期律表第■1族元素の芳香族オニウム塩;。
VIA族元素の芳香族オニウム塩; 表第1a−”ia族元素のジカルボニル錯化合物が使用
されうる。
ま九、その他のカチオン重合触媒としては、例えばBF
a 、 Feels 、 8nO1a 、 5bFa 
、 T iotmなトノルイスll蓚BFsOBt禦、
 BFs−アニリンコンプレックス勢のごときルイス酸
と0.8.Nなどを有する化合物との配位化合物;ルイ
ス酸のオキンニウム塩、ジアゾニウム塩、カルボニウム
塩;ハロゲン化合物、混合ノ・ロゲン化合物または過ハ
ロゲ/酸誘導体などがあげられるO 触媒の使用量は一般に重合しようとする単量体に対し、
0.001〜10wt%好fl、<u[Llから5wt
%の範囲が好適である@重合温度に関する制限は特にな
いが、通常常温〜200℃で行なわれる。
重合時に溶媒を使用する場合は、生長カチオンと反応し
てその活性を低下させない化合物を選ぶことが望ましい
。使用に適した溶媒としては、ヘキサン、オクタン等の
脂肪族炭化水素;トルエン。
キシレン等の芳香族員化水素多塩化メチレン。
1.1−ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素その他
がある。
実施例1 攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートトン74
f(α65モル)及び塩化メチレン150mjを仕込み
、氷水で5“0に冷却した0躯液を攪拌しながらBP、
・BtwO2mtを添加した0ブタジエンモノオキシド
551 (0,5モル)及び塩化メチレン100m/を
滴下ロートに仕込み、釜液を攪拌しながら約15時間か
けてブタジェンモノオキシドの塩化メチレン溶液を滴下
した@なお滴下の間中蓋液は氷水で冷却した。
その後、室温で5時間攪拌した後、トリエチルアミン5
mlを加えて触媒を中和した。
次に未反応・−カプロラクトンを除去するため反応液を
氷水で冷却し、攪拌しながら、10%層を分離した◎分
離した有機層に上記10%N a OH水溶液による洗
浄操作を更に2回繰返した後、有機層を10%Mail
水溶液300mlで洗浄後、硫酸マグネシウムで有機層
を脱水した0次に有機層を常圧単蒸留に付して脱溶剤後
、減圧蒸留し、沸点72℃/15鴎Hgにおいて、2−
ビニル−1,4,6−)リオキサスビロ(4,6)ウン
デカン46.91(収y$51%)を得た。
その物性値は下記の通りである0 ・比重 :to、60  (25℃) ・沸点ニア2゛O/15謔Hg 、IR(赤外吸収スペクトル): 16451a−″(−0H=OH禦) (第1図参照)
1125cm ’、1071070c’jO−0−0)
955e1m−” ・NMR(核磁気共鳴スペクトル)(ODOzI中)(
第2図参照) J (p pm ) 4.9 s〜5.9 (sH,C
HI−OH−)4.2〜4.7 (I H,−0H−0
−)5.6〜4.2 (4)L−CH,−0−、−0ル
ー0−)18〜2.2(2)L恥和ル) / 13〜1.8(6H,−+oルヤ) 実施例2 クトン60.2 F (α7モル)及び塩化メチレン1
00mjを仕込み1滴下ロートにブタジェンモノオキシ
ド35 f (0,5モル)及び塩化メチレン 。
70m1を仕込む。釜液を氷水で10゛0に冷却後。
約1時間かけて、ブタジェンモノオキシド溶液を滴下し
た0なお滴下の間薔液は氷水で冷却し、約10℃に保持
した0滴下完了後室温で1時間攪拌1、*後、 )リエ
チルアミンt5rnlを加え触媒を中和し九0法に反応
液を氷水で冷却し、攪拌しながら10%NaOH水溶液
100mjを徐々に加え、添チロラクトンがなくなるま
で上記アルカリ洗浄を繰返し声後、10%Na1l水溶
液200mjで有機層を洗浄した。次Kit駿マグネシ
ウムで脱水した有機層を常圧単蒸留に付すことによって
脱溶剤した後、減圧蒸留して沸点70℃/ 2 W H
gにおいて2−ビニル−1,4,6−ドリオキサスビロ
(4,4)ノナン17.91 (収率23%)を得たO
その生成物の質量スペクトル(Go−M8)分析よa、
親ピークは(70ev) m / e = 156であ
つ友・ fたその物性値は以下のようであるO ・沸点ニア0℃/ 21W Hg ・屈折率;n;’−1457 ・IR; 1645cm−”  (CH,−0H−)。
1130Cm  、1050cm  、9522  (
0−0−0)、NMR(ODOh中)−・−・・−・−
・−(83図参照)a (1)I)m ) i 5.5
〜6.2 (0−OH−)5.0〜5.5 (OH,−
0−) 。
4.3〜4.a(−OH−0−) 5.4〜4.5(−CH諺−0−) 参考例1 実施例1で得九2−ビニル−1,4,<S−)リオキサ
スビロ(4,6)ウンデカンに重合触媒としてジターシ
ャリ−ブチルパーオキサイド3モル%を添加し、封管中
