JPS5896682A - アセチレン化合物の選択的水素添加方法 - Google Patents

アセチレン化合物の選択的水素添加方法

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JPS5896682A
JPS5896682A JP19276681A JP19276681A JPS5896682A JP S5896682 A JPS5896682 A JP S5896682A JP 19276681 A JP19276681 A JP 19276681A JP 19276681 A JP19276681 A JP 19276681A JP S5896682 A JPS5896682 A JP S5896682A
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JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
reaction
fraction
oxygen
acetylene compound
Prior art date
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Pending
Application number
JP19276681A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Kuno
久野 耕一
Hideji Hirayama
平山 秀二
Fujimaro Ogata
不二麿 緒方
Hiromoto Ono
博基 大野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Publication date
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Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は石油類のクラッキング等によシ得られる炭素数
3〜4のオレフィン系炭化水素を主体とする留分(以下
03〜4留分と称する。)中のアセチレン化合物を加圧
液相条件下に選択的に水素添加する方法に関し、その際
に触媒としてパラジウム系固体触媒を用い、反応系に少
くともi ppbの酸素を含有させて該反応を行うこと
を特徴とする方法に関する。
−・ ・          〜 石油類のクラッキング等により得られるC3−4留分は
主としてプロピレフ、1.3−ブタジェン、イソブチン
、n−ブテン(ブテン−1、ブテン−2)、プロパン、
ブタン類からなり、これに不純物として小量のアセチレ
ン、メチルアセチレン、エチルアセチレン、ビニルアセ
チレンなどのアセチレン化合物を含んでおり、また、場
合によっては不純物としてアレン(プロパジエン)、メ
チルアレンなどのジエン化合物を含有することもある。
この03〜4留分を分離してゴム、プラスチック及びそ
の他の化学工業用原料として利用する場合、不純物とし
て含まれるアセチレン化合物は種々の障害となるため、
予め適当な処理を行って一定の濃度以下になるように除
いておかなければならない。
C3−4留分中のアセチレン化合物を除去する方法とし
て従来より触媒の存在下に気相又は液相条件にて主成分
となるオレフィン、ジオレフィン類の水素添加をできる
だけ抑制してアセチレン化合物を選択的に水素添加する
方法が行われている。しかし、従来公知の方法に於いて
は主成分となるオレフイン、ジオレフィン類の水素添加
をできる限り抑制してアセチレン化合物のみを選択的且
充分に水素添加することは非常に難しい。特にC4留分
の場合などでは、一般に1,3−ブタジェンと不純物の
アセチレン化合物の反応性に差が少ないこと及び水素添
加をすべきアセチレン化合物の濃度がブタジェンの濃度
に較べて極めて低いことなどのために、ブタジェンの水
素添加を出来る限り抑制して、アセチレン化合物のみを
選択的且充分に水素添加することは非常に困難である。
例えば、気相法では通常150〜200℃位の温度で反
応が行われるが、かかる高温での反応ではブタジェンの
水素添加や重合が甚しく、相当量のブタジェンの損失は
免れず、また高分子物質の付着等による触媒の劣化も著
しい。一方、液相法では通常100℃以下の比較的低い
温度で反応が行われるため気相法と較べて触媒の劣化等
の欠点は少ないが、反面アセチレン化合物の水素添加を
はソ完全に行うためには可成り多量の水素を用いる必要
があり、それによるブタジェンの水素添加の割合も多く
なるという難点もまた避は難い。
本発明者らは、かかる現状に鑑み、03〜.留分中のア
セチレン化合物を選択的に水素添加する方法に於いて効
果的な方法を開発すべく種々検討を重ねた結果、パラジ
ウム系触媒を用いて反応に供する原料C3−4留分中に
微量の酸素を混入させることが優れた効果を生ずること
を見い出した。パラジウム系触媒を用いて、C3−4留
分中のアセチレン化合物の選択水添を行った場合、酸素
を全く含有させないC3−4留分を用いて該反応を行っ
ても、初期的には触媒の活性、選択性は比較的良いが、
長期間用いた場合、安定性に難点がある。しかし、微量
の酸素を混入させた03〜4留分を用いた場合には触媒
の初期活性及び選択性が向上するとともに、著しく触媒
Ω安定性が向上することが認められた。
反応系中に混入させた酸素の触媒安定性向上効果への作
用機構は不明であるが、その効果は極めて顕著なもので
ある。
本発明において、反応系内に微量の酸素を混入させる方
法としては必ずしも制限はないが、実用的には、純酸素
又は酸素含有ガス、例えば空気又は酸素を含有する不活
性ガスを原料成分、例えば03〜4留分中に一定量混入
するなどがある。安全面等を考慮するととくに空気を好
適に使用できる。
反応系内に添加される酸素濃度としては、原料03〜.
