JPS588075A - 高純度無水フタル酸の製造方法 - Google Patents

高純度無水フタル酸の製造方法

Info

Publication number
JPS588075A
JPS588075A JP10440481A JP10440481A JPS588075A JP S588075 A JPS588075 A JP S588075A JP 10440481 A JP10440481 A JP 10440481A JP 10440481 A JP10440481 A JP 10440481A JP S588075 A JPS588075 A JP S588075A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phthalic anhydride
catalyst
crude
gas
manganese
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10440481A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6113710B2 (ja
Inventor
Yuichi Kita
裕一 喜多
Kentaro Sakamoto
健太郎 坂本
Takahisa Sato
高久 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP10440481A priority Critical patent/JPS588075A/ja
Priority to US06/394,477 priority patent/US4436922A/en
Priority to DE19823225079 priority patent/DE3225079A1/de
Priority to FR8211850A priority patent/FR2508906A1/fr
Publication of JPS588075A publication Critical patent/JPS588075A/ja
Publication of JPS6113710B2 publication Critical patent/JPS6113710B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Furan Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はオルソキシレンの接触気相酸化によってえられ
た粗製無水フタル酸を精製し、高純度の無水フタル酸を
製造する方法に関する。詳しく述べると、本発明は、上
記粗製無水フタルiI!中に含まれ、分離が困難である
不純物たとえばフタライドを触媒を用い−て効率よく除
去することによって、高純度の無水フタル酸を製造する
だめの方法に関する。
通常一般に、オルソキシレンを原料としてバナジウム系
触媒を用い、接触気相酸イヒして哩水フタル「浚をえる
ことは、工業的に広く行なわれている。この方法により
えられる粗製無水フタル酸中には、主たる不純物として
副生のフタライドが0.05〜1重量係混入し、工業的
に通常用すられている蒸留装置などによっては十分に分
離できず、精製無水フタル酸中に無視しえない量の7タ
ライドが残留し、これが原因で製品品質を低下せしめる
1頃向のあることはよく知られる。
そのため、無水フタル酸の製造プロセスにおいては、粗
製無水フタルr俊中の不純物であるフタライド量を極力
低減させ、低い水準に保たれるようにオルソキシレンの
接触気相酸化反応を操作せねばならないことになる。す
なわち、一般には触媒の活性低下にともなうオルソキシ
レンの転化率低下や中間副生物フタライド量の増加を抑
えるために、反応温度を上げる方法をとらざるをえない
のであり、このことは触媒寿命を減少するととくつなが
る。そうでなくても粗製無水フタル酸中には副生フタラ
イドの混在は不可避であね、このフタライドを除去する
ために種々の方法が、無水フタル酸の工業的生産におい
て提案されている。
たとえば、特公昭45−10333号公報明細書によれ
ば、亜硫・俊水素カリウム(KH8C)s)やピロ亜硫
酸カリウム(K2S205)などのアルカリ金属イオウ
化合物を用いて粗製無水フタル酸を処理する方法が開示
され、米国特許″$4165324号明細書によれば水
酸化ナトリウム(Nail()や水酸化カリウム(KO
H)などのアルカリ金属水酸化物を用いて処理する方法
が開示されている。しかし、これらの方法は、以下の如
き欠点があり、工業的に有利に採用するには困難である
ことが指摘される。
まず前者の方法においては、無水フタル酸の精製工程で
残渣中にイオウ化合物も共存してくるため、この残渣の
処理(たとえば焼却処理)の際に多量のイオウ酸化物を
発生し、公害問題をひき起すことになるし、イオウ化合
物そのものも蒸留装置の腐食などの原因となり易く、こ
れらの問題解決のためには多大の費用を要する欠点があ
る。また後者の方法においては、アルカリ金属水酸化物
そのものの反応性が高いために、添加されるべき@製漂
水フタル:俊によっては、きわめて危険性が高くなる。
すなわち、たとえば水・俊化カリウムを液状粗d%水フ
タル酸に添加した場合、その中に言まれる無水マレイン
酸が爆発的に重合し、コークス状の“(合物を形成する
。この反応はきわめて急・敢であり、無水フタル酸製造
装置の運転にとって無視できないことはもちろん、発生
するコークス状重合゛吻による配管、バルブ、蒸留塔の
トレイなどの閉庵の原因となる。さらに水酸化カリウム
と無水マレイン酸との急激な反応の際無水フタル涜やそ
の他の不純物の分解反応をも招来し、これ大巾な低下を
招くことも指摘される。
また、硫酸を用いてフタライドを酸化する方法が米国特
