JPS5892641A - アミド置換芳香族化合物 - Google Patents
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- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIHPVYJPDKJYOU-UHFFFAOYSA-N triphenylcarbethoxymethylenephosphorane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=CC(=O)OCC)C1=CC=CC=C1 IIHPVYJPDKJYOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Quinoline Compounds (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なアミド置換芳香族化合物に関する。
本発明のアミド置換芳香族化合物は文献未載の新規化合
物であって、下記一般式(1)で表わされる。
物であって、下記一般式(1)で表わされる。
〔式中R,R及びRsはそれぞれ低級アルキル1
重 基を示す。−X=は基−N=又は基−0H=を示す。=
は一重結合又は二重結合を示す。〕本明細書において低
級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル基等を挙げることができる。
重 基を示す。−X=は基−N=又は基−0H=を示す。=
は一重結合又は二重結合を示す。〕本明細書において低
級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル基等を挙げることができる。
本発明の化合物は、種々の方法で製造されるが、好まし
い一例を挙げれば例えば下記反応行程式−1及び2に示
す方法で製造出来る。
い一例を挙げれば例えば下記反応行程式−1及び2に示
す方法で製造出来る。
反応行程式−1
(2) (3)
〔式中R1、R1、R1及びxは前記に同じ。R4、R
1及び8・は同−又は異なってフェニル基、低級アルキ
ル基又は低級アルコキシ基を示す。〕反反応行程−1に
おいて、一般式(2)の化合物のアシル化反応は、通常
のアシル化反応をいずれも便。
1及び8・は同−又は異なってフェニル基、低級アルキ
ル基又は低級アルコキシ基を示す。〕反反応行程−1に
おいて、一般式(2)の化合物のアシル化反応は、通常
のアシル化反応をいずれも便。
用することが出来るが、例えば適当なアシル化剤を用い
て行うことが出来る。ここでアシル化剤としては例えば
酢酸、トリメチル酢酸等の低級アルカン酸、無水酢酸、
無水トリメチル酢酸等の低級アルカン酸無水物、アセチ
ルクロライド、ピバロイルクロライド等の低級アルカン
酸ハロゲン化物・1 等を挙げることができる。アシル化剤として低級アルカ
ン酸無水物又は低級アルカン酸ハロゲン化物を使用する
場合、アシル化反応は塩基性化合物の存在下にて行なわ
れる。使用される塩基性化合物としては例えば金属ナト
リウム、金属カリウム等のアルカリ金属及びこれらアル
カリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩或いはピリジン
、ピペリジン等の芳香族アミン化合物、トリエチルアミ
ン等が挙げられる。該反応は無溶媒もしくは溶媒中のい
ずれでも進行するが、通常は適当な溶媒を用いて行なわ
れる。溶媒としては例えばアセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン類、エーテル、ジオキサン等のエーテル類
、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水
素類、水等が挙げられる。アシル化剤は原料化合物に対
して等モル−大過刺愈の範囲内で用いられるが、一般に
は1〜8倍モル用いるのがよい。また該反応は0〜15
0℃で進行す□るが、一般には0〜80℃で行なうのが
よい。さらにまたアシル化剤として低級アルカン酸を使
用する場合、反応系内に脱水剤として硫酸、塩酸等の鉱
酸やパラトルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、エ
タンスルホン酸等のスルホン酸類を添加し、好ましくは
60〜120℃に反応温度を細持することによりアシル
化反応は有利に進行する。
て行うことが出来る。ここでアシル化剤としては例えば
酢酸、トリメチル酢酸等の低級アルカン酸、無水酢酸、
無水トリメチル酢酸等の低級アルカン酸無水物、アセチ
ルクロライド、ピバロイルクロライド等の低級アルカン
酸ハロゲン化物・1 等を挙げることができる。アシル化剤として低級アルカ
