JPS5910583B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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Publication number
JPS5910583B2
JPS5910583B2 JP53063370A JP6337078A JPS5910583B2 JP S5910583 B2 JPS5910583 B2 JP S5910583B2 JP 53063370 A JP53063370 A JP 53063370A JP 6337078 A JP6337078 A JP 6337078A JP S5910583 B2 JPS5910583 B2 JP S5910583B2
Authority
JP
Japan
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electrode body
case
semiconductor device
lower electrode
ring
Prior art date
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JP53063370A
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English (en)
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JPS54154969A (en
Inventor
友康 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Expired legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D8/00Diodes
    • H10D8/60Schottky-barrier diodes 

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は超高周波半導体装置の製造方法に関するもので
、とくに微小なケースの組立てを簡略化する為の改良に
関するものである。
第1図は従来の超高周波半導体装置の一例を示す断面図
で、1は半導体素子としてのダイオードであり、例えば
基板の一方電極部側にショットキバリアが形成され、他
方の電極部側にオーミック電極が形成されダイオード作
用を行なう。
2aはケー′スを形成するケース下部電極体、2bはリ
ング電極体を示し、これらはケース側壁体としてのセラ
ミック3により絶縁されている。
ここでダイオード1のオーミック電極側はハンダ4aに
よりケース下部電極体2aに熱圧着される。5はショッ
トキバリア側のリード線としてのボンディングワイア、
6はケースを形成するケース上部電極体でありハンダ4
bによりリング電極体2bに付けられる。
Ba、8bは超高周波ストリップラインに接着する為の
リード端子としてのリボンでありハンダ4c、4dによ
りケースの両端に取付けられている。ここでケース本体
の寸法は超高周波帯で用いる場合は、そのケースの容量
やリードのインダクタンスを小さくするため、極力小さ
い方が良く、具体的には1mm程度に小さくする必要が
ある。また組立て工程上ハンダ4a、4b及び(4c、
4d)の順にハンダの溶融温度を低くする必要がある。
さらに通常用いられるダイオードの接合径’は10μφ
程度となり、ボンディングワイア5は10μφのAu線
が用いられているのでボンディング強度が弱く、ケース
上部電極体6及びリボンBa、8bを付ける場合、ハン
ダをとかす為の加熱によリボンディングワイア5が浮い
て断線する・場合が非常に多い。またダイオード自身3
80℃以上の加熱をするとショットキバリアの破壊が生
ずるので一般にはそれ以下の温度でハンダ付けをする必
要がある。このように従来の組立て方法を用いた場合、
工フ程の数が多く、さらに部品の歩留まりもたかだか2
0%程度である。
本発明はこれらの欠点を解決したものであり、図面を用
いて詳細に説明する。
第2図は本発明にもとづく超高周波半導体装置ク組立て
の一例を示した断面図と平面図である。
第2図において最初からストリップラインリボンBaを
つけてしやもじ伏にしたケース下部電極体ハー9を用い
、ダイオード1のオーミツク側をハンダ44a(例えば
AuGel融点354℃)を用いて熱圧着し、10μφ
のAu線をキヤピラリ一を用いダイオード1のシヨツト
キバリア側電極部とリング電極体2bとをボンデイング
する。
ついで第3図において、リング伏のハンダ4b(例えば
Ausnl融点280℃)、ストリツプラインリボンを
つけてしやもじ伏にしたケース上部電極体10を重ねて
保持具(図示せず)に入れ、ケース上部電極体をバネで
おさえ、炉の中へ人れ、290℃程度で接着する。なお
第3図において、10aはケース上部電極体10のリー
ド端子としてのストリツプラインリボンである。さらに
第4図において、ストリツプラインリボン8a,10a
の根本を直角に曲げれば第1図と同様の半導体部品をよ
り少ない工程により組立てることができる。このように
ストリツプラインリボンをつけたケース下部電極体9を
最初の部材として半導体装置を作り始めるため、ケース
下部電極体9において第1図の2aに相当するものを薄
くしても、半導体装−置のハンドリングに支障はなく、
またストリツプラインリボンをつけた上部電極体9を用
いるため、第1図の6に相当する部分を無くしても、同
じく半導体のハンドリングに支障なく気密にでき、従つ
て全体として小さくできる。以上の方法を用いることに
より組立ての歩留まりは80%程度に上昇し、ケース長
も従来の1.3mW!から0.9m1Lと小さくなり、
周波数6〜20GHzでミクサダイオードとして用いた
場合ケースの浮遊容量の影響が小さくなりその特性の良
さを示す変換損失が従来の最も良好な特性である3.5
dBより小さく3.0dB程度のものが歩留まり良く得
られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は半導体装置の一例を示す断面図、第2図乃至第
4図は本発明にもとづく超高周波半導体装置の製造工程
を示した図である。 1・・・・・・半導体素子、2b・・・・・・リング電
極体、3・・・・・・セラミツク、4a,4b・・・・
・・ハンダ、5・・・・・・ボンデイングワイア、8a
・・・・・・ストリツプラインリボン、9・・・・・・
ケース下部電極体、10・・・・・・しやもじ型ケース
上部電極体、10a・・・・・・ストリツプラインリボ
ン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ストリップラインリボンをつけでしやもじ状にした
    ケース下部電極体及び絶縁材のケース側壁体並びにリン
    グ電極体とを用い、当該ケース下部電極体に半導体素子
    をその一つの電極部側で取り付け、且つ当該半導体素子
    を囲むように当該ケース下部電極体にケース側壁体をそ
    の一端面側で取りつけ、更に当該ケース側壁体の他端面
    側にリング電極体を取りつけたものを作る工程と、つい
    で前記半導体素子の他の電極部側と前記リング電極体と
    をリード線で接続する工程と、ついでストリップライン
    リボンをつけてしやもじ状にしたケース上部電極体を前
    記リング電極体にハンダ付けする工程と、ついでケース
    下部電極体及びケース上部電極体のリード端子部を折り
    曲げる工程とを備えていることを特徴とした半導体装置
    の製造方法。
JP53063370A 1978-05-29 1978-05-29 半導体装置の製造方法 Expired JPS5910583B2 (ja)

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JPS54154969A JPS54154969A (en) 1979-12-06
JPS5910583B2 true JPS5910583B2 (ja) 1984-03-09

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61111588U (ja) * 1984-12-24 1986-07-15

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JPS61111588U (ja) * 1984-12-24 1986-07-15

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JPS54154969A (en) 1979-12-06

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