JPS6362795A - 平版印刷版用支持体の製造方法 - Google Patents
平版印刷版用支持体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6362795A JPS6362795A JP20838186A JP20838186A JPS6362795A JP S6362795 A JPS6362795 A JP S6362795A JP 20838186 A JP20838186 A JP 20838186A JP 20838186 A JP20838186 A JP 20838186A JP S6362795 A JPS6362795 A JP S6362795A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- treatment
- silicate
- plate
- aluminum
- printing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- -1 for example Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 abstract description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 abstract description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052915 alkaline earth metal silicate Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 5
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 5
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 229910052914 metal silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSJKGGMUJITCBW-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybutanal Chemical compound CC(O)CC=O HSJKGGMUJITCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLPUXJIIRIWMSQ-QPJJXVBHSA-N 2-[(e)-3-phenylprop-2-enylidene]propanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(C(O)=O)=C\C=C\C1=CC=CC=C1 BLPUXJIIRIWMSQ-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Polymers OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RCQOZDBNJBCHOW-UHFFFAOYSA-L C(C)(=O)[O-].C[Al+2].C(C)(=O)[O-] Chemical compound C(C)(=O)[O-].C[Al+2].C(C)(=O)[O-] RCQOZDBNJBCHOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XFBXDGLHUSUNMG-UHFFFAOYSA-N alumane;hydrate Chemical class O.[AlH3] XFBXDGLHUSUNMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 210000004709 eyebrow Anatomy 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- KYKNRZGSIGMXFH-ZVGUSBNCSA-M potassium bitartrate Chemical compound [K+].OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O KYKNRZGSIGMXFH-ZVGUSBNCSA-M 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229940111695 potassium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000001476 sodium potassium tartrate Substances 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001433 sodium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229960002167 sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011004 sodium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は平版印刷版用支持体に関するものであり、特に
改良された親水層を有する、陽極酸化されたアルミニウ
ム板よりなる平版印刷版用支持体に関するものである。
改良された親水層を有する、陽極酸化されたアルミニウ
ム板よりなる平版印刷版用支持体に関するものである。
従来、平版印刷版には、アルミニウム板上に感光性組成
物を薄層状に塗設した所謂PS版があるが、上記のアル
ミニウム板は通常ブラシダレイン法やポールグレイン法
のごとき機械的な方法や電解グレイン法のごとき電気化
学的方法あるいは両者を組合わせた方法などの粗面化処
理に付され、その表面が梨地状にされたのち、酸または
アルカリ等の水溶液によりエツチングされ、さらに陽極
酸化処理を経たのち所望により親水化処理が施されて平
版印刷版用支持体とされ、この支持体上に感光層が設け
られてPS版(感光性平版印刷版)とされる。このPS
版は、通常、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施し
て平版印刷版とされ、これを印刷機に取り付けて印刷す
る。
物を薄層状に塗設した所謂PS版があるが、上記のアル
ミニウム板は通常ブラシダレイン法やポールグレイン法
のごとき機械的な方法や電解グレイン法のごとき電気化
学的方法あるいは両者を組合わせた方法などの粗面化処
理に付され、その表面が梨地状にされたのち、酸または
アルカリ等の水溶液によりエツチングされ、さらに陽極
酸化処理を経たのち所望により親水化処理が施されて平
版印刷版用支持体とされ、この支持体上に感光層が設け
られてPS版(感光性平版印刷版)とされる。このPS
版は、通常、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施し
て平版印刷版とされ、これを印刷機に取り付けて印刷す
る。
しかしながら上記の平版印刷版において、ポジ作用の2
3版を像露光、現像して得られた平版印刷版の非画像部
