JPS5859997A - ２−アミノ−６−カルバモイルメチルプリンヌクレオシド - Google Patents
２−アミノ−６−カルバモイルメチルプリンヌクレオシドInfo
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- JPS5859997A JPS5859997A JP15768981A JP15768981A JPS5859997A JP S5859997 A JPS5859997 A JP S5859997A JP 15768981 A JP15768981 A JP 15768981A JP 15768981 A JP15768981 A JP 15768981A JP S5859997 A JPS5859997 A JP S5859997A
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/60—Sugars; Derivatives thereof
- A61K8/606—Nucleosides; Nucleotides; Nucleic acids
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/74—Biological properties of particular ingredients
- A61K2800/78—Enzyme modulators, e.g. Enzyme agonists
- A61K2800/782—Enzyme inhibitors; Enzyme antagonists
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規化合物の２−アミノ−６−カルバモイル
メチルプリンヌクレオシドおよびその製進法に関するも
のである。
メチルプリンヌクレオシドおよびその製進法に関するも
のである。
本発明の目的化合物である２−アミノ−６−カルバモイ
ルメチルプリンヌクレオシドは次の一般式（１）で表わ
される化合物である。
ルメチルプリンヌクレオシドは次の一般式（１）で表わ
される化合物である。
１
該式中、Ｒ１は保護基を有することあるリボース残基、
２−デオキシリボーズ残基、８−デオキシリボース残基
、アラビノース残基またはキシロース残基を示す。本発
明化合物は文献未記載の新規化合物であり、糖残基がリ
ボース残基であるものなどはアデニルデアミナーゼ阻害
活性を有し、酵素阻害剤として有用であるばかりでなく
、他の種々の生理活性をもつことが期待され、その生理
活性によって生化学研究用試薬、医薬としての有用性が
開発される可能性がある。また、本発明化合物は紫外線
吸収剤としても有用である。
２−デオキシリボーズ残基、８−デオキシリボース残基
、アラビノース残基またはキシロース残基を示す。本発
明化合物は文献未記載の新規化合物であり、糖残基がリ
ボース残基であるものなどはアデニルデアミナーゼ阻害
活性を有し、酵素阻害剤として有用であるばかりでなく
、他の種々の生理活性をもつことが期待され、その生理
活性によって生化学研究用試薬、医薬としての有用性が
開発される可能性がある。また、本発明化合物は紫外線
吸収剤としても有用である。
本発明化合物は、一般式（１）
〔式中、Ｒ１は保護基を有することあるリボース残基、
２−デオキシリボース残基、８−デオキシリボース残基
、アラビノース残Ｘ、＋１シロース残基を示し、Ｒ２は
低級アルキル基、Ｒ８は水素または保護基を示すさ〕で
表わされる２−アミノ−６−アルコキシカルボニルメチ
ルプリンヌクレオシドを原料化合物として、これをメタ
ノ−′ルーアンモニア処理することにより合成すること
ができる。
２−デオキシリボース残基、８−デオキシリボース残基
、アラビノース残Ｘ、＋１シロース残基を示し、Ｒ２は
低級アルキル基、Ｒ８は水素または保護基を示すさ〕で
表わされる２−アミノ−６−アルコキシカルボニルメチ
ルプリンヌクレオシドを原料化合物として、これをメタ
ノ−′ルーアンモニア処理することにより合成すること
ができる。
原料化合物の一般式り厘〕中におけるＲ２の低級アルキ
ル基とは、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどを具