ン酸無水物又は低級アルカン酸ハロゲン化物を使用する
場合、アシル化反応は塩基性化合物の存在下にて行なわ
れる。使用される塩基性化合物としては例えば金属ナト
リウム、金属カリウム等のアルカリ金属及びこれらアル
カリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩或いはピリジン
、ピペリジン等の芳香族アミン化合物、トリエチルアミ
ン等が挙げられる。該反応は無溶媒もしくは溶媒中のい
ずれでも進行するが、通常は適当な溶媒を用いて行なわ
れる。溶媒としては例えばアセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン類、エーテル、ジオキサン等のエーテル類
、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水
素類、水等が挙げられる。アシル化剤は原料化合物に対
して等モル−大過刺愈の範囲内で用いられるが、一般に
は1〜8倍モル用いるのがよい。また該反応は0〜15
0℃で進行す□るが、一般には0〜80℃で行なうのが
よい。さらにまたアシル化剤として低級アルカン酸を使
用する場合、反応系内に脱水剤として硫酸、塩酸等の鉱
酸やパラトルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、エ
タンスルホン酸等のスルホン酸類を添加し、好ましくは
60〜120℃に反応温度を細持することによりアシル
化反応は有利に進行する。
一般式(3)の化合物のリチウム化反応は、適当な溶媒
中リチウム化合物と反応させることにより製造されるこ
とが出来る。ここで使用される溶媒としては、反応に影
響を与えないものであれば公知のものをいずれも使用出
来るが、有利にはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類を挙げることが出来る。リチウム化合
物としてはメチルリチウム、n−ブチNルリチウム%B
e0−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム等の低級ア
ルキルリチウム類、ジイソプロビルリチウムアミド、シ
クロヘキシルイソプロピルリチウムアミド、リチウムア
ミド等のリチウムアミド類等を例示出来る。リチウム化
合物の使用量としては、一般式(1)の化合物に対して
通常少なくとも2倍モル、好ましくは2〜6倍モル鳳使
用するのがよい。反応温度は、通常60℃以下好ましく
は一り8℃〜富温であり、80分〜8時間で反応は終了
する。
中リチウム化合物と反応させることにより製造されるこ
とが出来る。ここで使用される溶媒としては、反応に影
響を与えないものであれば公知のものをいずれも使用出
来るが、有利にはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類を挙げることが出来る。リチウム化合
物としてはメチルリチウム、n−ブチNルリチウム%B
e0−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム等の低級ア
ルキルリチウム類、ジイソプロビルリチウムアミド、シ
クロヘキシルイソプロピルリチウムアミド、リチウムア
ミド等のリチウムアミド類等を例示出来る。リチウム化
合物の使用量としては、一般式(1)の化合物に対して
通常少なくとも2倍モル、好ましくは2〜6倍モル鳳使
用するのがよい。反応温度は、通常60℃以下好ましく
は一り8℃〜富温であり、80分〜8時間で反応は終了
する。
一般式(4)の化合物のホルミル化反応は、適当な溶媒
中ホルミル化剤と反応させることにより製造されること
が出来る。ご仁で使用される溶媒としては反応に影響を
与えないもの限り公知のものをいずれも使用出来るが、
有利にはジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の
飽和炭化水素類を挙げることが出来る。ホルミル化剤と
しては、ジメチルホルムアミド、N、N−メチルホルミ
ルアニリン等を例示出来る。ホルミル化剤の使用量とし
ては、一般式(3)の化合物に対して通常少なくとも等
モル程度、好ましくは8〜7倍モル鳳使用するのがよい
。反応温度としては、通常60℃以下、好ましくは一り
8℃〜室温付近であり、1〜10時間で反応は終了する
。
中ホルミル化剤と反応させることにより製造されること
が出来る。ご仁で使用される溶媒としては反応に影響を
与えないもの限り公知のものをいずれも使用出来るが、
有利にはジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の
飽和炭化水素類を挙げることが出来る。ホルミル化剤と
しては、ジメチルホルムアミド、N、N−メチルホルミ