で120℃において40時間反応させた。反応物を塩化
メチレンに溶解し、ついで、n−ヘキサン中にそそいで
沈殿させることにより重曾体を精製した。収率的40%
で白色粉末状重合物を得た@ HLO分析により1重合物の重量平均分子量は6700
であった。
また1重合物のIRスペクトルは第5図に示すとお砂で
あり、1645Ca  のピークがほぼ消失し、955
cIa−’、1125cm−’、 1070cm−’(
0−0−0)のピークは残存している・ NMRxベクトルによれば# (1)pm)−4,95
〜5.9(OH,−0H−)  のピークが消失してい
た。
この重合体の比重は、1,186(25℃)であり、こ
の値より算出される重合の際の体積収縮率は106%で
ある。
参考例2 2−ビニル−1,4,S−トリオキサスピロ(4,,6
)ランチカンにベンゾインエチルエーテル1wt%を加
え、マイラーフィルムの間にはさんで、30W/=−オ
ゾンレスタイプ散光型高圧水銀灯(松下電器産業(8)
製高圧水銀灯H−2000TQ)を用い、20mの照射
距離でコンベア速度10m/分で、紫外線を20回照射
した0 被照射物のHLO分析により重合物の主成が誌められた
◎ 参考例3       ■開CJ58−5998ti 
(6)2−ビニル−14,6−トリオキサスピロ(4,
6)つ/デカンに重合触媒としてBP、・gt、0を3
モル%添加し、80℃で4時間重合した。その結果、黒
力)つ色の粘稠な重合物及び少量のゲル化物が生成した
。これらのうちの重合物の重量平均分子量は、HLC分
析によると約7.600であった。
この重合物のIRスペクトル分析では、1735e腫″
(−CO−O−)に強いピークが認められ、1645 
ca+ ’ (−CH””CHt)のピークは残存して
いた。また、NMRスペクトル分析では、acp9m)
〜4.95〜5.9(−CH=CH,)のピークが残存
し、1 J (p pm ) 〜4.0〜4.2 (−CH,−
0−C−)のピークが生成している。
上記のとおり、カチオン重合による重合物ではスピロオ
ルソエステル基が開環し、エステル基、メチレン基が生
成している。この重合物の比重は1089(25℃)で
あり、この値より算出される重合の際の体積収縮はわず
か2.7%である。
参考例4 参考例1で得た重合物1fを1.1−ジクロロエタン2
0m/に完全に溶解させた後、BF、−E tρ25m
gを加え、70℃で8時間反応させた。生成物は、1.
1−ジクロロエタンに不溶のゲル化物であつ九@真空乾
燥により低沸点物を除去し精製したゲル化物のIRスペ
クトル分析でti、1755cs〆(−000−)K強
いピークが生成している。
このゲル化物の比重はt165(251であり、重合に
より18%膨張していた。
【図面の簡単な説明】
第1図#i2−ビニルー1.4.6− )リオキサスビ
ロ[4,6]ウンデカンの赤外吸収スペクトル図。 第2図は、同化合物の核皺気共鳴スペクトル図、第3図
は2−ビニル−1,4,6−トリオキサスピロ(4,4
)ノナンの一核磁気共鳴スベクトル図である。 特許出願人の名称 東亜盆成化学工業株式会社 第1頁の続き 0発 明 者 水谷清和 名古屋市港区船見町1−1束亜 合成化学工業株式会社研究所内 0発 明 者 小笠原誉久 名古屋市港区船見町1−1束亜 合成化学工業株式会社研究所内 0発 明 者 遠藤剛 横浜市旭区さちが丘143−13 手続補正書 昭和56年12月タ日 特許庁長官 島 1)春 樹 殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第158626号 2、発明の名称 ビニル基を有するスピロオルソエステル化合物3、補正
をする者 事件との関係   特許出願人 住所  東京都港区西新橋1丁目14番1号明細書の発
明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (1)  明細書筒9頁6行目にr6.o%Jとあるを
rlo、6チ」と補正する。 (2)  明細書第9頁7行2.禰1にr5.5%Jと
あるをr2.796Jと補正する。 (3)明細書落18頁6〜10行目に r(C−CH−) (C山冨C−) (−CH−0−)      とあるを(−C山−〇−
) \ (2H,CH!冨C−) (IH,−CH−0−)     と補正する。 以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 t 下記一般式で示されるスピロオルソエステル化合物
    。 上式において、lはへ4または5の整数である。
JP56158626A 1981-10-07 1981-10-07 ビニル基を有するスピロオルソエステル化合物 Granted JPS5859986A (ja)

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