JPS5911248A - エポキシ樹脂銅張積層板 - Google Patents

エポキシ樹脂銅張積層板

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JPS5911248A
JPS5911248A JP12014982A JP12014982A JPS5911248A JP S5911248 A JPS5911248 A JP S5911248A JP 12014982 A JP12014982 A JP 12014982A JP 12014982 A JP12014982 A JP 12014982A JP S5911248 A JPS5911248 A JP S5911248A
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copper foil
epoxy resin
copper
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silane coupling
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藤岡 厚
康夫 宮寺
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • HELECTRICITY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明aエポキシ樹脂用硬化剤としてボ+7 +p−ビ
ニルフェノール全使用した印刷配線板用エポキシ樹脂銅
張積層板に係ジ、その目的とするpJrrr銅箔と樹脂
とQJ接涜性を改良したエポキシ樹脂鋼張積層板を提供
するものである0従米、印刷配線板用ガラス布エホキシ
欄脂銅張槓層板に、エポキシ樹脂用硬化剤として、王と
してジシアンジアミドめるいtr15,5’ジタロロ4
.4′ジアミノジ2エニルメタン(以下CI−DDMと
略す)を硬化剤として使用し″C,さ1ζが。
こ0種類め銅張積層板r常態での銅箔と樹脂とCtJ接
漸性rx優nていゐが、ジシアンジアミド系でに熱分解
温度が低いという耐熱性に問題がある。又、CI−DD
IVI系でに塩酸処理佼υ銅箔引きにかし強さか低い、
熱処理後の銅箔引き汀かし可さが不光分であるという欠
点’lしている。一方硬化剤として、ポリ−p−ビニル
フェノールを使用したエポキシ樹脂鋼張積層板でに上記
の耐熱性、熱処理後の鋼箔引きにかし!;!iさが改良
でf′Lるが、塩酸処理後[F]銅衡引さにかし強さか
著しく低下するという欠点を有していた。
不発四種らに、CILらの点ケかんがみポリ−p−ビニ
ルフェノール硬化型エホキシ佃脂銅張槓層板FCおいて
、銅箔の処理全極々検討した結果1本発明r(いたつk
不発明はエホキシml脂にポリ−p−ビニルフェノール
と硬化促進剤を配付してなるエポキシ樹脂組成物全基材
V(含反させて〆得ら(Lる樹脂含浸基材の片側又に両
側に、′電解方式PC、Cり製造さn6銅陥の粗化面全
クロメート処理した欠、24時間以内にシシンカッグリ
ング剤ケ塗布した鋼泊會鋼箔粗化面か恢看囲になる様V
t厘ね加熱加圧り丸形してZ6塩酸処理後υ銅紬引き汀
がし強さお↓び熱処加俊の銅箔引きはがし瓢さともti
tt&nているポリ−p−ビニルフェノール硬化型エポ
キシ1g4脂鋼張檀層板に関するもので必るO 鹿常、ガラスエホキシ系印刷配線板用(lJ電解銅箔に
、酸性硫酸銅メッキ浴Vtよる電解方式で連続的1c陰
極回転p−ル上rC@を析出させ、crt會連紐的に剥
gift、てベース銅箔を製造する殺箔工程、およびこ
のベース銅箔■上VC史に電解方式で粒状の銅を析出さ
せる粗化処理工程、史VcNクロム酸ナトリウムでタロ
メート処理を行9防錆処理工程を経て製造さnる。不発
明にこのクロメート処理し7を後、24時間以内にクロ
メート処理した粗化圓V(シランカップリング剤を塗布
しに銅箔を11丁ゐことを1つの特敞とする。
クロメート処理後、24時間以上経過佐シランカップリ
ング剤を塗布し7cm+il箔でに、鋼薄表面J/C酸
化銅の皮膜が徐々V(厚く形成さγLるため、24時間
以上軒過後シランカップリンタ炸]葡塗布した銅箔を使
用して作成したポリーp−ビニルフェノール硬化型エポ
キシ何脂銅張積層板でに塩酸処理後の銅箔引きにがし強
さに低下してし1り〇 向、脣公昭54−54907号公報1%開昭56−11