ルアニリン等を例示出来る。ホルミル化剤の使用量とし
ては、一般式(3)の化合物に対して通常少なくとも等
モル程度、好ましくは8〜7倍モル鳳使用するのがよい
。反応温度としては、通常60℃以下、好ましくは一り
8℃〜室温付近であり、1〜10時間で反応は終了する
。
一般式(Is)の化合物と一般式(6)の化合物との反
応は、一般にウィツテイヒ(Wittlg )反応と呼
ばれるものであり、過割のウィツテイヒ反応の反応条件
下に行う仁とが出来る。使用される溶媒としては、反応
に影譬を与えないものであればいずれも使用出来るが、
例えばベンゼン、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水
素類、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類、
n−ヘキサン、n−ヘプタン等の炭化水素類等を例示で
きる。一般式(6)の化合物の使用量としては、一般式
(6)の化合物に対して通常1−8倍モル、好ましくは
1〜1.6倍モル量使用するのがよい。該反応は通常O
〜100℃、好ましくは室温付近で行うのがよく、1〜
6時m程度で終了する。斯くし正本発明化合物のうち”
−が二重結合を示す化合物(一般式(1a)の化合物)
が製造される。
応は、一般にウィツテイヒ(Wittlg )反応と呼
ばれるものであり、過割のウィツテイヒ反応の反応条件
下に行う仁とが出来る。使用される溶媒としては、反応
に影譬を与えないものであればいずれも使用出来るが、
例えばベンゼン、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水
素類、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類、
n−ヘキサン、n−ヘプタン等の炭化水素類等を例示で
きる。一般式(6)の化合物の使用量としては、一般式
(6)の化合物に対して通常1−8倍モル、好ましくは
1〜1.6倍モル量使用するのがよい。該反応は通常O
〜100℃、好ましくは室温付近で行うのがよく、1〜
6時m程度で終了する。斯くし正本発明化合物のうち”
−が二重結合を示す化合物(一般式(1a)の化合物)
が製造される。
反応行程式−意
(1&) (lb)C式中R
’、IL”、 R” 及UXii前g64c同じ。〕反
反応行程−2において、一般式(la)の化合物の還元
反応には、通常の接触還元反応を利用出来る。例えば白
金、酸化白金、パラジウム、Aラジウム黒、パラジウム
炭素等の還元触媒を用いて、水、メタノール、エタノー
ル、イソブロノでノール等のアルコール類、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル
類、酢酸、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類等
の溶媒中、通常1〜10気圧、一般に一り0℃〜溶媒の
沸点範囲、好ましく一〇℃〜室温付近にてa′。
’、IL”、 R” 及UXii前g64c同じ。〕反
反応行程−2において、一般式(la)の化合物の還元
反応には、通常の接触還元反応を利用出来る。例えば白
金、酸化白金、パラジウム、Aラジウム黒、パラジウム
炭素等の還元触媒を用いて、水、メタノール、エタノー
ル、イソブロノでノール等のアルコール類、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル
類、酢酸、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類等
の溶媒中、通常1〜10気圧、一般に一り0℃〜溶媒の
沸点範囲、好ましく一〇℃〜室温付近にてa′。
分〜10時間程度で行なわれゐ。触媒の使用量としては
、一般式(1a)の化合物に対して0.02倍〜等重量
程度用いるのがよい。斯くして本発明化合物のうち=が
一重結合を示す化合物(一般式(lb)の化合物)が製
造される。
、一般式(1a)の化合物に対して0.02倍〜等重量
程度用いるのがよい。斯くして本発明化合物のうち=が
一重結合を示す化合物(一般式(lb)の化合物)が製
造される。
本発明の化合物は、下記反応行程式−8に示す方法によ
りβ−アドレナリン作動神経遍断作用を有し不整脈心房
細動や冠状動脈疾患の治療等善ζ有用な炉殻成員で表わ
されるプロノイノール誘導体−こ誘導することができる
。
りβ−アドレナリン作動神経遍断作用を有し不整脈心房
細動や冠状動脈疾患の治療等善ζ有用な炉殻成員で表わ
されるプロノイノール誘導体−こ誘導することができる
。
反応行程式−3
(16,) (lb)↓環化
1環化 … (9) ↓ H 〔式中カルボスチリル骨格の8位と4位の炭素間結合は
一重結合又は二重結合を示す。Bl、Bl、8・及びX
は前記に同じ。〕 一般式(la)又は(1b)の化合物の環化反応は適当
な溶媒中又は無溶媒中酸の存在下に行なわれる。
1環化 … (9) ↓ H 〔式中カルボスチリル骨格の8位と4位の炭素間結合は
一重結合又は二重結合を示す。Bl、Bl、8・及びX
は前記に同じ。〕 一般式(la)又は(1b)の化合物の環化反応は適当
な溶媒中又は無溶媒中酸の存在下に行なわれる。
使用される酸としては、例えば塩酸、美化水素酸、硫酸
、硝酸、ポ99ン酸等の無機酸、p−)ルエンスルホン
酸、エタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸尋
を例示できる。使用される溶媒としては、反応に影響を
与えないものであればいずれも使用出来、例えばメタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、8−メ
トキシ−を−ブタノール、メチルセロソルブ、メチルセ
ロソルブ等のアルコール殖、ピリジン、アセトン、塩化
メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン尋のハロゲン
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル等のエーテル類
、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、N、N−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド等の非プロトン性楡性溶媒又はそ
の混合溶媒等を挙げることが出来る。反応湿度は通常0
〜150℃、好ましくは20〜100℃付近であり、反
応時間は80分〜10時間である。
、硝酸、ポ99ン酸等の無機酸、p−)ルエンスルホン
酸、エタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸尋
を例示できる。使用される溶媒としては、反応に影響を
与えないものであればいずれも使用出来、例えばメタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、8−メ
トキシ−を−ブタノール、メチルセロソルブ、メチルセ
ロソルブ等のアルコール殖、ピリジン、アセトン、塩化
メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン尋のハロゲン
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル等のエーテル類
、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、N、N−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド等の非プロトン性楡性溶媒又はそ
の混合溶媒等を挙げることが出来る。反応湿度は通常0
〜150℃、好ましくは20〜100℃付近であり、反
応時間は80分〜10時間である。
一般式(7)又は(8)の化合物の脱アルキル化反応は
、臭化水素酸水溶液中通常室温〜160℃、好ましくは
美化水素酸水溶液の沸点付近で行なわれ、該反応は一般
に8〜7時間時間室終了する。
、臭化水素酸水溶液中通常室温〜160℃、好ましくは
美化水素酸水溶液の沸点付近で行なわれ、該反応は一般
に8〜7時間時間室終了する。
このような方法に従えば、一般式(9)で表わされる5
−ヒドロキシカルボスチリル誘導体を簡便に高収率、高
純度で得ることができる。
−ヒドロキシカルボスチリル誘導体を簡便に高収率、高
純度で得ることができる。
一般式Q(Iの化合物′は、一般式(9)の化合物にエ
ピクロルヒドリン、続いてtert−ブチルアミンを反
応させることにより容易に製造される。
ピクロルヒドリン、続いてtert−ブチルアミンを反
応させることにより容易に製造される。
斯くして製造される一般式(1)の化合物は通常の分一
手段により容易に単離精製できる。該分離子役としては
、例えば溶媒抽出法、溶媒稀釈法、再結晶法、液体クロ
マトグラフィー等を例示できる。
手段により容易に単離精製できる。該分離子役としては
、例えば溶媒抽出法、溶媒稀釈法、再結晶法、液体クロ
マトグラフィー等を例示できる。
以下に参考例と実施例を挙げる。
参考例1
8−アミノ−5−メトキシピリジン497q及びトリエ
チルアミン6071fのクロロホルム18sZ溶液にピ
バロイルクロライド581Wgのクロロホルム2s##
l液を攪拌下6分間で滴下する。反応混合物を一纏乾固
し、残渣を炭酸ナトリウム10d及びクロロホルム20
0dで抽出し、有機層を飽和食塩水20g/で洗浄する
。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。残
渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、溶出液;
酢酸エチル)で精製する。酢酸エチル−n−ヘキサンで
再結晶して774qの8−メトキシ−6−(ピバロイル
アミノ)ピリジンを得る。
チルアミン6071fのクロロホルム18sZ溶液にピ
バロイルクロライド581Wgのクロロホルム2s##
l液を攪拌下6分間で滴下する。反応混合物を一纏乾固
し、残渣を炭酸ナトリウム10d及びクロロホルム20
0dで抽出し、有機層を飽和食塩水20g/で洗浄する
。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。残
渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、溶出液;
酢酸エチル)で精製する。酢酸エチル−n−ヘキサンで
再結晶して774qの8−メトキシ−6−(ピバロイル
アミノ)ピリジンを得る。
mp96°C
参考例2
L、Sモルn−ブチルリチウムヘキサン溶液8.6−を
8−メトキシ−6−(ピバロイルアミノ)ピリジンto
4tqの無水テトラヒドロフラン(’I’HF)lff
iWd溶液にアルゴン気流下−一6℃で滴下する。
8−メトキシ−6−(ピバロイルアミノ)ピリジンto
4tqの無水テトラヒドロフラン(’I’HF)lff
iWd溶液にアルゴン気流下−一6℃で滴下する。
反応混合物をアルゴン気流下同温度で1時間攪拌する。
上記反応混合液に一70℃でジメチルホルムアミド(D
MF ”) 1.5 gdの無水テトラヒドロフラン溶
液80mを滴下する。さらに同温度で80分攪拌する。
MF ”) 1.5 gdの無水テトラヒドロフラン溶
液80mを滴下する。さらに同温度で80分攪拌する。
反応混合物を酢酸エチルと水で抽出し、有機層を飽和食
塩水で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製後、n−ヘキサンより再結晶して685wII
の4−ホルミル−8−メトキシ−6−(ピバロイルアミ
ノ)ピリジンを得る。
塩水で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製後、n−ヘキサンより再結晶して685wII
の4−ホルミル−8−メトキシ−6−(ピバロイルアミ
ノ)ピリジンを得る。
111p $9−90℃
参考例8
1.5モルn−ブチルリチウムヘキサン溶液1.3!8
dを墓−ピバロイルアニシジン40G11の無水’I’
H?15−溶液にO’Cアルゴン気流下滴下する。同条
件下2時間反応させた後、つづいて0.91m1のDM
Fを滴下する。反応混合物を1時間O℃で攪拌し、つづ
いて室温でS時間攪拌する。酢酸エチル−水で抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄する4゜硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出液クロロホルム)で精I&I
後、n−ヘキサンで再結晶して1180!の2′−ホル
ミル−8′−メトキシ−2゜2−ジメチルプロパンアニ
リドを得る。
dを墓−ピバロイルアニシジン40G11の無水’I’
H?15−溶液にO’Cアルゴン気流下滴下する。同条
件下2時間反応させた後、つづいて0.91m1のDM
Fを滴下する。反応混合物を1時間O℃で攪拌し、つづ
いて室温でS時間攪拌する。酢酸エチル−水で抽出し、
有機層を飽和食塩水で洗浄する4゜硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出液クロロホルム)で精I&I
後、n−ヘキサンで再結晶して1180!の2′−ホル
ミル−8′−メトキシ−2゜2−ジメチルプロパンアニ
リドを得る。
mp8G−81℃
参考例4
エチル 8−(8−メトキシ−b−ピバロイルアミノ−
4−ピリジル)アクリレイト60011010%塩酸水
溶液bds液を90℃で1時間加熱する。
4−ピリジル)アクリレイト60011010%塩酸水
溶液bds液を90℃で1時間加熱する。
その後O℃まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
でアル中す性とする。反応混合物を減圧留去し、残渣を
シリカゲルカラふクロマトグラフィー(It出鹸酢酸エ
チル−メタノール=10:1)で精製する。メタノール
から梅結晶してtgostの6−メドキシー1.1!−
ジヒドロ−1,7−ナフチリジン−2−オンを得る。
でアル中す性とする。反応混合物を減圧留去し、残渣を
シリカゲルカラふクロマトグラフィー(It出鹸酢酸エ
チル−メタノール=10:1)で精製する。メタノール
から梅結晶してtgostの6−メドキシー1.1!−
ジヒドロ−1,7−ナフチリジン−2−オンを得る。
mp 274−276℃
参考例6
ローメトキシーIJ−ジヒドロ−1,7−ナフチリジン
10ダの48%臭化水素酸水溶液1IItQ液を4時間
還流する。反応混合物を減圧留去し、残渣に10%炭酸
ナトリウム水溶液を加えて中和する。得られた固体をシ
リカゲルカラムクロマトグラフ4−CIIjtBl&+
クロロホルム:メタノール=7;1)で精製し41fの
6−ヒドロキシ−IJ−ジヒドロ−1,7−ナフチリジ
ン−2−オンを得る。
10ダの48%臭化水素酸水溶液1IItQ液を4時間
還流する。反応混合物を減圧留去し、残渣に10%炭酸
ナトリウム水溶液を加えて中和する。得られた固体をシ
リカゲルカラムクロマトグラフ4−CIIjtBl&+
クロロホルム:メタノール=7;1)で精製し41fの
6−ヒドロキシ−IJ−ジヒドロ−1,7−ナフチリジ
ン−2−オンを得る。
mp 800℃以上
参考例6
エチル 8−(8−メトキシ−6−ビパロイルアミノー
4−ピリジル)プロピオネイト401Fの10%塩酸水
溶液2d@液を90℃で1時間加6熱する。反応混合物
を飽和炭酸水素ナトリウムで中和し、析出結晶を枦取す
る。メタノールより再結晶してttsvの6−メドキシ
ー1.2.8.4−テトラヒドロ−1,7−ナフチリジ
ン−2−オンを得る。
4−ピリジル)プロピオネイト401Fの10%塩酸水
溶液2d@液を90℃で1時間加6熱する。反応混合物
を飽和炭酸水素ナトリウムで中和し、析出結晶を枦取す
る。メタノールより再結晶してttsvの6−メドキシ
ー1.2.8.4−テトラヒドロ−1,7−ナフチリジ
ン−2−オンを得る。
up 2’16−2’18℃
参考例7
ローメトキシー1.2.8.4−テトラヒト賞−1,7
−ナフチリジン−2−オン101fの48%夷化水素酸
水溶液IIItQ液を4時間還流する。反応混合物を減
圧留去し、10%炭酸ナトリ°ウム水溶液を加えて中和
する。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出液蟇酢酸エテル:メタノール=4 : 1
)で精製し64の5−ヒドロキシ−1,2,8,4−テ
トラヒドロ−1,7−ナフチリジン−2−オンを得る。
−ナフチリジン−2−オン101fの48%夷化水素酸
水溶液IIItQ液を4時間還流する。反応混合物を減
圧留去し、10%炭酸ナトリ°ウム水溶液を加えて中和
する。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出液蟇酢酸エテル:メタノール=4 : 1
)で精製し64の5−ヒドロキシ−1,2,8,4−テ
トラヒドロ−1,7−ナフチリジン−2−オンを得る。
mp 8001以上参考例8
8−メトキシ−2−エトキシカルボニルエテル−2,2
−ジl f JLTプロパンアニ9ド160111g(
7)10%塩酸水溶液8 ml溶液を90℃でIUj間
加熱加熱。
−ジl f JLTプロパンアニ9ド160111g(
7)10%塩酸水溶液8 ml溶液を90℃でIUj間
加熱加熱。
反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、
クロロホルムで抽出する。硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶出液逼クロロホルム)で精製後、メタノ
ールで再結晶して40岬の6−メドキシー8.4−ジヒ
ドロカルボスチリルを得る。
クロロホルムで抽出する。硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶出液逼クロロホルム)で精製後、メタノ
ールで再結晶して40岬の6−メドキシー8.4−ジヒ
ドロカルボスチリルを得る。
mp 175−177℃
参考例9
6−メドキシー8,4−ジヒドロカルボスチリルio*
の48%臭化水素酸水溶液1IItQ液を4時間還流す
る。反応混合物を減圧留去し、10%炭酸ナトリウム水
溶液を加えて中和するJ得られた固体をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ−テell製し、次にメタノールよ
り再結晶して5.61fの6−ヒドロキシ−8,4−ジ
ヒドロカルボスチリルを得る。
の48%臭化水素酸水溶液1IItQ液を4時間還流す
る。反応混合物を減圧留去し、10%炭酸ナトリウム水
溶液を加えて中和するJ得られた固体をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ−テell製し、次にメタノールよ
り再結晶して5.61fの6−ヒドロキシ−8,4−ジ
ヒドロカルボスチリルを得る。
mp 282−288℃
参考例10
(ト) 6−ヒドロキシ−1,Q、 8.4−テトラヒ
ドロ−1,7−ナフチリジン−2−オン0.87℃リモ
ル、エビクロロヒドリン2.8ミリモル及びピペリジン
1滴の混合物を室温で終夜攪拌する。得られた結晶をP
去後、炉液を減圧で濃縮後、残渣をアセトンで結晶化し
、メタノールから再結晶しr、5−(8−’Fロロー2
−ヒドロキシ)フロホキシー1.2.8.4−テトラヒ
ドロ−1,7−ナフチリジン−2−オン5011gを得
る。
ドロ−1,7−ナフチリジン−2−オン0.87℃リモ
ル、エビクロロヒドリン2.8ミリモル及びピペリジン
1滴の混合物を室温で終夜攪拌する。得られた結晶をP
去後、炉液を減圧で濃縮後、残渣をアセトンで結晶化し
、メタノールから再結晶しr、5−(8−’Fロロー2
−ヒドロキシ)フロホキシー1.2.8.4−テトラヒ
ドロ−1,7−ナフチリジン−2−オン5011gを得
る。
mp 280〜282℃。
(b)6−(8−クロロ−2−ヒドロキシ)プ、ロボキ
シ−1,2,8,4−テトラヒドロ−し7−ナフチリジ
ン−2−オン0.097モル及びtert−ブチルアミ
ン0.6ミリモルをメタノール04s?に溶かし、66
〜60″Cで6時間加熱する。反応混合物を減圧乾固し
、5−(8−tert−ブチルアミノ−2−ヒドロキシ
)プロポキシ−1,2,8,4−テトラヒドロ−1,7
−ナフチリジン−2−オン・1塩酸塩を得る。上記塩酸
塩をIHム−41001出液:メタノール)で処理し、
5− (8−tert−ブチルアミノ−2−ヒドロキシ
)プロポキシ−1,2,8,4−テトラヒドロ−1,7
−ナフチリジン−2−オン20■を得る。
シ−1,2,8,4−テトラヒドロ−し7−ナフチリジ
ン−2−オン0.097モル及びtert−ブチルアミ
ン0.6ミリモルをメタノール04s?に溶かし、66
〜60″Cで6時間加熱する。反応混合物を減圧乾固し
、5−(8−tert−ブチルアミノ−2−ヒドロキシ
)プロポキシ−1,2,8,4−テトラヒドロ−1,7
−ナフチリジン−2−オン・1塩酸塩を得る。上記塩酸
塩をIHム−41001出液:メタノール)で処理し、
5− (8−tert−ブチルアミノ−2−ヒドロキシ
)プロポキシ−1,2,8,4−テトラヒドロ−1,7
−ナフチリジン−2−オン20■を得る。
up 280℃(分解)
実施例1
4−ホルミル−8−メトキシ−6−(ピバロイルアミノ
)ピリジン52G”lとカルボエトキシメチレントリフ
ェニルサオスフオラン814ダの無水ヘンゼン20g[
液を一温で2時間攪拌する。反応混合物を減圧で濃縮し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液
蕃クロロホルム:酢酸エチル=1 : 1 )で精製し
、次に酢酸エチル−n−ヘキサンから再結晶して656
11Iのエチル 8−(8−メトキシ−6−ビバロイル
ア【ノー4−ピリジル)アクリレイト(′X/) 9ン
ス=1/1(D混合物)を得る。
)ピリジン52G”lとカルボエトキシメチレントリフ
ェニルサオスフオラン814ダの無水ヘンゼン20g[
液を一温で2時間攪拌する。反応混合物を減圧で濃縮し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液
蕃クロロホルム:酢酸エチル=1 : 1 )で精製し
、次に酢酸エチル−n−ヘキサンから再結晶して656
11Iのエチル 8−(8−メトキシ−6−ビバロイル
ア【ノー4−ピリジル)アクリレイト(′X/) 9ン
ス=1/1(D混合物)を得る。
wap 184−166℃
実施例8
2′−ホルミル−8′rメトキシ−2,2−レメチルプ
ロパンアニリド!60sfとカルボエトキシメチレント
リフェニルフォスフオラン8911Wgの無水ベンゼン
10−溶液を室温で2時間攪拌する。反応混合物を減圧
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出液蕃酢酸エチル:クロロホルム=1:1)で精製し
酢酸エチル−n−ヘキサンで再結晶して2so*のエチ
ル(2−メトキシ−6−ピバロイルアミノ)シンナメイ
ト(シス/トランス−1/1混合物)を得る。
ロパンアニリド!60sfとカルボエトキシメチレント
リフェニルフォスフオラン8911Wgの無水ベンゼン
10−溶液を室温で2時間攪拌する。反応混合物を減圧
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出液蕃酢酸エチル:クロロホルム=1:1)で精製し
酢酸エチル−n−ヘキサンで再結晶して2so*のエチ
ル(2−メトキシ−6−ピバロイルアミノ)シンナメイ
ト(シス/トランス−1/1混合物)を得る。
mp46−48℃
実施例8
エチル 8−(8−メトキシ−6−ビバロイルアミノー
4−ピリジル)アクリレイト6011のメタノール15
sZ溶液に6%パラジウム−炭素(6′%Pa−0 )
5011Fを加え、室温、4気圧で1時間接触還元す
る。パラジウム−炭素を枦去後、−液を鎮圧で留去して
4011Iのエチル 8−(8−メトキシ−6−ピバロ
イルアミノー4−ピリジル)プルピオネイトを得る。
シロップ状IR及びNMRより同定した。
4−ピリジル)アクリレイト6011のメタノール15
sZ溶液に6%パラジウム−炭素(6′%Pa−0 )
5011Fを加え、室温、4気圧で1時間接触還元す
る。パラジウム−炭素を枦去後、−液を鎮圧で留去して
4011Iのエチル 8−(8−メトキシ−6−ピバロ
イルアミノー4−ピリジル)プルピオネイトを得る。
シロップ状IR及びNMRより同定した。
及び166O
NMR(ODOlm) :δ 1.20 (8HSt、
J=7Hz )、1.87(9H1s)、177(4
H,a)、8.91(8H,s)、4.09(2H,q
、J=7H! )、8.02(IH,s)、8.68
(IH,s ) 実施例4 エチル (2−メトキシー6−ビバロイルアミノ)シン
ナメイト2001vのエタノール80−溶液に6%pa
−ogoosyを加え、室温、4気圧で1時間接触遭元
する。Fil−0を枦去後、−液を減圧濃縮して180
1Fの8−メトキシ−2−エトキシカルボニルエチル−
2,2−ジメチルプロパンアニリドを得る。 シ
ロップ状 IR及びNMRより同定した。
J=7Hz )、1.87(9H1s)、177(4
H,a)、8.91(8H,s)、4.09(2H,q
、J=7H! )、8.02(IH,s)、8.68
(IH,s ) 実施例4 エチル (2−メトキシー6−ビバロイルアミノ)シン
ナメイト2001vのエタノール80−溶液に6%pa
−ogoosyを加え、室温、4気圧で1時間接触遭元
する。Fil−0を枦去後、−液を減圧濃縮して180
1Fの8−メトキシ−2−エトキシカルボニルエチル−
2,2−ジメチルプロパンアニリドを得る。 シ
ロップ状 IR及びNMRより同定した。
IR,0HOj@ 、−t :B 44 g、1710
、taao 及v69O NMR(ODolm)δ:1.18(8)1%t、 J
=7)−&+)、1.115(9H,8)、!77 (
4H,s )、−8,80(8H%s )、4.08
(2L q、 J =7)&)、6.5及び7.6 (
8H,m )、9.08 (IH,bs、 ) (以上)
、taao 及v69O NMR(ODolm)δ:1.18(8)1%t、 J
=7)−&+)、1.115(9H,8)、!77 (
4H,s )、−8,80(8H%s )、4.08
(2L q、 J =7)&)、6.5及び7.6 (
8H,m )、9.08 (IH,bs、 ) (以上)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ 一般式 〔式中R’、:al及びRsはそれぞれ低級アルキル基
を示す。−X=は基−N=又は基−0H=を示す。門は
一重結合又は二重結合を示す。〕で表わされるアミド置
換芳香族化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56191277A JPS5892641A (ja) | 1981-11-27 | 1981-11-27 | アミド置換芳香族化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56191277A JPS5892641A (ja) | 1981-11-27 | 1981-11-27 | アミド置換芳香族化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5892641A true JPS5892641A (ja) | 1983-06-02 |
| JPH0124139B2 JPH0124139B2 (ja) | 1989-05-10 |
Family
ID=16271871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56191277A Granted JPS5892641A (ja) | 1981-11-27 | 1981-11-27 | アミド置換芳香族化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5892641A (ja) |
-
1981
- 1981-11-27 JP JP56191277A patent/JPS5892641A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0124139B2 (ja) | 1989-05-10 |
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