には感光層中に含まれる物質が不可逆的に吸着し、非画
像部を汚染するため、修正工程で画像部と非画像部の識
別が困難であったり、修正跡が明瞭に残り不均一な版面
となり、その程度がひどくなると汚れとなるため印刷版
として使用できなくなるという問題があった。
3版を像露光、現像して得られた平版印刷版の非画像部
には感光層中に含まれる物質が不可逆的に吸着し、非画
像部を汚染するため、修正工程で画像部と非画像部の識
別が困難であったり、修正跡が明瞭に残り不均一な版面
となり、その程度がひどくなると汚れとなるため印刷版
として使用できなくなるという問題があった。
これを改善するため、陽極酸化処理したアルミニウム支
持体表面を米国特許第3.181.461号明細書に記
載されているようなアルカリ金属けい酸塩中に浸漬する
方法、米国特許第3.860.426号明細書に記載さ
れているような、水溶性金属塩を含む親水性セルロース
の下塗り法、又は英国特許第2、098.627号公報
に記載されているようなアリールスルホン酸ナトリウム
の下塗り法等の方法が提案されている。このような処理
を施すことによって、上述した非画像部の汚染を防止し
て印刷物に“汚れ”が生じないようにすることができる
が、その反面印刷物の耐刷性が、上記処理を施さない場
合の30〜80%に減少するという新たな問題が伴う欠
点があった。
持体表面を米国特許第3.181.461号明細書に記
載されているようなアルカリ金属けい酸塩中に浸漬する
方法、米国特許第3.860.426号明細書に記載さ
れているような、水溶性金属塩を含む親水性セルロース
の下塗り法、又は英国特許第2、098.627号公報
に記載されているようなアリールスルホン酸ナトリウム
の下塗り法等の方法が提案されている。このような処理
を施すことによって、上述した非画像部の汚染を防止し
て印刷物に“汚れ”が生じないようにすることができる
が、その反面印刷物の耐刷性が、上記処理を施さない場
合の30〜80%に減少するという新たな問題が伴う欠
点があった。
また陽極酸化皮膜が存在するために生じる上記の欠点を
改善するために、特開昭54−128453号公報及び
特開昭55−28400号公報には、陽極酸化皮膜を形
成する電解液中のアルミニウムイオン濃度を10〜25
g/12と著しく高くするか又は、硫酸とリン酸の混合
電解液中で陽極酸化する方法が開示されている。。しか
しながらこの方法では、スケールが生じ易くなり、廃液
処理する場合のスラッジ(A I (DH) 3)も多
くなり、また硫酸とリン酸両者の酸濃度の管理に非常に
労力がかかり、製造適性に劣るという欠点があった。さ
らに高電流密度で陽極酸化すると、皮膜が著しく成長す
る、いわゆる“やけ”と称される不均一な陽極酸化皮膜
が形成されることもあった。
改善するために、特開昭54−128453号公報及び
特開昭55−28400号公報には、陽極酸化皮膜を形
成する電解液中のアルミニウムイオン濃度を10〜25
g/12と著しく高くするか又は、硫酸とリン酸の混合
電解液中で陽極酸化する方法が開示されている。。しか
しながらこの方法では、スケールが生じ易くなり、廃液
処理する場合のスラッジ(A I (DH) 3)も多
くなり、また硫酸とリン酸両者の酸濃度の管理に非常に
労力がかかり、製造適性に劣るという欠点があった。さ
らに高電流密度で陽極酸化すると、皮膜が著しく成長す
る、いわゆる“やけ”と称される不均一な陽極酸化皮膜
が形成されることもあった。
さらに、電解液中の酸濃度が低いため、形成した陽極酸
化皮膜の多孔性が著しく減少し、そのため感光層と接着
が十分でなく耐剛性が80〜90%に低下するという欠
点があった。
化皮膜の多孔性が著しく減少し、そのため感光層と接着
が十分でなく耐剛性が80〜90%に低下するという欠
点があった。
本発明者等は、上記問題を解決する方法を特願昭61−
120675号で提案した。すなわち、陽極酸化処理を
施し、次いで金属珪酸塩による親水化処理を施し、その
後水蒸気もしくは60〜100℃の水又は60〜100
℃の希薄アルカリ溶液で処理する平版印刷版用支持体の
製造方法である。
120675号で提案した。すなわち、陽極酸化処理を
施し、次いで金属珪酸塩による親水化処理を施し、その
後水蒸気もしくは60〜100℃の水又は60〜100
℃の希薄アルカリ溶液で処理する平版印刷版用支持体の
製造方法である。
この下地処理により金属珪酸塩の持つ親水性の特徴を残
し、且つ密着力も強化される事がわかっている。しかし
印刷条件によりその耐刷力の変動が太き(、金属珪酸塩
による親水化処理を施こしてない基板に比べ耐刷力が劣
る欠点があった。また、親水性物質を表面に施す方法と
して特開昭53−109705号では陽極酸化皮膜生成
前に親水性中間層を設ける事を提案しているが、この方
法では、親木層の表面への生成は不充分でありまた耐刷
力も若干劣る傾向が見られる。
し、且つ密着力も強化される事がわかっている。しかし
印刷条件によりその耐刷力の変動が太き(、金属珪酸塩
による親水化処理を施こしてない基板に比べ耐刷力が劣
る欠点があった。また、親水性物質を表面に施す方法と
して特開昭53−109705号では陽極酸化皮膜生成
前に親水性中間層を設ける事を提案しているが、この方
法では、親木層の表面への生成は不充分でありまた耐刷
力も若干劣る傾向が見られる。
本発明の目的は、耐刷性を低下させず、更に非画像部の
汚れ難くい平版印刷版用支持体を提供することである。
汚れ難くい平版印刷版用支持体を提供することである。
本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討した結
果、本発明をなすに至ったものであって、すなわち本発
明は、アルミニウム板を砂目立て処理した後、該表面の
少くとも一方にアルミニウムの水和物を形成し、その後
その表面に珪酸塩処理を施し、次いで陽極酸化処理を行
なう事を特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法であ
る。
果、本発明をなすに至ったものであって、すなわち本発
明は、アルミニウム板を砂目立て処理した後、該表面の
少くとも一方にアルミニウムの水和物を形成し、その後
その表面に珪酸塩処理を施し、次いで陽極酸化処理を行
なう事を特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法であ
る。
以下、本発明について、順を追って詳しく説明する。
本発明において用いられるアルミニウム板は、アルミニ
ウムを主成分とする純アルミニウムや微量の異原子を含
むアルミニウム合金等の板状体である。この異原子は、
珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛
、ビスマス、ニッケル、チタンなどであり、合金組成と
しては、高々10重量%以下の含有率のものである。本
発明に好適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、
完全に純粋なアルミニウムは、製錬技術上製造が困難で
あるので、できるだけ異原子を含まないものがよい。又
、上述した程度の含有率のアルミニウム合金であれば、
本発明に適用しうる素材ということができる。
ウムを主成分とする純アルミニウムや微量の異原子を含
むアルミニウム合金等の板状体である。この異原子は、
珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛
、ビスマス、ニッケル、チタンなどであり、合金組成と
しては、高々10重量%以下の含有率のものである。本
発明に好適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、
完全に純粋なアルミニウムは、製錬技術上製造が困難で
あるので、できるだけ異原子を含まないものがよい。又
、上述した程度の含有率のアルミニウム合金であれば、
本発明に適用しうる素材ということができる。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その
組成が特定されるものではな〈従来公知、公用の素材の
ものを適宜利用することができる。
組成が特定されるものではな〈従来公知、公用の素材の
ものを適宜利用することができる。
本発明に用いられるアルミニウム板の厚さは、およそ0
.1關〜0.5 mm程度である。砂目立て処理に先立
ってアルミニウム板表面の圧延油を除去するため、所望
により界面活性剤又はアルカリ性水溶液による脱脂処理
が施される。その後上記のアルミニウム板には、砂目立
処理が行われる。
.1關〜0.5 mm程度である。砂目立て処理に先立
ってアルミニウム板表面の圧延油を除去するため、所望
により界面活性剤又はアルカリ性水溶液による脱脂処理
が施される。その後上記のアルミニウム板には、砂目立
処理が行われる。
砂目立て処理方法には、機械的に表面を粗面化する方法
、電気化学的に表面を溶解する方法及び化学的に表面を
選択溶解させる方法がある。機械的に表面を粗面化する
方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト
研暦法、パフ研磨法等と称せられる公知の方法を用いる
ことができる。
、電気化学的に表面を溶解する方法及び化学的に表面を
選択溶解させる方法がある。機械的に表面を粗面化する
方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト
研暦法、パフ研磨法等と称せられる公知の方法を用いる
ことができる。
また電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液
中で交流又は直流により、行う方法がある。
中で交流又は直流により、行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組合わせた方法も利用することができる。
ように両者を組合わせた方法も利用することができる。
このように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエツチング処理及び中和処理される。
てアルカリエツチング処理及び中和処理される。
この後、本発明の特徴であるアルミニウムの水和物形成
の為の処理を行なう。この水和物形成は水蒸気もしくは
、60〜100℃の水又は60〜100℃の希薄アルカ
リ溶液浸漬処理で行なう事が出来るが、60〜100℃
の水による処理が好ましい。これら処理によって、アル
ミニウム表面にアルミニウムの水和物(ベーマイト又は
パイヤライト)を形成させることで、その後行なう珪酸
塩による親水化処理の効果を高め(吸着量を増大させる
)、また更に次に行なう陽極酸化処理により画像部と強
固な密着力を形成させる表面をもつ平版印刷版用支持体
が得られる。水蒸気による処理を行なう場合、その温度
は、100〜120℃が好ましい。また希薄アルカリ溶
液はpHが7.5〜12.5までの範囲が好ましく、こ
のpH範囲であれば、どのようなアルカリ剤を用いても
よい。代表的なアルカリ剤としては、M(OH)−、M
(CO3)、、、M (CO,C00)、、、M (B
O*) 、15Mm (P(]+)の一般式で示される
水酸化物、炭酸塩、酢酸塩等が用いられる(ここでMは
アンモニア、アルカリ金属及びアルカリ土類金属を示す
。またn及びmは1〜3の整数である)。
の為の処理を行なう。この水和物形成は水蒸気もしくは
、60〜100℃の水又は60〜100℃の希薄アルカ
リ溶液浸漬処理で行なう事が出来るが、60〜100℃
の水による処理が好ましい。これら処理によって、アル
ミニウム表面にアルミニウムの水和物(ベーマイト又は
パイヤライト)を形成させることで、その後行なう珪酸
塩による親水化処理の効果を高め(吸着量を増大させる
)、また更に次に行なう陽極酸化処理により画像部と強
固な密着力を形成させる表面をもつ平版印刷版用支持体
が得られる。水蒸気による処理を行なう場合、その温度
は、100〜120℃が好ましい。また希薄アルカリ溶
液はpHが7.5〜12.5までの範囲が好ましく、こ
のpH範囲であれば、どのようなアルカリ剤を用いても
よい。代表的なアルカリ剤としては、M(OH)−、M
(CO3)、、、M (CO,C00)、、、M (B
O*) 、15Mm (P(]+)の一般式で示される
水酸化物、炭酸塩、酢酸塩等が用いられる(ここでMは
アンモニア、アルカリ金属及びアルカリ土類金属を示す
。またn及びmは1〜3の整数である)。
またグルコン酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム、酒石酸
カリウムなどのアルカリ性を機酸塩も使用でき、またエ
タノールアミンなどのような有機アミンを用いることも
できる。
カリウムなどのアルカリ性を機酸塩も使用でき、またエ
タノールアミンなどのような有機アミンを用いることも
できる。
水又は希薄なアルカリ溶液による処理の場合、処理液温
度が60℃より低いと長時間処理しても十分な効果が得
られず、耐刷力の低い印刷版しか得られない。従って、
処理温度は60〜100℃とされ、希薄なアルカリ水溶
液を使用する場合には多少低めの温度、即ち60〜80
℃が好ましい。
度が60℃より低いと長時間処理しても十分な効果が得
られず、耐刷力の低い印刷版しか得られない。従って、
処理温度は60〜100℃とされ、希薄なアルカリ水溶
液を使用する場合には多少低めの温度、即ち60〜80
℃が好ましい。
一方、処理時間は水蒸気による処理および60〜100
℃の水又は60〜100℃の希薄なアルカリ水溶液によ
る処理のいずれの場合においても10秒以上が適当であ
り、10秒〜2分の範囲が特に好ましい。
℃の水又は60〜100℃の希薄なアルカリ水溶液によ
る処理のいずれの場合においても10秒以上が適当であ
り、10秒〜2分の範囲が特に好ましい。
この様な処理によりアルミニウムの水和物を形成した後
、米国特許第2.714.066号公報及び同第3、1
81.461号公報の各明細書に記されている様にアル
カリ金属シリケート例えば珪酸ナトリウムによる浸漬方
法でのシリケート眉生成を行うか、または、特開昭60
−194095号に示されるアルカリ土類金属シリケー
ト処理を行う。
、米国特許第2.714.066号公報及び同第3、1
81.461号公報の各明細書に記されている様にアル
カリ金属シリケート例えば珪酸ナトリウムによる浸漬方
法でのシリケート眉生成を行うか、または、特開昭60
−194095号に示されるアルカリ土類金属シリケー
ト処理を行う。
次にこのアルミニウム板は陽極酸化処理に付される。陽
極酸化処理に用いられる電解質としては多孔性酸化皮膜
を形成するものならば使用することができ、一般的には
硫酸、りん酸、しゅう酸、クロム酸あるいはそれらの混
酸が用いられ−それらの電解質の濃度は電解質の種類に