体的に意味する。また、Ｒ１および／またはＲ８の保護
基としてはヌクレオシド化学分野において使用されうる
ちのであればよく、たとえば、アセチル、ブチリル、ベ
ンゾイルなどのアシル基、インプロピリデン−１，エチ
リデンなどのアルキリデン基、ベンジリデンなどのアル
アルキリデン基、トリチル、ベンジルなどのアルアルキ
ル基、メトキシメチレン、エトキシメチレン、エトキシ
エチレンなどのアルコキシアルキリデン基、テトラヒド
ロはラニル基などが例示できる。
ル基とは、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどを具
体的に意味する。また、Ｒ１および／またはＲ８の保護
基としてはヌクレオシド化学分野において使用されうる
ちのであればよく、たとえば、アセチル、ブチリル、ベ
ンゾイルなどのアシル基、インプロピリデン−１，エチ
リデンなどのアルキリデン基、ベンジリデンなどのアル
アルキリデン基、トリチル、ベンジルなどのアルアルキ
ル基、メトキシメチレン、エトキシメチレン、エトキシ
エチレンなどのアルコキシアルキリデン基、テトラヒド
ロはラニル基などが例示できる。
このような原料化合物も新規化合物であるが、これは、
下記の一般式〔厘〕で表わされる２−アミノ−６−アル
キルまたはアレーンスルホニルプリンヌクレオシドと、
下記一般式〔■〕で表ゎされるアセト酢酸アルキルミス
チルとを塩基の存在下で反応させる方法により製造する
ことができる。
下記の一般式〔厘〕で表わされる２−アミノ−６−アル
キルまたはアレーンスルホニルプリンヌクレオシドと、
下記一般式〔■〕で表ゎされるアセト酢酸アルキルミス
チルとを塩基の存在下で反応させる方法により製造する
ことができる。
ｌ
ＣＨ３Ｃ０ＣＨ２ＧＯＯＲ２（ＩＩ’ ）一般式麿〔厘
〕中のＲ４は、アルキル基（たとえば、メチル、エチル
、ブチルなど）またはアリール基（たとえば、４−メチ
ルフェニル、４−ブロモフェニル、２，４．６−ドリメ
チルフエニルナト）を示し、一般式（ＩＶ）中のＲ２は
一般式（，１）のものと同意義であ、る。塩基は、アセ
ト酢酸ア、ルキルエステルカラフロトンを引き抜いてカ
ルバニオンを生成させる目的で用いられ、その具体例と
しては、水素化ナトリウム、ｎ−ブチルカリウム、フェ
ニルカリウム、ｎ−ブチルリチウム、フェニルナトリウ
ム、カリウムアミド、ナトリウムアミドなどが挙げられ
る。
〕中のＲ４は、アルキル基（たとえば、メチル、エチル
、ブチルなど）またはアリール基（たとえば、４−メチ
ルフェニル、４−ブロモフェニル、２，４．６−ドリメ
チルフエニルナト）を示し、一般式（ＩＶ）中のＲ２は
一般式（，１）のものと同意義であ、る。塩基は、アセ
ト酢酸ア、ルキルエステルカラフロトンを引き抜いてカ
ルバニオンを生成させる目的で用いられ、その具体例と
しては、水素化ナトリウム、ｎ−ブチルカリウム、フェ
ニルカリウム、ｎ−ブチルリチウム、フェニルナトリウ
ム、カリウムアミド、ナトリウムアミドなどが挙げられ
る。
原料合成反応は一１通常、非プロトン性極性溶媒（たと
えば、テトラヒドロフラン、ヘキサメチルホスホロアミ
ド、ジメ゛チルスルポキシド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジメトキシエタン、ジオキサン
、アセトニトリルなど）中で、室温〜溶媒還流温度の加
熱条件下で行われる。
えば、テトラヒドロフラン、ヘキサメチルホスホロアミ
ド、ジメ゛チルスルポキシド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジメトキシエタン、ジオキサン
、アセトニトリルなど）中で、室温〜溶媒還流温度の加
熱条件下で行われる。
本発明方法におけるメタノール−アンモニア処理は、そ
の条件に特に限定はなく、たとえば室温下で数十時間反
応させればよい。
の条件に特に限定はなく、たとえば室温下で数十時間反
応させればよい。
本発明イリ合物の反応液がらの精製単離は、ヌク・レオ
シト化学分野で利用されうる常法によればよい。たとえ
ば、吸着クロマトグラフィー、再結晶なとを適宜に応用
して実施すればよい。
シト化学分野で利用されうる常法によればよい。たとえ
ば、吸着クロマトグラフィー、再結晶なとを適宜に応用
して実施すればよい。
以下、本発明方法における原料化合物の合成例を示す参