894号公報、特開昭56−118855号公報rc 
rz 、シランカップリング剤を塗布した銅箔を使用し
′fc積1−板か開示さIしているか1本発明の様な工
程で製造さfる銅箔V(ついての白゛及になく、又、積
層叛の検知もポリ−p−ビニルフェノール硬化型エポキ
シ杓腫銅張槓層板でrJlい。
更ニ、時開11s57−87524M公報K rlI 
sクロメート処1LシランカッグリングMIJ処腫を行
った刻削が配ざ7してあるが、積〜叡の柚艙C,塩酸処
、s!俊υ組箔引きにがし強さの低下の著しいポリーp
−ビニルフェノール硬化型エポキシ#脂銅彊槓層叡でに
ない。
次rc不発明FCついて象に具体的rC説明する。
本発明VC使用する銅箔に地富エポキシダ(側餉張積層
板V(用いらiする電解銅箔に、クロメート処理後、例
えば銅箔#造メーカー等が24時向以内にシランカップ
リング剤を塗布し丸ところの銅箔である。シランカップ
リンク剤としてに例えはビニルトリメトキシシランビニ
ル(2−メトキシエトキシ)シラン、γ−タロルグロビ
  、ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、γ−(2−アミノエテル)5− アミノタロビルトリメトキシシラン、γ−(2−7ξノ
エチル)アミノン′ロビルメナルジメトキシシラン、γ
−メルカ1トグロビルトリメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシグロビルトリメトキシシラン、β−(5,4−エ
ホキシシクロヘキシル)エテルトリメトキシシラン、γ
−メタクリルオキシグロビルトリメトキシシラン、γ−
ウレイドグロビルトリエトキシシラン等がおけらnる〇 好ましくa、アミン系シランカップリング剤でるり更に
好ましくaγ−アきノグロビルトリエトキシシランであ
る。clrLc)のシランカップリング剤に1単独で用
いるのが通常でおるが2a類以上を併用して用いても差
しつかえない。
銅箔への塗布に上記シランカップリング剤を0゜ol”
−t、o%水浴液又にエタノール溶液VCシ、この溶液
で銅箔粗化110’t−ぬらし、50〜150℃で溶剤
を乾燥除去する00.01%未満だと塩酸処理後υ銅箔
引きにかし強さか低下してしまい、1%を越えるとシラ
ンカップリング剤の厚6− いノ響かtさ、逆VC銅箔引@げがし強さの低下に゛ま
ねく。
本発明VC用いらfLるエポキシ樹脂a1分子必たり平
均で2個以上のエポキシ8:會南′していfLはよ< 
、’L’f VL ?1III 眠FJないvs、Wu
えvjl  ビスフェノールAのジグリシジルエーテル
型エホキシ肯)」hl ブタジエンジエiJクギサイド
、4,4′−ジ(1゜2−エポキシエチル)シンエニル
エーテル、4.4’−ジ(エポキシエテル)ビフェニル
、レゾルシンυジグリシジルエーテル、ンロログリシン
リジクリシジルエーテル、p−アミノン1ノールのトリ
グリシジルエーテル、1,3.5− )す(1゜2−エ
ポキシエチル)ベンゼン、2.2’、4.4’−テトラ
グリシドキシベンゾフェノン、テトラダリシドギシテト
クンエニルエタン、2エノールノボラツクリホリグリシ
ジルエーテル、トリメテロールノロハンのトリグリシジ
ルエーテル、クレゾールノボラックのポリグリシジルエ
ーテル、/ リセ+7ンリトリグリシジルエーテル、7
10ゲン化とスフエノールへのジグリシジルニーデル型
エポキシ樹脂、ハロゲン化ンエノールノボシックのポリ
グリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート
、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、6,4−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環式エポキシ
樹脂、ヒダントインエポキシ樹脂等がある。
又、不発明ytおいて尚分子量ビスフェノールAジグリ
シジルエーテル型エポキシ樹脂が高粘度のため使用でき
ない様な場合、反応型変性剤としてビスフェノールA6
るいaブロム化ビスフェノールAt用い、エポキシ樹脂
として低分子墓とスフエノールAジグリシジエーテル型
エポキシ樹脂を使用することr(L!ll低枯度化を汀
かることも可能である。
硬化剤として用いらnるポリ−p−ビニル2エノールa
平均分子量がへ000〜I O,000の尚分子化合物
で、水酸基当量が+20*1佐のものが好ましい。′!