よって適宜法められる。陽極酸化の処理条件は用いる電
解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般
的には電解質の温度が1〜80重量%溶液、液温は5〜
70℃、電流密度5〜60人/dm’ 、電圧1〜10
0■電解時間10秒〜50分の範囲にあれば適当である
。
極酸化処理に用いられる電解質としては多孔性酸化皮膜
を形成するものならば使用することができ、一般的には
硫酸、りん酸、しゅう酸、クロム酸あるいはそれらの混
酸が用いられ−それらの電解質の濃度は電解質の種類に
よって適宜法められる。陽極酸化の処理条件は用いる電
解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般
的には電解質の温度が1〜80重量%溶液、液温は5〜
70℃、電流密度5〜60人/dm’ 、電圧1〜10
0■電解時間10秒〜50分の範囲にあれば適当である
。
陽極酸化皮膜の量は0.1〜10g/m’が好適である
がより好ましくは1〜6 g / m’の範囲である。
がより好ましくは1〜6 g / m’の範囲である。
このようにして得られた平版印刷版用支持体の上には、
23版(Pre −3ensitized Plate
の略称)の感光層として、従来より知られている感光層
を設けて、感光性平版印刷版を得ることができ、これを
製版処理して得た平版印刷版は、優れた性能を有してい
る。
23版(Pre −3ensitized Plate
の略称)の感光層として、従来より知られている感光層
を設けて、感光性平版印刷版を得ることができ、これを
製版処理して得た平版印刷版は、優れた性能を有してい
る。
上記の感光層の組成物としては、露光の前後で現像液に
対する溶解性又は膨潤性が変化するものならば使用でき
る。以下、その代表的なものについて説明する。
対する溶解性又は膨潤性が変化するものならば使用でき
る。以下、その代表的なものについて説明する。
■ ポジ作用型感光性ジアゾ化合物としては、特公昭4
3−28−403号公報に記載されているベンゾキノン
−1,2−ジアジドスルホン酸クロリドとポリヒドロキ
シフェニルとのエステル又はナフトキノン−1,2−ジ
アジドスルホン酸クロリドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルが最も好ましいものである。その他の比
較的好適な0−キノンジアジド化合物としては、米国特
許第3.046.120号及び同第3.188.210
号の各明細書中に記載されているベンゾキノン−1,2
−ジアジドスルホン酸クロリド又はナフトキノン−1゜
2−ジアジドスルホン酸クロリドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂とのエステルがある。
3−28−403号公報に記載されているベンゾキノン
−1,2−ジアジドスルホン酸クロリドとポリヒドロキ
シフェニルとのエステル又はナフトキノン−1,2−ジ
アジドスルホン酸クロリドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルが最も好ましいものである。その他の比
較的好適な0−キノンジアジド化合物としては、米国特
許第3.046.120号及び同第3.188.210
号の各明細書中に記載されているベンゾキノン−1,2
−ジアジドスルホン酸クロリド又はナフトキノン−1゜
2−ジアジドスルホン酸クロリドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂とのエステルがある。
また、特開昭56−17345号公報で記載されている
ような酸により分解するオルトカルボン酸エステルくり
返し単位を有するポリマー化合物、特開昭60−102
47号公報で記載されているような酸により分解するシ
リルエステル基を含有する化合物又は特開昭60−37
549.60−121446号公報で記載されているよ
うな酸により分、解するシリルエステル基を含有する化
合物と光照射により酸を生成する化合物とを組み合わせ
た組成物、並びに米国特許第3.849.137号明細
書に記載されている○−ニトロカルビノールエステル基
を含有する化合物が有用である。
ような酸により分解するオルトカルボン酸エステルくり
返し単位を有するポリマー化合物、特開昭60−102
47号公報で記載されているような酸により分解するシ
リルエステル基を含有する化合物又は特開昭60−37
549.60−121446号公報で記載されているよ
うな酸により分、解するシリルエステル基を含有する化
合物と光照射により酸を生成する化合物とを組み合わせ
た組成物、並びに米国特許第3.849.137号明細
書に記載されている○−ニトロカルビノールエステル基
を含有する化合物が有用である。
上述のような化合物又は組成物はそれだけで感光層を構
成するが、アルカリ水に可溶な樹脂を結合剤〈バインダ
ー)としてこの種の樹脂と共に使用される。このアルカ
リ水に可溶性の樹脂としては、この性質を有するノボラ
ック樹脂があり、たとえばフェノールホルムアルデヒド
樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−t−ブチ
ルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール変性
キシレン樹脂、フェノール変性キシレン・メシチレン樹
脂などである。
成するが、アルカリ水に可溶な樹脂を結合剤〈バインダ
ー)としてこの種の樹脂と共に使用される。このアルカ
リ水に可溶性の樹脂としては、この性質を有するノボラ
ック樹脂があり、たとえばフェノールホルムアルデヒド
樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−t−ブチ
ルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール変性
キシレン樹脂、フェノール変性キシレン・メシチレン樹
脂などである。
その他の有用なアルカリ水可溶性樹脂としてポリヒドロ
キシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン化(
メタ)アクリル酸と他のビニル化合物とのコポリマーを
挙げることができる。このようなO−キノンジアジド化
合物とアルカリ水に可溶性の樹脂からなる組成物中のO
−キノンジアジド化合物の量は、10〜50重量%の範
囲内にあり、通常20〜40重量%程度の量比とされる
。
キシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン化(
メタ)アクリル酸と他のビニル化合物とのコポリマーを
挙げることができる。このようなO−キノンジアジド化
合物とアルカリ水に可溶性の樹脂からなる組成物中のO
−キノンジアジド化合物の量は、10〜50重量%の範
囲内にあり、通常20〜40重量%程度の量比とされる
。
又0−キノンジアジド化合物からなる組成物中には、感
度を高めるために環状酸無水物、画像着色剤としての染
料や他の所望の増量剤(ブイラー)などを適宜加えるこ
とができる。
度を高めるために環状酸無水物、画像着色剤としての染
料や他の所望の増量剤(ブイラー)などを適宜加えるこ
とができる。
■ ジアゾ樹脂とバインダーとからなる感光組成物。
ネガ作用型感光性ジアゾ化合物としては米国特許第2.