考例および本発明化合物の合成例を示す実施例を挙げて
、本発明のより一具体的な説明とする。
考例および本発明化合物の合成例を示す実施例を挙げて
、本発明のより一具体的な説明とする。
参考例
５０９６水素化ナトリウム６０８ｇのテトラヒドロフラ
ン７０ｇ＋／懸濁液に、アセト酢酸エチルエステル２４
．８９とテトラヒドロフラン１５ｇ＋／の混液を滴下し
、透明な溶液とした。この溶液を、０（６）−パラトル
エンスルホニル−Ｎ＋２１． ＯＦ２．Ｏｆ８’ｌ。
ン７０ｇ＋／懸濁液に、アセト酢酸エチルエステル２４
．８９とテトラヒドロフラン１５ｇ＋／の混液を滴下し
、透明な溶液とした。この溶液を、０（６）−パラトル
エンスルホニル−Ｎ＋２１． ＯＦ２．Ｏｆ８’ｌ。
Ｏｉ５’ｌ−テトラアセチルグアノシン８８５９をテト
ラヒドロフラン２９０ ｍｌに溶解させた液に加え、２
．５時間加熱還流した。
ラヒドロフラン２９０ ｍｌに溶解させた液に加え、２
．５時間加熱還流した。
反応液を冷却後、酢酸で中和し、減圧上濃縮乾固した。
残渣を水とクロロホルムに分配し、クロロホルム層を硫
酸マグネシウム８て乾燥した後、シリカゲル１．５ ｋ
Ｌｉのカラムに吸着させ、クロロホルム−メタノール（
９９：１）で溶出し、溶出液を濃縮乾固して、２−アセ
トアミド−６−ニトキンカルボニルメチルー９− （２
，８，５−）リー〇〜アセチルーβ−Ｄ−リボフラノシ
ル）プリン２０ｇを得た（収率６ｏ％）。
酸マグネシウム８て乾燥した後、シリカゲル１．５ ｋ
Ｌｉのカラムに吸着させ、クロロホルム−メタノール（
９９：１）で溶出し、溶出液を濃縮乾固して、２−アセ
トアミド−６−ニトキンカルボニルメチルー９− （２
，８，５−）リー〇〜アセチルーβ−Ｄ−リボフラノシ
ル）プリン２０ｇを得た（収率６ｏ％）。
紫外線吸収スペクトル
洲２Ｈ８２５ｎｍ、 ２８９ ｎｍ
質量分析スペクトル ｍｌｅ ５１２ （Ｍ＋）核磁
気共鳴スペクトル（ＣＤＣｌ２）８９９ｍ８、８５
（Ｉ Ｈ，、ｂ、ｓ、 ＮＨ）８．０４ （ＩＨ，
Ｓ、８−Ｈ） ６．１９ （ＩＨ，ｄ、１’−Ｈ） ５、８６ （Ｉ Ｈ，ｍ、 ２’−Ｈ）５゜７５
（ＩＨ，ｍ、８’−Ｈ） ４．４２ （８Ｈ，ｍ、４’−Ｈ，５′−Ｈ）４．１
２ （２Ｈ，ｓ、６−ＣＨ２−）４．１８ （２Ｈ
，ｇ＋ −０ＣＨ２ＣＨ８）１、２６ （８Ｈ、
ｔ 、 −ＯＣＨ２ＣＨｇ）実施例 ２−アセトアミド−６−ニトキシカルポニルメチルー９
− （２，８，５−）ジ−０−アセチルーβ−Ｄ−リボ
フラ／シル）プリン１．２７Ｍを無水飽和アンモニアメ
タノール１００ ｍｌに溶解させた後、室温で８日間放
置した。
気共鳴スペクトル（ＣＤＣｌ２）８９９ｍ８、８５
（Ｉ Ｈ，、ｂ、ｓ、 ＮＨ）８．０４ （ＩＨ，
Ｓ、８−Ｈ） ６．１９ （ＩＨ，ｄ、１’−Ｈ） ５、８６ （Ｉ Ｈ，ｍ、 ２’−Ｈ）５゜７５
（ＩＨ，ｍ、８’−Ｈ） ４．４２ （８Ｈ，ｍ、４’−Ｈ，５′−Ｈ）４．１
２ （２Ｈ，ｓ、６−ＣＨ２−）４．１８ （２Ｈ
，ｇ＋ −０ＣＨ２ＣＨ８）１、２６ （８Ｈ、
ｔ 、 −ＯＣＨ２ＣＨｇ）実施例 ２−アセトアミド−６−ニトキシカルポニルメチルー９
− （２，８，５−）ジ−０−アセチルーβ−Ｄ−リボ
フラ／シル）プリン１．２７Ｍを無水飽和アンモニアメ
タノール１００ ｍｌに溶解させた後、室温で８日間放
置した。
反応液を濃縮乾固し、残渣を水がら再結晶して２−アミ
ノ−６−カルパモイルメチルー９−β−Ｄ−リボフラノ
シルプリ′ンの針状結晶６０７■を得た（収率７７．５
９６）。
ノ−６−カルパモイルメチルー９−β−Ｄ−リボフラノ
シルプリ′ンの針状結晶６０７■を得た（収率７７．５
９６）。
融点 １８９°Ｃ
元素分析 Ｃｌ２Ｈ１６Ｎ６０５−１／２ Ｈ２Ｏ
トｔ、 −ｒ計算値（ｆｌ ： Ｃ，４８，２４；Ｈ，
５，１４；Ｎ、 ２６．４０実験値ｍ ： Ｃ，４８，
５８；Ｉ（、４，９５； Ｎ、 ２５．８５紫外線吸収
スペクトル ｎｍ λＷ雲８０６．２４４．２２１ λ０．、ｌＮ−ＨＣｌ ３．７．２５０（ｓｈ）、２２
６λ０゛１Ｎ″ＮａＯＨ３ｏ５．２４４ （ｓｈ）、２
２７ａｘ 核磁気共鳴ｘ ヘクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６） ａ ｐｐ
ｍ８．１８ （ＩＨ，Ｓ、８−Ｈ） ７．４５．６．９５ （２Ｈ、ｂ、ｓ、 ６−ＣＨ２
ＣＯＮＨ２）５．８０ （ＩＨ，ｄ、１’−Ｈ）
トｔ、 −ｒ計算値（ｆｌ ： Ｃ，４８，２４；Ｈ，
５，１４；Ｎ、 ２６．４０実験値ｍ ： Ｃ，４８，
５８；Ｉ（、４，９５； Ｎ、 ２５．８５紫外線吸収
スペクトル ｎｍ λＷ雲８０６．２４４．２２１ λ０．、ｌＮ−ＨＣｌ ３．７．２５０（ｓｈ）、２２
６λ０゛１Ｎ″ＮａＯＨ３ｏ５．２４４ （ｓｈ）、２
２７ａｘ 核磁気共鳴ｘ ヘクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６） ａ ｐｐ
ｍ８．１８ （ＩＨ，Ｓ、８−Ｈ） ７．４５．６．９５ （２Ｈ、ｂ、ｓ、 ６−ＣＨ２
ＣＯＮＨ２）５．８０ （ＩＨ，ｄ、１’−Ｈ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）一般式（１） ス残基、キシロース残基を示す。ノて表わされる２−ア
ミノ−６−カルバモイルメチルプリンヌクレオシド。 ２）一般式（１） 〔式中、Ｒ１は保護基を有することあるリボース残基、
２−デオキシリボース残基、８−デオキシリボース残基
、アラビノース残Ｍ、キシロース残基を示し、Ｒ２は低
級アルキル基、Ｒ８は水素または保護基を示す。〕で表
わされる２−アミノ−６−アルコキシカルボニルメチル
プリンヌクレオシドをメタノール−アンモニアで処理し
て一般式（１） ′〔式中、Ｒ１は前記と同意義である。〕で表わされる
２−アミノ−６−カルバモイルメチルプリンヌクレオシ
ドを合成することを特徴とする２〜アミノ−６−カルバ
モイルメチルプリンヌクレオシドの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15768981A JPS5859997A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | ２−アミノ−６−カルバモイルメチルプリンヌクレオシド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15768981A JPS5859997A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | ２−アミノ−６−カルバモイルメチルプリンヌクレオシド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5859997A true JPS5859997A (ja) | 1983-04-09 |
| JPH0134235B2 JPH0134235B2 (ja) | 1989-07-18 |
Family
ID=15655228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15768981A Granted JPS5859997A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | ２−アミノ−６−カルバモイルメチルプリンヌクレオシド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5859997A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5154585A (en) * | 1974-11-05 | 1976-05-13 | Tooru Ueda | n66 karubamoiruadenoshinno seizoho |
-
1981
- 1981-10-02 JP JP15768981A patent/JPS5859997A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5154585A (en) * | 1974-11-05 | 1976-05-13 | Tooru Ueda | n66 karubamoiruadenoshinno seizoho |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0134235B2 (ja) | 1989-07-18 |
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