許第3407216号明a4に提案されている。しかし
この方法は処理後に残存する硫酸によって製品無水フタ
ル酸が汚染されるという欠点を胃している。それゆえ、
処理後は硫酸を塩基性物質たとえば炭鷹ナトリウムなど
で中第1して、蒸留して製品をえねばならず、結果的に
は2種類の処理剤による2回の処理を要するということ
で工程それ自体複雑化してくる。そして硫酸そのものが
装置を腐食しやすい薬品であること、加熱処理中にイオ
ウ酸化物が発生したり、蒸留後の残渣中に混入してくる
イオウ化合物の処理も公害防止の点で費用が高くつく欠
点も指摘できる。
さらにフタライドを噴化触媒により酸化して高純度の無
水フタル、浚をえる方法も提案され、たとえば米国特許
第3208’ 423号明細書においては、臭化コバル
ト、臭化マンガンのような重金属臭化物を粗製無水フタ
ル酸に添加し、分子状酸素ガスと接触せしめている。し
かしながら、この方法は、触媒としての臭化物が高価で
あり、しかも回収再使用がきわめて困蝿であることで、
工業的に採用しえない方法である。また同様な目的を達
成するために、西独特許公開第193500g号明細書
には、バナジウム酸化物を担体に担持させた触媒を充填
層につめ、ここへ空気を通じつつ粗製無水)タル酸を通
過せしめて、フタライドの・横比を行なう方法が記載さ
れている。しかしこの方法を採用すると、徂!8!無水
フタルポ中に存在するタール状勿質が担持触媒表面に付
着し、触媒の活性がきわめて短期間のうちに低下してし
まうことがわかった。元来担持触媒は触媒活性物質を担
体表面に効果的に分散担持させてなるものであり、その
調製方法も焼成条件などによりその触媒活性に大きく影
−#を与えることはよく知られる。このような担持触媒
を充填塔内部に充填し固定床として使用する方法ケ、シ
たがって工業的に安定に使用するのは困難といわざるを
えない。
本発明の目的は、上述のような欠点を解消し、その操作
維持管理が極めて簡単な触媒を用いて、徂−裂無水フタ
ル直中の副生フタライドを酸化し、高純度の無水フタル
酸をえる方法を提供することVCt/)る。
本発明は、以下の如くに特定される。
11)  オルソキシレンの接触気相酸化によってえら
れた徂!#無水フタル酸を、触媒としてマンガン含有合
金組成物の存在下、高温下に分子状酸素含有ガスと接触
処理し、ついで蒸留操作に供することを特徴とする高純
度無水フタル酸の製造方法。
12)  粗製無水フタル唆1句に対し分子状酸素含有
ガス−を酸素ガスに換算して少なくとも2X10  ’
モル/時、好ましくば4×lO〜2X10−2モル/時
接触させることを特徴とする上記fil記載の方法。
(31接触処理が200〜300℃、好ましくは250
〜300℃の温度範囲、5〜30時間行われることを特
徴とする上記m iだは(2)記載の方法。
+41  粗製無水フタル酸IK4に対し、マンガン含
有合金組成物の接触面積が少くとも0−002 rn 
 N好ましくは0.004〜4m2であることを特徴と
する上記+11、+21または+31記載の方法。
・51  合金組成物中のマンガン含量が少くとも0.
05重号易、好ましくは0.1〜50重量係であること
を特徴とする特徴とする上記ill、+21、(31ま
たは14]記載の方法。
・6) マンガンのほかにクロムを含みかつその2つの
金属の合計が少くとも10重量憾である上記(り、+2
1、(3)、14)またけ(5)記載の方法。
以下さらに本発明の実施態様について説明する。
オルソキシレンを接触気相酸化してえられる粗製無水フ
タル酸中には、副生のフタライドが0.05〜1.0重
量壬含まれているのが通常である。
粗製無水フタル酸は130〜150℃の液状で貯えられ
、熱処理工程に送られる。
マンガン含有合金は、針金状のものを網状に編んだもの
などのように、分子状酸素ガスが容易にlI!I過しう
る、はとんど圧損失を与えずかつ表面積が上記の如く大
きいものが用いられる。とくに、気液接触装置内におい
て網状触媒充填層を形成せ発生させて、触媒と接触させ
つつ加熱処理を施す方法が本発明を実施する上で峡も簡
便かつ工業的な方法である。
マンガン合金を用いる場合は、少くともマンガンを0.
05重量係含有するものが好ましい。とくにクロム−マ
ンガン合金あるいハ鉄−クロムーマンガン合金などが好
ましく、クロムとマンガン含量が合計でlO重量係を越
えるものが、本発明方法に用いる上で最適なフタライド
の減少能を示す。
用いる分子状酸素含有ガスは、分子状酸素を2〜10容
量憾含有し残りは窒素などの不活性ガスよりなるものが
用いられる。通常は空気にさらに窒素ガスを混入せしめ
、分子状酸素濃度を上述の範囲に調整して用いる。
かくして、本発明の方法により粗製無水フタル「浚中の
フタライド量は、l/10から1/1000に低減され
、もはや蒸留してえられる精製無水フタル酸は、フタラ
イドilO,05重量憾ないしそれ以下という高純度化
が達成される。粗製無水フタル酸中に副生物として混入
してくるフタライドは、その近接沸点化合物(その詳細
は不明であるがアルデヒドなどの含酸素化合物と思われ
る)とともに不純物を構成すると考えられるのであるが
、本発明の処理方法によりフタライドを中心とするこれ
ら不純物含有肴の低減化により、無水フタル酸の高純度
化が計れ、それとともにえられる製品の溶融色相や熱安
定度の向上が達成されることが判明したのである。
以下本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
実権例 1 オルソキシレンを原料として接触気相酸化し、下記組成
の粗製無水フタル酸をえた。
無水フタル酸   99.7重量係 安息香酸    0.05  N マレイン酸   0.07  # フタライド   0.20  # 上記@製無水フタルa1〜をフラスコにとり、底部より