063.631号及び同第2.667、415号の各明
細書に開示されているジアゾニウム塩とアルドールやア
セタールのような反応性カルボニル基を含有する有機縮
合剤との反応生成物であるジフェニルアミン−p−ジア
ゾニウム塩とフォルムアルデヒドとの縮合生成物(所謂
感光性ジアゾ樹脂)が好適に用いられる。この他の有用
な縮合ジアゾ化合物は米国特許第3.679.419号
、英国特許第1、312.925号、同1.312.9
26号の各明細書等に開示されている。これらの型の感
光性ジアゾ化合物は、通常水溶性無機塩の型で得られ、
従って水溶液から塗布することができる。又、これらの
水溶性ジアゾ化合物を英国特許第1.280.885号
明細書:I−開示された方法により1個又はそれ以上の
フェノール性水酸基、スルホン酸基又はその両者を有す
る芳香族又は脂肪族化合物と反応させ、その反応生成物
である実質的に水不溶性の感光性のジアゾ樹脂を使用す
ることもできる。
063.631号及び同第2.667、415号の各明
細書に開示されているジアゾニウム塩とアルドールやア
セタールのような反応性カルボニル基を含有する有機縮
合剤との反応生成物であるジフェニルアミン−p−ジア
ゾニウム塩とフォルムアルデヒドとの縮合生成物(所謂
感光性ジアゾ樹脂)が好適に用いられる。この他の有用
な縮合ジアゾ化合物は米国特許第3.679.419号
、英国特許第1、312.925号、同1.312.9
26号の各明細書等に開示されている。これらの型の感
光性ジアゾ化合物は、通常水溶性無機塩の型で得られ、
従って水溶液から塗布することができる。又、これらの
水溶性ジアゾ化合物を英国特許第1.280.885号
明細書:I−開示された方法により1個又はそれ以上の
フェノール性水酸基、スルホン酸基又はその両者を有す
る芳香族又は脂肪族化合物と反応させ、その反応生成物
である実質的に水不溶性の感光性のジアゾ樹脂を使用す
ることもできる。
また、特開昭56−121031号に記載されているよ
うにヘキサフルオロ燐酸塩または、テトラフッCオワ硼
酸塩との反応生成物として使用することもできる。
うにヘキサフルオロ燐酸塩または、テトラフッCオワ硼
酸塩との反応生成物として使用することもできる。
そのほか、英国特許第1.312.925号明細書に記
載されているジアゾ樹脂も好ましい。
載されているジアゾ樹脂も好ましい。
このようなジアゾ樹脂は、バインダーと共に用いられる
。好ましいバインダーは酸価10〜200を有する有機
高分子重合体であり、具体例としては、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須の重合
成分として含む共重合体、例えば米国特許第4.123
.276号に記されている様な2−ヒドロキシエチルア
クリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート
、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリル、アクリ
ル酸またはメタクリル酸および必要に応じて更に他の共
重合しうるモノマーとの3元または4元共重合体、特開
昭53−120903号に記載されている様な末端がヒ
ドロキシ基であり、かつジカルボン酸エステル残基を含
む基でエステル化されたアクリル酸またはメタクリル酸
、アクリル酸またはメタクリル酸、および必要に応じて
更に他の共重合しろるモノマーとの共重合体、特開昭5
4−98614号に記載されている様な芳香族性水酸基
を末端に有する単量体(例えばN−(4−ヒドロキシフ
ェニル)メタクリルアミドなど)、アクリル酸またはメ
タアクリル酸、及び更に必要に応じて他の共重合可能な
モノマーの少なくとも1つとの共重合体、特開昭56−
4144号に記載されている様なアルキルアクリレート
またはメタクリレート、アクリロニトリルまたはメタク
リロニトリル、および不飽和カルボン酸よりなる共重合
体が含まれる。また酸性ポリビニルアルコール誘導体、
酸性セルロース誘導体も有用である。
。好ましいバインダーは酸価10〜200を有する有機
高分子重合体であり、具体例としては、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須の重合
成分として含む共重合体、例えば米国特許第4.123
.276号に記されている様な2−ヒドロキシエチルア
クリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート
、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリル、アクリ
ル酸またはメタクリル酸および必要に応じて更に他の共
重合しうるモノマーとの3元または4元共重合体、特開
昭53−120903号に記載されている様な末端がヒ
ドロキシ基であり、かつジカルボン酸エステル残基を含
む基でエステル化されたアクリル酸またはメタクリル酸
、アクリル酸またはメタクリル酸、および必要に応じて
更に他の共重合しろるモノマーとの共重合体、特開昭5
4−98614号に記載されている様な芳香族性水酸基
を末端に有する単量体(例えばN−(4−ヒドロキシフ
ェニル)メタクリルアミドなど)、アクリル酸またはメ
タアクリル酸、及び更に必要に応じて他の共重合可能な
モノマーの少なくとも1つとの共重合体、特開昭56−
4144号に記載されている様なアルキルアクリレート
またはメタクリレート、アクリロニトリルまたはメタク
リロニトリル、および不飽和カルボン酸よりなる共重合
体が含まれる。また酸性ポリビニルアルコール誘導体、
酸性セルロース誘導体も有用である。
l
■ 重合体の主鎖又は側鎖に−CH=CH−C−基を含
む高分子化合物からなる組成物 重合体主鎖又は側鎖に感光性基として −CH=CH−C−を含むポリエステル類、ポリアミド
類、ポリカーボネート類のような感光性重合体を主成分
とするものく例えば米国特許第3、030.208号、
同第3.707.373号及び同第3.453□237
号の各明細書に記載されているような化合物);シンナ
ミリデンマロン酸等の(2−プロベリデン)マロン酸化
合物及び二官能性グリコール類から誘導され2感光性ポ
リエステル類を主成分としだもの(例えば米国特許第2
.956.878号及び同第3、173.787号の各
明細書に記載されているような感光性重合体);ポリビ
ニールアルコール、澱粉、セルロース及びその類似物の
ような水酸基含有重合体のケイ皮酸エステル類(例えば
米国特許第2、690.966号、同第2.752.3
72号、同第2.732.301号等の各明細書に記載
されているような感光性重合体)等が包含される。これ
らの組成物中には他に増感剤、安定化剤、可塑剤、顔料
や染料等を含ませることができる。
む高分子化合物からなる組成物 重合体主鎖又は側鎖に感光性基として −CH=CH−C−を含むポリエステル類、ポリアミド
類、ポリカーボネート類のような感光性重合体を主成分
とするものく例えば米国特許第3、030.208号、
同第3.707.373号及び同第3.453□237
号の各明細書に記載されているような化合物);シンナ
ミリデンマロン酸等の(2−プロベリデン)マロン酸化
合物及び二官能性グリコール類から誘導され2感光性ポ
リエステル類を主成分としだもの(例えば米国特許第2
.956.878号及び同第3、173.787号の各
明細書に記載されているような感光性重合体);ポリビ