留分中の濃度を基準として1 ppb −10ppmが
好ましく、とくに10 ppb〜1 ppmの範囲が好
ましい。
反応系内又は原料炭化水素留分中に添加された酸素の存
在状態については明確でないが、分子状酸素即ち原料炭
化水素中の溶存酸素、あるいはアルデヒド、過酸化物な
どの含酸素化合物に変化した状態等の形で存在すること
が予想される。また本発明の方法に於ける酸素の作用機
作についても明確でないが、次のような作用を有するた
め、顕著な効果を生ずるものと推定される。
即ち、分子状酸素が重合禁止剤として働き、触媒表面で
のポリマー副生等を防止する、又はパラジウム系触媒の
被毒物質となる03〜4留分中の成分を安定化する、又
は水素、アセチレン類の触媒表面への吸着力をコントロ
ールして触媒活性及び安定性を高める、等の作用を考え
ることが可能である0 本発明に於いて使用する触媒は主成分としてパラジウム
又はパラジウムに助触媒として他の金属塩類、例えば銅
、銀、金、錫、亜鉛、カドミウム又は鉛の無機酸塩、有
機酸塩等を含有するものが好適である。担体としては各
種金属酸化物等を用いることができるが、特にアルミナ
が好ましく、就中γ−M208、η−M 20g、θ−
U2O8などが好適である。触媒組成として担体に対す
るパラジウムの比は0.05〜5重量%、好ましくはO
,1〜2重量%であり、パラジウムに対する助触媒成分
の比は金属の原子比として0.1〜10、好ましくは0
.5〜8の範囲である。触媒の調製法としては特に制限
はなく、この種触媒について通常用いられる方法を適宜
利用すれば良い。−例を示せば次の・ような方法にて調
製できる。アルミナ担体に塩化パラジウム、硝酸パラジ
ウム、酢酸パラジウム、塩化パラジウムナトリウムなど
の酸又は水に可溶な塩類の溶液を所定量含浸させた後、
このパラジウム塩を、水素、ヒドラジン、ホルムアルデ
ヒド、ギ酸ソーダなどの適当な還元剤を用いて乾式又は
湿式法にて金属状パラジウムに還元する。次いでこの金
属状パラジウムを担持したアルミナを良く水洗して真空
乾燥する。助触媒成分を用いる場合には更にこれを前記
金属の可溶性塩類を所定の濃度に溶解した溶液に浸漬し
てこれらの塩類を担持せしめて、必要に応じて還元処理
を施し真空乾燥して所望の触媒を得る。
本発明の方法を実施する際の反応条件としては必ずしも
厳密な制限はないが、一般に次のような条件下にて行わ
れる。
反応温度が0〜80°C1好ましくは5〜60°Cの範
囲、反応圧力が2〜3oky/crlG−好ましくは、
3〜20jcg/dlGの範囲、ルとアセチレン化合物
のモル比は0.1〜15、好ましくは0.5〜10ノ範
囲、LH8Vが2〜80hr ’、好ましくは4〜40
hr−1の範囲にあって、反応系が実質的に液相を保ち
得る反応温度および反応圧力に設定される。原料炭化水
素の脱水のための前処理はLH8Vが0.1〜80hr
’、好ましくは0.1〜40hr=、その他の条件は反
応条件に準する範囲にて行われる。
本発明で用いるH2は純品であっても良く、又は不活性
ガス例えばメタンで稀釈したものでも良い。
本発明で用いるC3−4留分中の04アセチレン化合物
の含有量については特に限定はしないが、共存する各種
アセチレン化合物の合計濃度は0.5〜3wt%の範囲
でも水添除去可能である。
本発明方法を実施する際の反応型式は固定床反応であり
、液相で固定床を行なうには流下式または溢流式のいず
れも採用できる。また、反応器として、等温型または断
熱型いずれのものも使用できる。
本発明方法によると、選択水素化が促進され、アセチレ
ン類の除去率は非常に高く、かつ副反応として起る主成
分のモノ又はジオレフィンの水素化が著しく低減される
ので、その損失を最小にし、更に長期に亘って安定した
反応を維持できるというすぐれた利点がある。
以下、本発明の方法について代表的な例を示しに 更は具体的に説明する。ただし、これらは単なる例示で
あり、本発明はこれらに限定されないことは言うまでも
ない。
実施例1 (1)原料炭化水素組成 ブタン類       7.1 wt%ブテン類   
   21.6 イノブテン    243 1.3−ブタジェン 45.9 1.2−ブタジェン  0.1 エチルアセチレン  0.2 ビニルアセチレン  0.8 メチルアセチレン 微 量 プロパジエン    〃 (2)  C4留分中の酸素濃度 所定量の空気をC4留分に混入させて、酸素濃度を2.
sppmとした。
(3)水素化条件 触媒 : Pd−Pb(OH3COO)2−I’d;!
20sPb/Pd原子比−2 Pd含有率(対A720g) ”” O−35wt%温
度 :21°C 圧力 : ] Okg/crIG H2モル比:5 LH8V: 37.5 hr= この酸素を含有するC4留分及び水素化条件で04アセ
チレン類の水添除去反応を行ったときの結果を表に示す
実施例2 C2留分中の酸素濃度を0.15 ppmとした以外は
実施例1と全く同様にして水添反応を行った。
結果は表に示した。
比較例I C4留分中に酸素を全く混入させない以外は、実施例と
同様にして水添反応を行った。結果は表に示した。
反応結果 特許出願人  昭和電工株式会社 代理人 菊地精−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 炭素数3〜4のオレフィン系炭化水素を主体とする留分
    中のアセチレン系化合物をパラジウム系固体触媒の存在
    下に加圧液相条件にて選択的に水素添加する方法に於い
    て、反応系に少くともi T)pbの酸素を含有させて
    該反応を行うことを特徴とする方法。
JP19276681A 1981-12-02 1981-12-02 アセチレン化合物の選択的水素添加方法 Pending JPS5896682A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01110594A (ja) * 1987-10-23 1989-04-27 Nippon Oil Co Ltd 炭化水素類の選択的水素化方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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