またそ(/、Jフェノール核上VC臭素、塩素等のハロ
ゲンあるいにその他QJ披換恭か導入さγしていても差
しつかえない0こrしらりポリ−p−ビニルフェノール
に丸善石油社製で、レジンMルジンMB(ブロム化ポリ
−p−ビニルフェノール)の曲品名で市販さnているO
又、本発明VCおいて、%1昭55−48216号公報
に開示さnている様に、ホリーp−ビニルシエノールと
CI−DDMの様な芳香族アミンを併用して、作莱性を
改善しても何ら支障にない0 エポキシ樹脂とポリ−p−ビニル2エノールとの配合@
@σ、1エポキシ当1ItQJエポキシ樹脂に対し、0
.6から1.2水酸基当倉のポリーp−ビニルフェノー
ルυ倉か望ましく、こl/J範囲外であると硬化して作
成さγした積層板の特性rc悪影響を及は丁0好ましく
io、9から1.0水酸基当量の範囲である0 不発明に用いらnb硬化促進剤にベンジルジメチルアミ
ン等の5級アミン類、4級アンモニウム塩類、%棟イミ
ダゾール類、アミノトリアゾール類、1,8−ジアザ−
ビシクロ(5,4,0)クンデセン−7及びその塩、三
弗化ホウ累錯塩9− 類、ピラゾール類、アミノ−ピリジン嬬、アミノキナル
ジン類、アミノキノリン類、アミノピリミジンms  
3M7オスフイン、4級ンオスンオニウム塩等がある。
硬化促進剤の咋加友t:rエボキ’7jfbf脂100
 重it 815 V(−対し、  [J、I] 1〜
5.0Xjt部力S望!L(0,O7,重賞部以下だと
硬化促進効果が発揮葛rL丁、又5.0厘友部以上だと
硬化した積層板QJ特性に悪影響を及は丁。
さらに、不発明′T″は上記エポキシ樹脂、硬化剤、硬
化促進剤の他に、必要yt応じて、町とう性何与剤、低
粘度化希釈剤、難燃剤、光項剤、顔料等を鋭加してもよ
い。
基材としてに、ガラスクロス、ガラス不織布、紙、有機
稼維布等従米知らnている基材にいずnも使用可能でお
る。
銅張積層板の作成方法a従米行わnているm剤を用いて
、乾式塗工方式で1リズレグを作成しh)”A足寸法r
(裁断後1表面に銅箔聖霊ね、鏡板rCaさんだ状態で
刀114加圧する方法が一般的である〇 10− 以下、不発明VCついて実施例をもって詐細に説明′T
る。但し、不発明に、以下の実施例に限足さn−ゐもの
でにない0 〔夾#1例1〕 酸性做酸餉メッキ浴Vtよる電解方式で、陰極回転ロー
ル上l1c−i!I!就的vC銅を析出さ+!:、こn
ケ遵絖的に剥除して65μリベース鋼箔を製造し、史V
tCCIJ上に′電解方式で粒状の銅會析出芒せて粗化
…J全作成し、更V(こ(/J相化囲に皿りロム戚すト
リウムでクロメート処理した俵、2時間後粗化1ffl
 Vt 、酢酸で川音4〜5 VL調整したγ−アミノ
グロビルトリエトキシシランの0,6%水浴液全塗布し
、120℃で10分間乾燥して水分全除去した。このシ
ランカッブリング剤塗布鋼箔を5C−Aと称する。
r:KVt%日奉ナバカイギー社装、臭素化ビス2エノ
ールA型エポキシ樹脂、商品名アラルダイト8011(
軟化点75℃、エポキシ白値49− Og/eg契累言有石21%)100厘鴛部と、九嵜石
油社装ポリーp−ビニル2エノール、商品名レジンM(
平均分子倉約5.ODD、水酸基当倉+ 20 g/ 
eq−) 24.5 省kmとBFs  ピペリジン1
.o xx部とをメチルエチルエトンに均−VC溶解さ
せ、樹脂分60嵐欝%り含浴剤ワニスを作成した。(こ