ニールアルコール、澱粉、セルロース及びその類似物の
ような水酸基含有重合体のケイ皮酸エステル類(例えば
米国特許第2、690.966号、同第2.752.3
72号、同第2.732.301号等の各明細書に記載
されているような感光性重合体)等が包含される。これ
らの組成物中には他に増感剤、安定化剤、可塑剤、顔料
や染料等を含ませることができる。
■ 活性光線の照射により重合反応を起す、いわゆる光
重合性組成物。例えば米国特許第2、760.863号
および同第3.060.023号明細書に記載の2個又
はそれ以上の末端エチレン基を有する付加重合性不飽和
化合物と光重合開始剤よりなる組成物がある。− 上記活性光線の照射により二量化する化合物および重合
反応する化合物には、更にバインダーとしての樹脂、増
感剤、熱重合防止剤、色素、可塑剤などを含有させるこ
とができる。
重合性組成物。例えば米国特許第2、760.863号
および同第3.060.023号明細書に記載の2個又
はそれ以上の末端エチレン基を有する付加重合性不飽和
化合物と光重合開始剤よりなる組成物がある。− 上記活性光線の照射により二量化する化合物および重合
反応する化合物には、更にバインダーとしての樹脂、増
感剤、熱重合防止剤、色素、可塑剤などを含有させるこ
とができる。
感光層を形成させるための塗布液は、上記の諸成分を、
たとえば2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノ
ール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−
メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチルアセテ
ート、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール
、n−プロパツール、1−プロパツール、塩化メチレン
、二酸化エチレン、トリクロルエタン、モノクロルベン
ゼン、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n
−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、メチ
ルアルミアセテートなどのエステル、などの有機溶剤あ
るいはそれらの混合溶媒に溶解せしめて調製される。塗
布液中の固形成分の量比は、約0.1〜約25重量%、
より好ましくは1〜15重量%重量%上い。
たとえば2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノ
ール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−
メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチルアセテ
ート、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール
、n−プロパツール、1−プロパツール、塩化メチレン
、二酸化エチレン、トリクロルエタン、モノクロルベン
ゼン、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n
−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、メチ
ルアルミアセテートなどのエステル、などの有機溶剤あ
るいはそれらの混合溶媒に溶解せしめて調製される。塗
布液中の固形成分の量比は、約0.1〜約25重量%、
より好ましくは1〜15重量%重量%上い。
調製した塗布液は、たとえばドクターコート、ローラー
コート、クラヒアコー)、l:”−1’コート、ディッ
プコートなどの種々の塗布手段によって前記のごとく処
理したアルミニウム板上に塗布される。塗布液層の乾燥
も従来技術を適用することでよく、室温乃至高温、たと
えば20℃〜150℃といった範囲の温度の雰囲気内で
乾燥させる。乾燥後の感光層は、約0.1〜7 g /
m’程度であり、0.5〜4 g / m’がより好
ましい量である。
コート、クラヒアコー)、l:”−1’コート、ディッ
プコートなどの種々の塗布手段によって前記のごとく処
理したアルミニウム板上に塗布される。塗布液層の乾燥
も従来技術を適用することでよく、室温乃至高温、たと
えば20℃〜150℃といった範囲の温度の雰囲気内で
乾燥させる。乾燥後の感光層は、約0.1〜7 g /
m’程度であり、0.5〜4 g / m’がより好
ましい量である。
かくして得られた感光性平版印刷版は、カーボンアーク
灯、キセノン灯、水銀灯、タングステン灯、メタルハラ
イドランプなどのごとき活性光線を含む光源により画像
状に露光され、適当な現像液、例えば前記感光性組成物
■の感光層に対しては珪酸カリウムのようなアルカリの
水溶液で現像されると平版印刷版となる。
灯、キセノン灯、水銀灯、タングステン灯、メタルハラ
イドランプなどのごとき活性光線を含む光源により画像
状に露光され、適当な現像液、例えば前記感光性組成物
■の感光層に対しては珪酸カリウムのようなアルカリの
水溶液で現像されると平版印刷版となる。
本発明により得られるアルミニウム支持体を用いた平版
印刷版は、従来の珪酸塩処理による親水化処理を行なっ
た基板に比べて高い耐刷力を与えると同時に非画像部が
汚れにくいという顕著の効果が得られる。従来より、高
耐刷力を有する平版印刷版は非画像部が汚れ易く、逆に
非画像部の汚れ難い平版印刷版は耐刷力が低いという性
質をもっており、これら両者の性能を同時に改善させる
ことは極めて困難であるとされていた。
印刷版は、従来の珪酸塩処理による親水化処理を行なっ
た基板に比べて高い耐刷力を与えると同時に非画像部が
汚れにくいという顕著の効果が得られる。従来より、高
耐刷力を有する平版印刷版は非画像部が汚れ易く、逆に
非画像部の汚れ難い平版印刷版は耐刷力が低いという性
質をもっており、これら両者の性能を同時に改善させる
ことは極めて困難であるとされていた。
しかし乍ら、本発明によるアルミニウム支持体を用いた
平版印刷版は、高い耐刷力を有すると同時に非画像部が
汚れ難いという従来得られなかった優れた性質を有して
いる。
平版印刷版は、高い耐刷力を有すると同時に非画像部が
汚れ難いという従来得られなかった優れた性質を有して
いる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例を用いて、より具体的に説明する
。なお、実施例中の「%」は、特に指定のない限り「重
量%」を示すものとする。
。なお、実施例中の「%」は、特に指定のない限り「重
量%」を示すものとする。
実施例I
JIS 1050アルミニウムシートをバミスー水懸濁
液を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立
てした。このときの表面粗さく中心線平均粗さ〉は0.
5μであった。水洗後、10%苛性ソーダ水溶液を70
℃に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウム表面の溶解
量が6g/’m’になるようにエツチングした。
液を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立
てした。このときの表面粗さく中心線平均粗さ〉は0.
5μであった。水洗後、10%苛性ソーダ水溶液を70
