JPS59108349A - 縦方向トランジスタ - Google Patents
縦方向トランジスタInfo
- Publication number
- JPS59108349A JPS59108349A JP57218753A JP21875382A JPS59108349A JP S59108349 A JPS59108349 A JP S59108349A JP 57218753 A JP57218753 A JP 57218753A JP 21875382 A JP21875382 A JP 21875382A JP S59108349 A JPS59108349 A JP S59108349A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- emitter
- base
- transistor
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D48/00—Individual devices not covered by groups H10D1/00 - H10D44/00
- H10D48/30—Devices controlled by electric currents or voltages
- H10D48/32—Devices controlled by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H10D48/34—Bipolar devices
- H10D48/345—Bipolar transistors having ohmic electrodes on emitter-like, base-like, and collector-like regions
Landscapes
- Bipolar Transistors (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えばモノリシク集積回路に組み込まれる縦
方向トランジスタに関する。
方向トランジスタに関する。
一般にモノリシック集積回路における縦方向トランジス
タ、例えばPNP基板トランジスタは第1図に示すよう
な構造で作られることが知られている。すなわち、P形
基板1の上に成長させたN形エピタキシャル層2のP分
離層3に限切られた領域にエミッタ端子Eを接続される
P領域4およびベース端子Bと接続される1層5が形成
され、基板の2層1とPNPトランジスタを構成してい
る。
タ、例えばPNP基板トランジスタは第1図に示すよう
な構造で作られることが知られている。すなわち、P形
基板1の上に成長させたN形エピタキシャル層2のP分
離層3に限切られた領域にエミッタ端子Eを接続される
P領域4およびベース端子Bと接続される1層5が形成
され、基板の2層1とPNPトランジスタを構成してい
る。
しかしこの構造においては、大電流時に矢印6が示すよ
うにベース近傍のエミッタに電流が集中してしまうとい
う欠点がある。このため電流容量を大きくするにはトラ
ンジスタ部の面積が大きくしなければならず歩留り低下
、原価上昇を招く。
うにベース近傍のエミッタに電流が集中してしまうとい
う欠点がある。このため電流容量を大きくするにはトラ
ンジスタ部の面積が大きくしなければならず歩留り低下
、原価上昇を招く。
本発明は上述の欠点を除去し、占有面積の小さい効率的
な縦方向トランジスタを提供することを目的とする。
な縦方向トランジスタを提供することを目的とする。
この目的は、コレクタ層の上に積層されたベース層の反
コレクタ層側の表面に露出してエミッタ領域が形成され
るものにおいて、ベース層中の工で“ ミッタ領域の下側にベース層と同導電形でより高濃度の
網目領域ならびにその網目領域に連結され前記表面に達
する領域が形成されることによって達成される。
コレクタ層側の表面に露出してエミッタ領域が形成され
るものにおいて、ベース層中の工で“ ミッタ領域の下側にベース層と同導電形でより高濃度の
網目領域ならびにその網目領域に連結され前記表面に達
する領域が形成されることによって達成される。
以下図を引用して本発明の実施例について説明する。第
2図に示す縦方向トランジスタはP形基板1に選択拡散
によりN網目領域7を形成してからN型エピタキシャル
層2を成長させ、反基板側の表面から拡散によりP分離
層3、Pエミッタ領域4および耐ベース引き出し層8を
形成する。これらの拡散工程の間に耐網目領域7は図示
のようにNベース層2の中に伸びており周縁部は1層8
と連結している。これによりベース、エミッタ間のバイ
アスはエミッタ領域4の全面にわたって有効lこ働くこ
とになる。その結果矢印9の様にエミッタ全面でトラン
ジスタが動作し、大電流を流し得ることになる。従って
トランジスタの占有面積を小さくでき、また表面の影響
を受けにくいので低電流領域のhFR低下を招きにくい
効果がある。
2図に示す縦方向トランジスタはP形基板1に選択拡散
によりN網目領域7を形成してからN型エピタキシャル
層2を成長させ、反基板側の表面から拡散によりP分離
層3、Pエミッタ領域4および耐ベース引き出し層8を
形成する。これらの拡散工程の間に耐網目領域7は図示
のようにNベース層2の中に伸びており周縁部は1層8
と連結している。これによりベース、エミッタ間のバイ
アスはエミッタ領域4の全面にわたって有効lこ働くこ
とになる。その結果矢印9の様にエミッタ全面でトラン
ジスタが動作し、大電流を流し得ることになる。従って
トランジスタの占有面積を小さくでき、また表面の影響
を受けにくいので低電流領域のhFR低下を招きにくい
効果がある。
第3図に示すようをこ本発明による網目領域7は1゛
ベース層2とコレクタ層1と境界がなく第3図に示すよ
うにベース層2の中に埋め込んでもよい。
うにベース層2の中に埋め込んでもよい。
以上述べたように本発明は縦方向トランジスタにおける
コレクタ電流のエミッタでの集中を防ぐためエミッタ領
域の下側のベース層にベース端子に接続される高濃度の
網目領域を形成するもので、これによりより効率的にト
ランジスタ動作を行わせ大電流を流せる縦方向トランジ
スタを構成することができ、特にモノリシック集積回路
に組み込
コレクタ電流のエミッタでの集中を防ぐためエミッタ領
域の下側のベース層にベース端子に接続される高濃度の
網目領域を形成するもので、これによりより効率的にト
ランジスタ動作を行わせ大電流を流せる縦方向トランジ
スタを構成することができ、特にモノリシック集積回路
に組み込
第1図は従来のモノリシックIC組み込みの縦方向PN
P )ランジスタの一例の断面図、第2図は本発明の一
実施例の断面図、第3図は異なる実施例の断面図である
。 1・・・コレクタ層、2・・・ベース層、4・・・エミ
ツタ層、7・・・網目領域、8・・・ベース引き出し層
。
P )ランジスタの一例の断面図、第2図は本発明の一
実施例の断面図、第3図は異なる実施例の断面図である
。 1・・・コレクタ層、2・・・ベース層、4・・・エミ
ツタ層、7・・・網目領域、8・・・ベース引き出し層
。
Claims (1)
- 1)コレクタ層の上に積層されたベース層に反コレクタ
層側の表面に露出してエミッタ領域が形成されるものに
おいて、ベース層中のエミッタ領域の下側でベース層と
同導電形でより高濃度の網目領域ならびにその網目領域
に連結され前記表面に達する領域が形成されたことを特
徴とする縦方向トランジスタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57218753A JPS59108349A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 縦方向トランジスタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57218753A JPS59108349A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 縦方向トランジスタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59108349A true JPS59108349A (ja) | 1984-06-22 |
Family
ID=16724871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57218753A Pending JPS59108349A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 縦方向トランジスタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59108349A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63314865A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-22 | Nippon Denso Co Ltd | 半導体装置 |
| US10340293B2 (en) | 2017-01-18 | 2019-07-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Transistor display panel including a transistor and an overlapping region of a gate line and data line |
-
1982
- 1982-12-14 JP JP57218753A patent/JPS59108349A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63314865A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-22 | Nippon Denso Co Ltd | 半導体装置 |
| US10340293B2 (en) | 2017-01-18 | 2019-07-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Transistor display panel including a transistor and an overlapping region of a gate line and data line |
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