の配合でのアシルダイト8011とレジンMの配せ狛童
比μm:1である。)cQJ含溶剤ワニスケl)、2n
++++厚リガラスクロス(日東紡IRG−9020−
BZ2 f宮ekさせた後、塗工占匿160℃、塗工連
装、1.5m / m i n  ′″C1溶剤除去す
るため乾燥量エケ行い、ブリグレグを侍た。この1リグ
レグt8枚皇ね、その両側に、前述07ランカツプリン
グ剤塗布鋼箔5C−A’i厘ね、こnらを2枚の跳板に
αさみ、170℃′c60分間加熱加圧し、1.6mm
厚υ銅侵槓層板MCL−A會侍た。このMCL−AUJ
常態での銅箔引きにかし強き(JIs法)、塩酸処8!
後および熱処理後ClJ銅范引き0がし強さを測定した
但し、塩酸処理後空調箔引きぼかし強きとa′@箔ライ
う巾0.8mn+LtJ試販片ケ案崗にて18%塩敗水
mavt−+時Ilj浸漬した仮測定した引きにがし旨
さをいう。又熱処理後<lJ銅箔引きにがし強さとに銅
箔ライン巾()、8mmの試験片を180°C% 48
時間苅1勢オーブンにて処理した候、測定しfc鋼陥引
@汀がし強さをい9oこnらの幀釆全衣1 ycボ丁か
、5C−A銅箔會使用し罠MCL−Art埴敵処理3工
び熱処理綬の銅箔引き汀がし強さに優nている。
〔実施例2〕 冥M ?lJ I VCおいてクロメート処理後シラン
処理丁ゐ1でり経過時間か24時間であること以外?コ
同様にし−Cシランカッグリ/グ剤塗布餉舶5C−B會
作成し、更yc実施例1と同様にして5C−Bケ用いた
MCL−B′!l−作成した。このMCL−Bの銅箔引
きaがし特性全表1に示す0IVi CL −Bに榎歌
処理後:J?工び熱処理佐υ鋼小引きはがし頬さVCC
fでいる。
〔比較?111〕 実施例i VLおいてクロメート処堆俊シンン処理Tる
1での経過時間か48時間でめる以外に15− 同様にして7ランカツプリング剤塗布鋼箔5C−Cを作
成し、更に実施例1と同様にして5C−Cを用い7’t
MCL−Ck作成しLoこUMCL−Cの銅箔引@にか
し特性全表1に示す。MCL−Cf’r、塩酸処理後の
銅箔引さaがし強さがやや低い。
〔比較例2〕 実施例1Vcおいてクロメート処理駿シラン処理する1
でC/J経過時間が1ケ月間″T:ある以外に同様VC
してシランカップリング剤塗布銅陥5C−D全作成し、
史VC実施例1と同様にしてSC−りを用いたMCL−
Dを作成した。このMCL−Dの銅箔引きにがし特性を
表1に示す。MCL −D tr1%塩酸処理俊■銅箔
引きにかし、強さが低い。
〔比較例6〕 シランカッブリング剤全塗布していない銅箔C−O會用
いて実施例1と同様VC(、、てMCL−Eを作成した
。こりMCL−E(lJ鋼り引きにかし特性を表1に示
す。M CL −E rx塙酸処理俊14− の銅箔引さa刀5し強さが濡しく低い。
〔比較例4〕 アラルダイト8011、+ Oo、*型部と、CI−0
0M15.6厘M部と2エテル4メチルイミダゾール0
.21首部とtメチルエテルケト/VC浴7!f式ゼ、
樹脂分60虚輩%り宮浴剤ソニス乞作成した0このワニ
ス忙用いて夾施?u1と回イ’ipKしてM CL −
F全作成した。(便用銅箔aSC−A)coMcL−F
ca痢1’n引aiかL%1’lE’に衣1i/c示す
oWiCL−FtrJ’?6施例1のMCL −A I
L比べ熱処理後の銅箔引きにかし強さが低い。
〔実施?i1.5) アラダイトso+i、iooxm部とレジンM12.6
jtj:1都とCI−DDM6.8亘に部と、BFs 
ピペリジン1.0 電量mと會メテルエチルクトンVC
浴解させ、樹脂分60皇倉%υ宮浴剤フェス會作成した
。(アラルダイト8011、レジンM、CI−DDM(
tJ配普尚駕比げ1: O,S=0.5である。)この
ワニスを用いて、実施例1と同様にしてMCL−G全作
成した。(便用銅箔1−Is C−A ) CctJM
CL−Go銅銅箔trzがし特性を表I VC示す。M
CL−Gに塩酸処理後お工び熱処理後の銅箔引きにがし
強さに優nている。
〔比較例5〕 不比較例にワニス申fLシランカツノリング剤全含有さ
せた揚台の比較例である。
アラルダイト8011.100!童都、レジンM24.
51fk部、BFs  ピペリジン1.I]mtii部
、γ−アミノグロビルトリエトキシシラン1゜5重量部
(樹脂系VC対し1.0M霊%の割合)をメテルエテル
クトンに均−V(浴屏させ、樹脂分60皇倉%の含済剤
ワニスを作成した0こ(o j4−浴剤ワニス音用いて
、便用銅箔か5C−AQJかわB r、rcシランカッ
プリング剤を塗布していlい鋼箔C−0を用いること以
外に実施例1と同様rCして、MCL−Hk作成し7’
mo CGJMCL−H(lJ#l箔引きにがし特性全
表1に示す。MCL−HO実施?lJ 1すMCL−A
に比べ塩酸処理後υ給箔引@σかし強さが低い。
17− 18− 以上説明して@fcLうVC,本発明υクロメート処理
後24時間以内VCシランカッグリング剤を塗布し′f
r−銅箔を便用したホリーp、−ビニルフエノール硬化
型エポキシ側BFI銅張槓層板a1埴酸処理後鋼箔引き
にがし強さの低下がなく、熱処理後CL)銅箔引きにが
し会式も優γしており、その工業的1I1111直a人
である。
代理人弁理士 若 林 邦 彦 19− 264−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 エポキシ欄月旨Vtポリーp−ヒ゛ニルフヱノー
    ルと硬化促進剤ケ配侶してなるエホキシ樹脂粗fi′i
    、物を基材に言凌させて得らnる樹脂含浸基材υ片&両
    側に、銅箔の租化面びロメート処理した佐24時間以同
    VCシラン刀ッグリング剤ケ塗布した銅箔會銅箔粗化面
    か接層[I]1rCなる様に11ね、加熱加圧成形して
    なるエポキシ拘脂銅張槓層叡。 2、シランカップリング剤かアミン糸シランカップリン
    グ剤でめる特許請求の範囲第1項記載のエポキシ樹脂鋼
    張積層板。 3、シランカップリンク剤がγ−アミツブpピルトリエ
    トキシシラ/である脣許晶求の範囲第1項記載のエポキ
    シ樹脂鋼張積層板。
JP12014982A 1982-07-09 1982-07-09 エポキシ樹脂銅張積層板 Granted JPS5911248A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60256728A (ja) * 1984-06-01 1985-12-18 Mitsubishi Electric Corp 高周波加熱調理器
JPS63132043A (ja) * 1986-11-21 1988-06-04 日立化成工業株式会社 銅張積層板の製造方法

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