℃に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウム表面の溶解
量が6g/’m’になるようにエツチングした。
水洗後30%硝酸水溶液中に1分間浸漬し、0.7%硝
酸水溶液中で、陽極特電圧13ボルト、陰極特電圧6ボ
ルトの矩形波交番波形(特開昭52−77702号公報
実施例に記載されている電源波形)を用いて20秒間電
電解面化を行い30%硝酸の50℃溶液中に浸漬して表
面を洗浄した後、水洗した。
酸水溶液中で、陽極特電圧13ボルト、陰極特電圧6ボ
ルトの矩形波交番波形(特開昭52−77702号公報
実施例に記載されている電源波形)を用いて20秒間電
電解面化を行い30%硝酸の50℃溶液中に浸漬して表
面を洗浄した後、水洗した。
さらに20%硫酸水溶液中で、陽極酸化皮膜重量が3.
0 g / m″となる様に直流を用いて陽極酸化処理
を施して水洗、乾燥後基板CA)を用意した。
0 g / m″となる様に直流を用いて陽極酸化処理
を施して水洗、乾燥後基板CA)を用意した。
基板〔A〕を3号珪酸ソーダ溶液2.5%、70℃、3
0秒間に浸漬する事によりシリケート層皮膜を形成した
基板CBIを用意した。
0秒間に浸漬する事によりシリケート層皮膜を形成した
基板CBIを用意した。
基板〔A〕を3号珪酸ソーダ浸漬処理を行なった後、沸
騰水30秒間浸漬処理を行ない基板CC)を用意した。
騰水30秒間浸漬処理を行ない基板CC)を用意した。
更に、電解粗面化、酸洗浄後3号珪酸ソーダ浸漬処理を
行ない陽極酸化処理を行ない基板〔D)とし、比較例サ
ンプル(AE〜(Dlを用意した。
行ない陽極酸化処理を行ない基板〔D)とし、比較例サ
ンプル(AE〜(Dlを用意した。
次に基板〔D〕の3号珪酸ソーダ浸漬処理の前処理くA
l永和物形成処理)を沸騰水、トリエタノール水溶液を
用い本実施例サンプルを用意する。
l永和物形成処理)を沸騰水、トリエタノール水溶液を
用い本実施例サンプルを用意する。
沸騰水30秒処理したものを基板〔E〕、沸騰水15分
処理したものを基板〔F〕、トリエタノール水溶液0゜
1’VOβ%60℃2分間処理したものを基板(Glと
し、〔八〕〜CG〕のそれぞれに次に示す感光層を乾燥
後の塗布重量が2.5 g / m’となるように設け
た。
処理したものを基板〔F〕、トリエタノール水溶液0゜
1’VOβ%60℃2分間処理したものを基板(Glと
し、〔八〕〜CG〕のそれぞれに次に示す感光層を乾燥
後の塗布重量が2.5 g / m’となるように設け
た。
組 成
ナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホニルクロライドとピロ
ガロール、アセトン樹脂とのニス
チル化合物 0.75g(米
国特許第3.635.709号明細書実施例1記載のも
の) タレゾールノボラック樹脂 2.00gオ
イルブルー#603 (オリエント化学製) 0.04gエ
チレンジクロライド 16 g2−メト
キシエチルアセテート 12 gこのようにし
て作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠中で、透明ポ
ジティブフィルムを通して1mの距離から3KWのメタ
ルハライドランプにより、50秒間露光を行ったのち、
SiO□/Na2Oのモル比が1.74の珪酸す)IJ
ウムの5.26%水溶液(pH= 12.7 )で現像
した。
国特許第3.635.709号明細書実施例1記載のも
の) タレゾールノボラック樹脂 2.00gオ
イルブルー#603 (オリエント化学製) 0.04gエ
チレンジクロライド 16 g2−メト
キシエチルアセテート 12 gこのようにし
て作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠中で、透明ポ
ジティブフィルムを通して1mの距離から3KWのメタ
ルハライドランプにより、50秒間露光を行ったのち、
SiO□/Na2Oのモル比が1.74の珪酸す)IJ
ウムの5.26%水溶液(pH= 12.7 )で現像
した。
このように現像した後、十分水洗し、ガム引きしたのち
、常法の手順で印刷した。このときの非画像部の汚染と
耐刷力を調べた結果を第1表に示した。基板(E)、〔
F〕、〔G〕は本発明の実施例で、基板〔A〕、〔B〕
、(C)、〔D〕、は比較例である。
、常法の手順で印刷した。このときの非画像部の汚染と
耐刷力を調べた結果を第1表に示した。基板(E)、〔
F〕、〔G〕は本発明の実施例で、基板〔A〕、〔B〕
、(C)、〔D〕、は比較例である。
表1の結果のように、本発明の製造方法により作成され
たサンプルは比較例に比べて非画像部の汚れ難さに優れ
、耐刷力にも優れた性能を得る事が出来た。また、本発
明法は、各版を何ら処置する事なく一夜放置しても版面
が汚れ難くい効果が見られた。
たサンプルは比較例に比べて非画像部の汚れ難さに優れ
、耐刷力にも優れた性能を得る事が出来た。また、本発
明法は、各版を何ら処置する事なく一夜放置しても版面
が汚れ難くい効果が見られた。
* 非画像部の汚れ難さ・・・1.000枚以上印刷し
た時の印刷物あるいはブランケット上の非画像部へのイ
ンキの転写汚れを次の判断基準で評価した。
た時の印刷物あるいはブランケット上の非画像部へのイ
ンキの転写汚れを次の判断基準で評価した。
O・・・・・・印刷物、ブランケット共に全く汚れなし
。
。
O△・・・・・・ブランケットは汚れるが、印刷物は汚
れなし。
れなし。
△ ・・・・・・ブランケットが汚れ、印刷物上に若干
の汚れ発生。
の汚れ発生。
× ・・・・・・ブランケットが汚れ、印刷物も非常に
汚れる。
汚れる。
Claims (1)
- 砂目立て処理を施されたアルミニウム板の少なくとも一
方の面にアルミニウムの水和物を形成した後、珪酸塩で
該表面を処理し、次いで陽極酸化処理を行なう事を特徴
とする平版印刷版用支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20838186A JPH0635215B2 (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20838186A JPH0635215B2 (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6362795A true JPS6362795A (ja) | 1988-03-19 |
| JPH0635215B2 JPH0635215B2 (ja) | 1994-05-11 |
Family
ID=16555329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20838186A Expired - Fee Related JPH0635215B2 (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0635215B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0497896A (ja) * | 1990-08-16 | 1992-03-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
