JPS5864277A - 非酸化物セラミツクスの製造法 - Google Patents

非酸化物セラミツクスの製造法

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JPS5864277A
JPS5864277A JP56163277A JP16327781A JPS5864277A JP S5864277 A JPS5864277 A JP S5864277A JP 56163277 A JP56163277 A JP 56163277A JP 16327781 A JP16327781 A JP 16327781A JP S5864277 A JPS5864277 A JP S5864277A
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JP
Japan
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sintering
oxide ceramics
atmosphere
temperature
oxide
Prior art date
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Pending
Application number
JP56163277A
Other languages
English (en)
Inventor
樋口 松夫
塚田 博
正明 本多
西本 達也
栄治 上條
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高温強度が高く、高密度を有する非酸化物すな
わち窒化物中炭化物のセラミックス焼結体の製造法に胸
するものである。
蝋近、−にラミックス材料%に耐熱性材料としてのセラ
ミックスの開発が盛んに行なわれており、なかでも高温
におiて安定な耐熱性物質である共有結合性化合物、%
に窒化珪lA(SjmNa )、炭化珪素(SiC)が
非常にすぐれた材料であることが知られている。
一般にセラミックスは、原料セラミックス粉末t″成形
焼結して使用されるものであるが% st、N、、Si
Cなどの場合は、一般の酸化物セラミックスと菓な夛、
難焼結性物質であるため、単独組成たとえばSigN、
粉末のみを焼結しても緻密な焼結体を得ることは国難で
ある。
コO九kb SL*Na粉末の場合などにtit Mg
O、AzgOs、Yaks s Ce01、BeOなど
の酸化物粉末を焼結助剤として添加して焼結することが
行なわれている。
焼結助剤を加えた粉末を使用して通常行なわれているプ
レス成形をして真空あるいは常圧で加熱焼結する方法は
、焼結コストが低く工業的に用いることができるが、I
  SigN、の場合、焼結しても孔はそのまt*存す
るのでこの方法では為密度な焼結体を得ることができな
い。
これに対し、高温下で加圧しながら焼結するホットプレ
ス法によれば、より緻密な焼結体を得ることができる。
しかしながら、この焼結体は高温において強度低下が生
ずる欠点がある。
こ(DA温における!Ml&低下は、焼結助剤の添加に
よシSi、N4の粉末界面に低一点物質が生成すること
Kよるものであると考えられ、焼結助剤を使用する場合
は不可逆である。
さらに焼結助剤の混合割合を減少し、あるいは焼結助剤
を添加せずに為圧ガス雰囲気中で焼結し九り、爆@i成
皺などで験木に瞬間的に高圧を加えて粉砕したのち、焼
結するなどの方法が試みられているが、何れの方法も焼
結コストが^く、また^温強度の低下楓象が残る欠点が
あり、工業的な方法として成功してい1に一0上記の間
1111asicの場合にも−j41である。
本発明者ら嬬St@N4看末、 SiC粉末について緻
密で為温強度の高−焼結体を得るべく種々検討を行った
結果、非酸化物セラミックス粉末の成形体會常l11i
lI&飴に先立って、非酸化物セラミックスの敵化楓象
によ)生じている酸化層を除去するためKH,、GOな
どの還元性ガスの減圧雰囲気下、あるいは紙圧#−気と
真空の交互1回以上の繰返し、あるいはまた上記還元性
ガスのプラズマ雰囲気下などで活性化処理を施したのち
、直ちに常圧焼結する方法をさきに見出し丸。
しかしながら、この方法は、非酸化物セラミックス粉末
の成形体の焼結前に上記のような活性此処1lt−施し
ても焼結を常圧で行うため、焼結体0緻書化が進行して
焼結体特性としての曲は強度も高強度のものが得られる
ものの、焼結体密度が農kl![K達することが難しく
、従って曲げ!ilfの′バラツキが大きいという欠点
を有していた。
そこで本発明者らはこの点の解消のためにさらに検討を
重ねえ結果、非酸化物セラミックス粉末の成形体に上述
のような活性化処理を施したのち焼結体を得るのに加圧
焼結を行うならば、理論密度で−は強さのバラツキの小
さい焼結体が得られることを見出しこの発明に至ったの
である。
即ち、この発明は非酸化物セラミックス粉末の成形体を
焼結温度以下で活性化処理したのち、非酸化性雰囲気下
にて加圧焼結することが%叡である。
しかしてその加圧焼結における条件としては150〜3
00−/−の圧力で焼結温度ti1600〜!800℃
ossが適轟である。
そのような範囲に限定するのは、圧力が150−/−以
下では十分な緻密化が得られず、また加比力社高いほど
夷好ではあるが、3OO初/ai Kなるとモールドの
強度の点で好ましくない。
さらに焼結温度の上記範囲はその際の圧力の如何に4よ
、るが、160)℃未満では焼結体の十分な緻密化が得
られず、ま′に意300℃より高いとSi、N4あるい
ttsic自体の分解反応が著しくなり、気孔が残存し
て中は参十分な緻密化が得られないためである。
なおとの尭WAKおける焼結前の非酸化物セラミックス
粉末成形体の活性化処理としては、UM珈が非酸化物セ
ラミックスの酸化現象により生じている酸化層管除去す
る九゛めのものであるところから (1)Hいのなどの還元性ガスの減圧雰囲気下で焼結温
度以下、 (2ン  還元性ガスの減圧雰囲気と真空雰囲気の父互
1回以上の繰返し状態のもとて焼結温度以下、 ・(3)  還元性ガスのプラズマ芥囲気ドで焼に龜嶽
以下、 などで行うことが好ましい。
以下この発明を実施例tてより畦Miiに総桐する。
実施例1 α型を90−以上含むsl、N4(内極、7ユタルク社
製)100fに対してMg05Fをボールミルで混合し
、粉砕を行った。この粉末の&木分析をしたところ61
11℃%であった。
この粉末を2t/c−の圧力で艮ち4o■、幅4゜■、
厚さ10■の板に成形したのち、ホットプレス装置内に
装填した。
そ【7て装置内を真空(^’1度8X I O−’at
m ) Kしたのち、昇温をはじめl300CK違した
ところでこの温度を保持してcoガスを尋人し、0.1
6atmとして排気バルブ全l1Al堅し、この圧力V
C1時間保持した。
その後装置内を再度真空にしたのち装置、内に高A11
t皺ON、ガス1If19.999%)を導入した。
次いで麹皺内圧力を1mtmKしたのち、200に9/
−の圧力をかけて昇温し、1800℃に2時間保持して
焼結を行つえ。
比較として−じ成形板を1800℃の処理をせずに直接
焼結し友。装置内を十分に冷却後焼結体を践出し、酸素
含有量や−げ強さなどのテストを行ったとζろ謝1表の
結果を得た。
槙 1@l! 上表からこ0斃明の焼結体は比較の焼結体より、酸素含
有量がはるかに減少し、高温特性も殆んど劣化しない焼
結体が得られた。
これはこの発明により焼結体内のSin、 ′(ll−
除去できた丸めと考えられる。
実施?lI2 1量比テs+o、粉末(平均粒径12ms ) I、 
Clj末(平均粒径29mμ)o、6の組合割合で混合
し友粉末tボールミルで均一に混合したのち、この粉末
を反応炉内に入れ、1800’Cで5時間H2ガス中て
熟処珈を行ない、SiC粉末を合成しfC6次イ”t’
 コノS +C粉末100 t K A40s t 4
 f 焼に助剤として添加し、ボールミルで混合粉砕を
行った。
得られ友粉末の酸素分析を行ったところ、除隼蓋/Ii
4.4重量−であっ九。
この粉末を8t/−の圧力で長さ4o■、Ii+440
箇、廓さ10箇の板に成形したのち、ポットプレスI#
i、蝋内に装填した。
そして装置内を4X10”atxnの真空にしたりも昇
温を行い、1400℃に達してからcoガスを尋人し、
排気バルブを調整して0.026 atmに1時間保持
した。
その*#!諏内にアルゴンガスを尋人し1 atmにし
良のち260に/−の圧力をかけ昇温し2100℃に2
時間保持して焼結を行った。
比軟のためKIWIじ成形i#Lを用いてCOガスによ
る処理をしないで焼結を行つ友2 次いで装置内を十分に冷麺し友のちに焼結体を堀田し、
¥、験したところ、このSiC焼船体において4東Jl
ガ1と−J橡にこの発明の方法による焼結体か第2tf
cに、不すようKよい結果を侍た。
第 2 衣 夷抛1丙3 実施例1における酸化物除去のための活性化処理雰囲気
をCOガスからH,ガスにかえ、さらに賽目気圧力tO
,01Kかえたほかは実施例1と同様の矯件で焼結体を
得た。これを実施例1と−」じようにテストしたところ
、M8teに示すようK COガスをH,ガスに代えて
も実施例1と−jじ鮎米が帰られた。
第 8 & 丈り例4 酸化物除去の活性化処理雰囲気を1.6 X I O−
’れmの真空からCOガスの減圧雰囲気(0,15at
m )5沖1繰返しとした以外は実施例1と1a」様に
して焼結体を得た。
鮎!ILは論4衣の造りであった。
なお七の表には比較・の丸めに実施例1における比軟カ
の数fiatボした。
第 4 表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)  非酸化物セラミックス粉末成形体tl[M、
    形体の焼結温度以下で活性化!&通し九のち非酸化性雰
    −気下にて加圧焼結すること1%像とする非酸化物セラ
    ミックスの製造法。 体) 活性化処理を還元性ガスの減圧W囲気下、焼結温
    度以下で行なうことを特徴とする特許請求の1118第
    1項記載の非酸化物セラミックスの製造法。 (1)  活性化処理を還元性ガスの減圧雰囲気と真空
    雰囲気の交互l−以上の繰返し状態のもとて焼結温度以
    上で行なうことを特徴とする特許−求の範囲第1項記載
    の非酸化物セラミックスの製造法。 (4)  活性化処理を還元性ガスのプラズマ雰−気下
    、焼結sit以下で行なうことを特徴とする特許請求の
    範囲第1項11!!叡の非酸化物セラミックスの製造法
    。 (&)  還元性ガスがCOおよび/またはH8でおる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至纂4項O%
    Aずれかの項に起重の非酸化物セラミックスの製造法。 (・) 非酸化物セラミックスが5ilN4であること
    t−%黴とする特許請求の範囲第1項記載9非嫁化物セ
    ラミツクスの製造法。 (7)  非酸化物セラミックスがSiCであることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の非酸化物セラミ
    ックスの製造法。
JP56163277A 1981-10-12 1981-10-12 非酸化物セラミツクスの製造法 Pending JPS5864277A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4719095A (en) * 1985-02-02 1988-01-12 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Production of silicon ceramic powders

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4719095A (en) * 1985-02-02 1988-01-12 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Production of silicon ceramic powders

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