酸素5容量係、窒素95容量係の混合ガスを3ood/
時(酸素量として6X10  ’モル/時に相当)吹き
込み、270℃の温度で30時間処理−した。フラスコ
中にはあらかじめ0a2vusφの針金状の鉄(約70
壬)−クロム(約lc+1)−ニッケル(約9.4 )
−マンガン(約0.24、それぞれ重量4)合金200
9を接触面積Oa1m2、空間率9−7壬の円板状に成
形して固定した。
かくして見られた処理後の無水フタル酸中にはフタライ
ドが0.045重量壬含まれていた。
この処理ずみ無水フタル酸を、実段数10の多孔板を設
けた蒸留塔(内径32嘔φ、高さ500電)を用い、5
5yHg (絶対圧)圧力下、還流比0.5で蒸留した
。その結果APRAIO1凝固点131.12℃の精製
無水フタル酸をえた。250℃で2時間加熱による熱安
定度もAPRAl 0で高品質のものであった。なおこ
の精製無水フタル酸には、フタライドは0.04重−を
係合まれていた。
比較例 l 鉄分99.9v−It%の0.2 m−の針金2002
を接触面積0−1m2、空間率97憾の円板状に成型し
、これを用いて実権例1におけると同様に処理した。′
処理後の無水フタル酸中にはフタライドが0.19重量
係チオれていた。
ついでこの無水フタル壊を実施例1におけると同じく蒸
留せしめたところ、APHA 20.凝固点130.8
 ’Cの精製無水フタルr俊をえた。250℃で2時間
加熱による熱安定度はAPHA200であった。そして
この検水フタル酸中にはフタライドがo、x8’ti4
含まれていた。
実権例2〜12および比較例2 実施例1の操作において、触媒として下記の形状および
組成のマンガン含有合金を用い、その使用−!:(接触
面積)、吹込み酸素量、処理温度および処理時間をそれ
ぞれ変えた以外は同様に行った。
なお、比較のだめ触媒を用いなかった場合と、分子状酸
素を吹込まなかった場合も検討した。結果を第1表に示
す。
実施例 13 オルソキシレンの接触気相、f化によってえられた+@
製無水フタル唆は1、以下の組成を有していた。
無水フタル酸  99.3重を壬 安息香酸    0.05# マレイン酸   0.07# フタル酸    0.03  II フタライド   0.50 1 この粗製無水フタル酸500句を内径80Prnφ、高
さ120.の竪型処理槽に入れた。底部に5容jilt
の酸累95容を係の1素の混合ガス吹込み用の分散盤、
その上に攪拌器が設けられてなり、処理後実段数に実施
例1で用いたのと同じ材質のマンガン合金網状物500
09を板状に設置したものである。混合ガスを150t
/時で通じ、270℃に加熱しつつ30時間処理し、処
理後実段数10の多孔板を設置した蒸留塔(内径3.2
L−n1φ、高さ50.−rn)にて55慣Hg(絶対
圧)圧力下還流比0.5で蒸留し、APIA 10、凝
固点131.12℃、フタライド含量0.04重量憾の
高純度無水フタル酸をえた。このものの250’C2時
間の加熱後の熱安定度はAPF(A 20であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 fil  オルソキシレンの接触気相酸化によってえら
    れた粗製無水フタル酸を、触媒としてのマンガン含有合
    金組成物の存在下、高温下に分子状酸素含有ガスと接触
    処理し、ついで蒸留操作に供することを特徴とする高純
    度無水フタル酸の製造方法。 (2)  当該粗製無水フタルre i Kgに対し分
    子状酸素含有ガスを酸素ガスに換算して少なくとも2X
    10  ’モル/時接触させることを特徴とする特許請
    求の範囲fil記載の方法。 ・;(1接触処理が200〜300℃の温度範囲、5〜
    30時間行われることを特徴とする特許請求のa、囲(
    1)または(2)記載の方法。 ’41  ’lA’ll無水フタルa I Kgに対し
    、マンガン含有合金組成物の接触面積が少くとも0.0
    02m”であることを特徴とする特許請求の範囲ill
    、(2)まだは(3)記載の方法。 (5)  合金組成物中のマンガン含量が少くとも0.
    05重量係であることを特徴とする特許請求の範囲(1
    )、(2)、(3)または(4)記載の方法。 (6)  マンガンのほかにクロムを含みかつその2つ
    の金属の合計が少くとも10重量係である特許請求の範
    囲(1)、(2)、(3)、+41または(5)記載の
    方法。
JP10440481A 1981-07-06 1981-07-06 高純度無水フタル酸の製造方法 Granted JPS588075A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10440481A JPS588075A (ja) 1981-07-06 1981-07-06 高純度無水フタル酸の製造方法
US06/394,477 US4436922A (en) 1981-07-06 1982-07-01 Method for manufacture of high-purity phthalic anhydride
DE19823225079 DE3225079A1 (de) 1981-07-06 1982-07-05 Verfahren zur herstellung von phthalsaeure-anhydrid von hohem reinheitsgrad
FR8211850A FR2508906A1 (fr) 1981-07-06 1982-07-06 Procede de preparation d'un anhydride phtalique de haute purete a partir de l'anhydride phtalique brut

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10440481A JPS588075A (ja) 1981-07-06 1981-07-06 高純度無水フタル酸の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS588075A true JPS588075A (ja) 1983-01-18
JPS6113710B2 JPS6113710B2 (ja) 1986-04-15

Family

ID=14379776

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10440481A Granted JPS588075A (ja) 1981-07-06 1981-07-06 高純度無水フタル酸の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS588075A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010249335A (ja) * 2009-04-10 2010-11-04 Mitsubishi Electric Corp 空気調和機

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010249335A (ja) * 2009-04-10 2010-11-04 Mitsubishi Electric Corp 空気調和機

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6113710B2 (ja) 1986-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4284571A (en) Process for producing phthalic anhydride and catalyst therefor
KR20010043832A (ko) o-크실렌/나프탈렌 혼합물의 기상 촉매접촉 산화를 통한프탈산 무수물의 제조 방법
JPS6217578B2 (ja)
JPS62129247A (ja) 粗テレフタル酸の精製法
US4436922A (en) Method for manufacture of high-purity phthalic anhydride
EP0636599B1 (en) Process for the production of acetic acid
US3076842A (en) Aliphatic acid process
JPS588075A (ja) 高純度無水フタル酸の製造方法
EP1631383B1 (en) Oxidation of aromatic hydrocarbons using brominated anthracene promoters
JP3143598B2 (ja) 高純度無水フタル酸の製造方法
JP5055262B2 (ja) 水中におけるp−キシレンの液相酸化によるp−トルイル酸の製造方法
JPS6113711B2 (ja)
US20020010346A1 (en) Process for producing trimellitic anhydride
JPS6056150B2 (ja) 高純度無水フタル酸の製造方法
JP3915152B2 (ja) 酢酸ベンジルの製造方法
EP0041778B1 (en) Oxidation of meta- or para-xylene to iso- or tere-phthalic acid
TWI419869B (zh) 使用苯甲酸及水溶劑於氧化作用及純化作用之用以生成高純度芳族羧酸的方法
KR830000350B1 (ko) 무수 푸탈산의 제조용 촉매
JPS60199855A (ja) 安息香酸の製法
JPH01132574A (ja) 高純度無水フタル酸の製造方法
US1889945A (en) Production of monocarboxylic acids
JPH10237061A (ja) 高純度無水フタル酸の製造方法
JPH04219151A (ja) イソプロピリデンビス(フタル酸)およびイソプロピリデンビス(フタル酸無水物)の製造法
JPH10237062A (ja) 高純度無水フタル酸の製造方法
JPH08268959A (ja) 安息香酸の製造方法