| JPH04148991A (ja) * | 1990-10-12 | 1992-05-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感光性平版印刷版 |
| JPH04148992A (ja) * | 1990-10-12 | 1992-05-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷用支持体の製造方法 |
| US5282952A (en) * | 1990-08-16 | 1994-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing substrate for lithographic printing plates, substrate for lithographic printing plates prepared by the method and presensitized plate comprising the substrate |
| JP2012040864A (ja) * | 2010-07-23 | 2012-03-01 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用支持体の製造方法、平版印刷版用支持体、および、平版印刷版原版 |
| JP2012067382A (ja) * | 2010-08-27 | 2012-04-05 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法及び製造装置 |
-
1986
- 1986-09-04 JP JP20838186A patent/JPH0635215B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0497896A (ja) * | 1990-08-16 | 1992-03-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
| US5282952A (en) * | 1990-08-16 | 1994-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing substrate for lithographic printing plates, substrate for lithographic printing plates prepared by the method and presensitized plate comprising the substrate |
| JPH04148991A (ja) * | 1990-10-12 | 1992-05-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感光性平版印刷版 |
| JPH04148992A (ja) * | 1990-10-12 | 1992-05-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷用支持体の製造方法 |
| JP2012040864A (ja) * | 2010-07-23 | 2012-03-01 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用支持体の製造方法、平版印刷版用支持体、および、平版印刷版原版 |
| JP2012067382A (ja) * | 2010-08-27 | 2012-04-05 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法及び製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0635215B2 (ja) | 1994-05-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0694234B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH0532238B2 (ja) | ||
| JPS5959897A (ja) | シ−ト、箔又はストリツプの形の材料の製造法及びオフセツト印刷板用支持体 | |
| EP0149490B1 (en) | Presensitized plate having an anodized aluminum base with an improved hydrophilic layer | |
| JPH07119151B2 (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPS6219494A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPH0448640B2 (ja) | ||
| JPH03261592A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPS63165183A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPS6362795A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH0472719B2 (ja) | ||
| JPS63202497A (ja) | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPS6233692A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPS63145092A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPS63130391A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPS6356498A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPS59214651A (ja) | 感光性平版印刷版を用いた製版方法 | |
| JPS6297892A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPH0550779A (ja) | 平版印刷版用支持体及びその製造方法 | |
| JPH03215095A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH0450846A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH0214188A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPS63107591A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JP2000015948A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体及び感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JPS6399992A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |