JPS59135263A - １成分被覆組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、１成分被覆組成物及びその硬化被膜を形成す
る方法に関する。

本発明は、被覆及びシーラントの分野に主に用いられ、
特に、プリント回路板の被覆と、電気的電子的素子のポ
ツティングを用途としていｚ０他。

の用途にも使用さ′ｆＬ乙が、以下、上記の用途に関し
限定して・説明する。・ プリント回路板及び電気的電子的構成要素は−汚れによ
る電気的性能の低下を防いだり、少くとも最小にするだ
め、保７護膜によ石被覆されたシポツテイングされてい
るとよい。・ 最も損傷を与え、普通最も有力な汚染物は水分、即ち湿
気であると考えられている。湿気が多過ぎると、導線間
の絶縁抵抗を極端に低下させ、電圧。

を大きく降下させて、デンドライト成長を促し。

導線を腐食する。

プリント回路板と構成要素を損傷する他の汚染物は、製
造段階に入って残留する種々の化学剤・、例えば、融剤
、有機溶剤、剥離剤、□金属粒子及び記帳用インキ並び
に人間の手の取υ扱いによシ付着する体脂、指紋、化粧
品及び食物の汚ｎである。

周囲の作業環境によって、塩水噴霧５ゴミとほこシ、油
、燃料、酸、腐食性蒸気、及びカビのような種々の汚染
物が付着する。他にも、汚物は、いろいろとあるが、特
別な場合を除き、適当な相似被覆を施すことにより、上
記の有害作用を効果的に排除しうる。　　　　　　・ 相似被覆を施すと、・汚染物から保護する仙に、機械的
衝撃、震動から守ったり、第３者が手を加えたりするの
を防止する。

従来、種々の被覆ポツティング処理剤が、この分野で知
られておシ、市販で入手しうる。それらには、長所と短
所がある。。

従来使用さｔている第１の相似被覆ポツティング処理剤
は、アクリ）し樹脂を基本としている。アクリル樹脂は
・・１．噴霧、浸漬、刷毛塗シによシ容易に塗布される
ことから、製造的観点に照らして、すぐれた被覆ポ、ツ
テイング処理剤である。アクリル被覆ポツティング処理
は、好適な電気的及び物理的性質を備え、かつすぐれた
耐菌性を持っている。アクリル被覆ポツティング処理め
もう１つの長所は、寿命が長く、硬化時の発熱が少量か
全くなく、硬化時の収縮もわずかでおるか、′全くない
という点である。

しかし、アクリル被覆ポツティング膜は、溶媒が蒸発し
て痛成さｔ、数分後に、硬化時に最適な物理的性質に達
する。従来のアクリル樹脂被覆ポツティング剤癲剤は、
トリク・・−クン又は塩化メチレンのような塩素化溶剤
に可溶である。

従来の第２の相似被覆ポツティング剤は、ポリウレタン
を基本にしている。ポリウレタンは、単一成分か２成分
よりなるかいずれかである。ポリウレタン被覆ポツティ
ングは、すぐれた耐湿性と５耐薬品性と、好適な誘導策
特性とを備えている。

単一成分のウレタンは、比較的取シ扱いが容易で、相当
に長い可使時間を示す。し臥し、しかし単一成分よりな
るウレタンは、最適の物理的性質に達するのに、室温で
、３日から１０日の硬化時間を必要とする。２成分より
なるポリウレタンは。

高温で、］時間から３時間以内に最適な硬化に達するが
、可使時間が相当に短かい。

また、ポリウレタン被覆ポツティング剤を施す前め基板
と構成要素の表面処理が重要である。これは、基板若し
くは構成要素上に極少量の湿気があっても、湿潤状態下
に膨れが生じる。この膨れは、□次に、電気的欠陥を招
き、高価な再処理を必要とする。

ポリウレタン被覆ボッティング部は、はとんどの普通の
溶剤に不溶であるので、再処理の際の障害となる。そこ
で、ボリウレクン被覆板又はポツティングされた構成要
素の再処理段階では、ポリウレタン膜のすべての痕跡を
除去するために、腐食性ストリッパーが必要とされる。

しかし、このストリッパーが板、又は構成要素の金属表
面までも腐食してしまうので、とのようなストリッパー
を使用する場合に、非常に注意を払わなくてはがらない
。

また、相似被覆ポツティングの従来技術には、エポキシ
樹脂が使用さ汎ている。エポキシ樹脂は、２成分よシな
るものとしてのみ入手しうる。エポキシ樹脂被覆ポツテ
ィングは、好適な耐湿性と耐摩耗性と耐薬品性を有して
いる。しかし、被覆を除去するストリッパーは、同時に
電子的構成要素を作るのに通常使用されている材料と、
プリント回路板のエポキシ樹脂ヌを破壊してしまう。

そこで、エポキシ樹脂で被覆さ九だ板、又はポツティン
グされた構成要素を修復する帷−の効果的な方法は、熱
いナイフやはんだごてで、エポキシ被覆を燃焼きせると
とである。

しかし、燃焼法は、美観上の欠点を招き、多くの需要者
には受は入れられな・い。更に、硬化時にエポキシ樹脂
はいくらか収縮してしまう。従って、収縮からの破損を
防止するために、もろい電子的部品の回シに緩衝材を当
ててやらなくてはならない。

エポキシ樹脂による硬化は、高温で、１時間から３時間
、室温で、４日から７日である。エポキシ樹脂のもう１
つの欠点は、可使時間が相当に短かいことである。

従来技術の相似被覆とポツティングには、また珪素樹脂
が用いられて来た。珪素樹脂による被覆ポツティングは
、すぐｒた耐湿性と、耐食性と、耐熱性を有している。

そこで、珪素樹脂は、電力レジスタのよう、な放熱型素
子を含む被覆ポツテイングアツセンブ１ノニ好適である
。しかし、珪素樹脂は、相当に厚いので、使用を困難に
する。更に珪素樹脂は、硬化時間が相当に長く、また一
度硬化した珪素樹脂は、絶対的に不溶であるので、はん
だとての熱によシ気化しないため、修復が難かしい。

そこで、珪素樹脂によシ被覆された回路板、又はポツテ
ィングされた構成要素を修復する唯一の方法は、被覆を
機械的に除去することである。

従来技術では、まだ相似被覆ポツティング処理剤として
ポリイミドが用いられて来た。ポリイミド被覆ポツティ
ングは、上記よ）も長い時間に亘り、耐熱性と、耐湿性
と、劇薬品性にすぐれた性質を保持している。

しかし、１時間から３時間、　　２００Ｃから２５０Ｃ
位の高温状態をポリイミド被覆は必要とするので、この
ような高温は、熱に敬感々電子的構成要素を損傷する。

そこで、ポリイミド被覆剤の用途を限定してしまう。ま
たポリイミドは、□耐熱性と、耐湿性と、耐薬品性にす
ぐれているため、ポリイミドによる被覆板、又は鎗ツテ
イレグされた構成要素を修復する唯一の方法は、被覆を
機械的に除去することである。

従来技術において、更にフタル酸ジアリルワニスが、相
似被覆ポツティング処理剤に使用され、すぐれた耐熱性
と耐薬品性を備えている。

しかし、フタル酸ジアリルワニスは、はぼ１５０Ｃの高
温硬化を必要とし、その用途を極めて限定する。そこで
、フタル酸ジアリルによる被覆ポツティングは、修復す
るためには、機械的に除去しなくてはならカい。　　　
□ 相似被覆回路板に関する従来技術における前記の議論ハ
、マグロ−ヒルブックカンパニー（ＭｃＧｒａｗＨｉｌ
ｌ　Ｂｏｏｋ　Ｃｏｍｐａｎｙ　）によ９１９７９年に
発行さ□、た１５イ”ｈ”−ｒ−７−、−４、’ジー＝
　７　（Ｃ１ｙｄｅＦ、　Ｃｏｏ＆ｂ□ｓ、　Ｊ’ｒ、
）編集の「プリント回路・・ンドブツ久（Ｐｒｉ・ｎｔ
ｅｄ　Ｃ１ｒｃｕｉｔａ　Ｈａｎｄｂｏｏｋ）　Ｊ第２
版に記載されている。　　、。

上記議論から明らかなように、従来技術によるすべての
相似被覆ポツティング処理剤は、処理速度、使用の容易
さ、可、使時間及び硬化条件のような使用の性質、並び
に電ネ的性質、温度、耐薬品性及び耐湿性のような好適
な物理炸質、及び修復性においてそれぞれ欠□点を持っ
ているのて、現在使用されているオｌ似被櫃ポツティン
グ処理剤のいず八も、・完全に満足すべきものではない
。

そこで、本発明の第１の目的は、従来技術における上記
の欠点を克服するための改良された相似被覆ポツティン
グ処理法及び処理剤を提供することにある。

本発明の第２の目的は、可使時間を延長し、使用を容易
にし、敏速に指触乾燥状態に硬化させ１、好適・な電気
的性質と、すぐ九た。耐粘着性と耐食、性と耐熱性′と
耐薬品性と耐湿性とを備え、修復が容易な組成物を含む
プリント回路板を相似被覆し、電気的電子的構成要素を
ポツティングするための改良された組成物を提供するこ
とにある。

本発明の以上の目的、及びそれ以外の目的は、二次的架
橋硬化機構をその中に備えている紫外線による硬化重合
被覆ポツティング処理剤によｐ達成される。

特に、本発明の第１実施例によれば１重合用処理剤は、
以下の物質を含む１成分被覆組成物よシなっている。

（１）　　過剰のジイソシアネートの存在下に、１つ以
上のポリエーテルジオールと、１つ以上のポリニーオル
トリオールを反応させることによシ生成したインシアネ
ートを末端付加したプレポリマー。

（２）単官能性若しくは多官能性のそ九ぞｔアクリレー
ト又はメタクリヒート反応希釈剤。

（３）光重合開始型の重合開始剤。

第１実施例の特徴と利点は、紫外線に、よる照射硬化が
、被覆ボッティングの全照射部せを、非常に敏速に指触
乾燥状態に硬化し、それによシ、被覆生成物を敏速に処
理して、被覆の型を整え、たるみが出来たり、クリープ
変形、が生じるのを防止１する。同一に、インシアネー
ト、を末端付加したプレポリマーを湿潤、状態で反応さ
せ生じた二次的な硬化によシ、室温及び通常湿度の下に
、被覆ボッティングの紫外線非照射領域、、即ち未照射
部をほぼ完全に硬化する。

本発明の第２．実施例によれば、重合剤は、以下、の組
成物を含む工成ＯＭ覆剤である。即ち、少、く、とも１
つのウレタイアクリレー、ト又はウレタンノタクリレー
、ト、アリル基を含むアクリレ−（又はメタクリレート
、アリル基をそ九ぞれ含まないアクリレート又はメタク
リレート希釈剤、光重合型、の重合開始剤及び金属乾燥
剤である。

第２実施例の特徴と利点は、紫外線照射硬化によシ、被
覆の全照射領域を非常に敏速に指触乾燥状態に硬化させ
、それにより５．被覆生成物を敏速、に処理して５被覆
の型を保持し、たるみやクリープ弯、形を、防止する。

同時に、単官能性又は多官能性のそムぞれ、アクリレー
ト希、軟剤、又はメタクリレート希釈剤のアリル結合を
介しての架橋反応によシ生じた二次的硬化が５室温と通
常湿度の下に、被覆の未照射、即ち暗影部をほぼ完全に
硬化する。

本発明の特徴と目的を十分に理解するために、本発明を
、実施例に基づき詳細に説明する。

物質の物理的特徴に関して述べた用語、例えは「液状」
、「固体状」及び「指触乾燥状態」は、特定の状態の下
にあるこのような性質を意味するものである。例えば、
「液状」なる用語は、物質が容易に流動する物理的状態
を示し、「固体状」及び「指触乾燥状態」なる用語は、
それそハ、容易に変形しないような物理的状態、並びに
表面の粘着性を示す遊離した表面水の洗い状態を現して
いる。

本発明による被覆ポツティング法、及び組成物の第１実
施例に使用されたインシアネートを末端とするプレポリ
マーは、１個以上のポリエーテルジオールと、１個以上
のポリエーテルトリオールとの混合物を、少くとも１種
類の過剰のジイソシアネートと反応さ、せて作ったもの
である。

・好適なポリ壬−テルジオールは、約３００から約５０
００までの範囲の分子量のものから選択され、好適ナポ
リエーテルトリオールは、約２００から約３・ｏｏｏ　
ｔでの範囲の分子量のものから選択される。

特に、約４００から約１０００４での範囲の分子量を有
するポリエーテルジオールと、約７００の分子量を有す
るポリ霊ステルトリオールとの混合物が好適である。

ポリエーテルジオールとポリエーテルトリオールの混合
物は、ポリエーテルジオールを、主要な割合、即ち７０
％以上と、ポリエーテルトリオールを極少量、即ち１係
から３俸位含んでいるのが代表的である。好適なジイソ
シアネートは、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）で
ある。しかし、次式で示される比較的低分子量の他のジ
イソシアネートであってもよい。

（１）　　　（０＝Ｃ＝Ｎ　）、Ｒ 式中、Ｒは、それぞ打炭素原子２個から２０個を有する
アルキレン基、アルケニレン基若しくはシクロアルキレ
ン基であるか、又は、それぞれ炭素原子６個から４０個
を有するアリレン基、アルカリレン基若しくはアラルキ
レン基である。

ポリエーテルジオールとばりエーテルトリオールの混合
物は、過剰のジインシアネ−１・と反応する。ジイソシ
アネートに対するポリエーテルジオールとポリエーテル
トリオール混合物の画素反応比は、ジイソシアネート約
１６から２．２西量に対し、ブレンド約１０轟量の範囲
である。好適な反応比は、ジイソシアネート２．０当量
毎に、ポリエーテルジオールとポリエーテルトリオール
のブレンド１０当量である。

最終組成物の性質にとって、好適な反応比は特に重要で
ある。２：１の割合に：すると、耐加水分解性にすぐれ
た高品質の化学溶□剤よりなる化学的構造の最終生成物
を作る。

胡在、好適なプレポリマーば、ジフエ亜ルメタンジイソ
シアネート（ＭＩ　Ｄ’　Ｉ　）’　２’、０１量と反
応させた、ポリエーテルジオール（平均分子量１６００
　）０９１６当量と、ポリエーテルトリオール（平均分
子量７００’）　０．０８４轟量の麺合物である。

・生成した樹脂は、次に、アクリレート反応希釈剤又は
メタクリレート反応希釈剤と混合される。

この希釈剤は、例えばトリメチロールプロパンエトキシ
レートトリアクリレート、ジシクロペンクジエンメタク
リレ−１・並びにジシクロペンクジエンアクリレートで
あるが、これらに限定されるものではない。インブチル
メタクリレート、インボルニルメタクリレート、ラウリ
ルメタクリレ−１・並びにシクロへキシロメタクリレ−
１・のような他の反応メタクリレート化合物を用いるこ
とも出来る。

反応は、他の非反応性希釈剤が存在しない状態でなされ
る。

イソシアネートを末端基に有するプレポリマーは、反応
混合物の約５０重索条から約７５重索条、好ましくは約
６５重量％であシ、これに対し、アクリレート反応希釈
剤又はメタクリレート反応希釈剤は、反応混合物の約２
５重置部から約５０重量％□、好ましくは約３５重量％
である。

：　第２実施例 本発明によ□る被覆ポツティング用組成物及び方法の第
２実施例に使用されるウレタン−アクリレート又はウレ
タンメタク□リレートは、ポリエステルジオールをジイ
ンシナネートと反応させ、この生成物を５重合性アクリ
しし酸エステル又はメタクリル酸エステルと反応させて
生成したポリエステル−ウレタン−アクリレートでちる
とよ：い：。好適なポリエステルジオールは、イルツク
・メカンパニーにより、イルレックス（Ｉ’ｎｏｌ＋ｅ
ｘ　　）１４００−１２０なる商品名の下に製造されて
いる。このポリエステルジオールはネオペンチルグリコ
ールど１６−ヘキサンジオールをアジピン酸と反応させ
て生成した。

有効な他のポリエステルジオールは、ネオペンチルグリ
コールと、３個以上の炭素原子を有するジオール、例え
ば、１−４−ブタンジオールをアジピン酸と反応させて
生成する。好適々ジイソシアネートは、トルエンジイソ
シアネー）　（ＴＤ’ｌＩ　）である。しかし、次の一
般式で示される比較的低分子量の他のジイソシアネ−１
・でちってもよい。

（１，１・・（，０−Ｃ＝Ｎ）、Ｒ・ 上式中、Ｒは、前に定義した通、・、′りでちる。

ジインシアネートに対するポ・リエステルジオールの当
量の反応比は、普通的２２のジイソイアネートに対し、
約′１，０のポリエステルジオールの範囲でなくてはな
らない。好適力反応比は、ジイソシアネート１４ｇ当量
毎にボ、す□エステルジオール１０当量である。　　　
　　　　′　□ この好適な、反応は２．特に最、終組酸物の性質に重要
である。１：Ｌ９（７）′割合が、・、可撓、性と安定
性にすぐれた化学構造の・組成物を生成、する。・生成
した共重合体は、不規則な共重合体・構造を普通なして
いる。この共重合体生成物は、水酸基を含むアクリレー
トエステル単量体、又はメタクリレートエステル単量体
と反応して、アクリレートを末端とする重合体を生成す
る。エステル単量体の当量有効範囲は、約０．９から約
３．０・であり、１．１．６から２，０が好ましく、、
１．８１量が、最も好まし−。

ポリエステルジイソシアネート反応生成物に末端付加す
るのに用いられる重合性アクリレートエステル単量体、
及びメタクリレートエステル単量体は、単官能性又は二
官能性であるとよい。最も有効性のある単量体は、ヒド
ロキシアルキルアクリレート、ヒドロキシ、アルキルメ
タクリレート、アミノアルキルアクリレート、アミノア
ニルキルアクリレートよりなる群から選択される。最適
の重合性エステル単量体は、ヒドロキシエチルメタクリ
レート及びヒドロキシグロビルメタクリレートである。

有用と考えられるもう１つの単官能性重合性エステル単
量体は、次式に示される。　　　・式中、Ｘは、−〇−
又は　Ｒｏ　で、とのＲｏは、−Ｎ−・ 水素又は１個から７個までの炭素原子を有する低級アル
キル基、ｎ・°は１、水素、塩素、メチル基及びエチル
基よりなる群から選択され、Ｒｏは、・１個から８イ固
までの炭素原子を有する低級アルキレン基、フェニレン
基及びナフチレンば゛よシな、る□群がら選・択される
。　　　　　　　　　　□ 好適な水酸基又はアミンを含む、物質は、次の通シであ
るが、これらに限定□されるものではない。

、即ち、ヒト叱キシエチルアクソレート、・ヒドロキシ
エチルメタクリレート、アミノエチルメタクリレート、
３−ヒドロキシグロビルメタクリレート１、アミノプロ
ピルメタ：クリレート、ヒドロキシエチルアク・リレモ
ト、ｔ−ブチ西アミ・ノエチルメタクリレート、ヒドロ
キシアルキルメクク」ルートビスフェノール−Ａのモノ
アクリレートエステル、ノールＡの七ツメ・ククリレー
トエステル、シクロヘキシルジオ、←ル，ポリエチレン
クリコールメタクリレート及びその類似物である。

希釈剤なしに・末端．付加反応が行われるとよいが、こ
八は必ずしも必要なことではない。希釈剤を使用する場
合、単官能性アクリレート、単官能性メタクリレート、
多官能性アクリレート、及び多官□能性メタ久リレニー
トのいずれかを使用するとよい。

本発明による被覆ポツティング処理剤に使用される単官
能性アクリレート、多官能性アクリレート、単官能性メ
タクリレート、及び多官能性メタクリレート各希釈剤は
、次式に示されるアクリレート又はメタクリレートを含
むアクリル結合を有している。

（１１）　　　　ＣＩ（、＝、Ｃ−Ｃ−０−Ｒ’ｌ　　
　Ｉ＋ ビ　０ 式中、Ｒ４は、水素若しくは１個から４個までの炭素原
子を有する低級アルキル基で、几゛は、少くとも１個の
アリル結合を含む有機基であって、本発明による被覆剤
に逆効果を与える基を一切含有していない。Ｒｏは、ア
リル結合を有する脂肪族炭素環構造又は置換脂肪族炭素
環構造よりなるのが好まし因。例えば、ジシクロベニル
オキシエチルであるとよい。しかし、ジシクロペンテニ
／ｌ’（７）よう々他のアリル結合含有炭素環構造のも
のを用いてもよい。

被覆組成物に、他の非アリ・ル反応希釈剤を含んでいて
もよい。この希釈剤は、アクリレート化合物又はメタク
リレート化合物であシ、ヒドロキシエチルメタクリレ−
ＢＨＥＭ’Ａ）が最適である。

ウレタンアクリレート又はウレタンメタクリレートは、
普通、反応混合物中に、約２０重量％から約５０重量％
含まれている。約２０重置部から約３０重量％せでであ
るのが好ましい。アリル基含有アクリレート又はアリル
基含有メタクリレ−１・と、非アリル基反応希釈剤は、
それぞれ反応混合物中に、約１０重置部から約５０重置
部、及び約６０重索条から約２０重量％、普通含まれて
いる。反応混合物中に、それぞれ約３５重量俸含まれて
いると最も好ましい。

本発明の第２実施例の被覆ポツティング処理剤は、適当
な金属乾燥剤を含んでいる。

好適な金属乾燥剤は、２価以上の金属塩又は不飽和有機
塩である。コバルト、マンガン、セリウム、鉛、クロム
、鉄、ニッケル、ウラン及び亜鉛の５それぞれリルエー
ト、ナフチネート及びレジネートが５．好適な乾燥剤で
ちる。

全被覆剤中に、約０，０１％から５！Ｉ！＋の間取下の
濃度で、普通金属乾燥剤が含まれている。

本発明に使用される重合開始剤は、紫外線で活性化され
る遊離基生成剤を含んでいるとよい。特に、この重合開
始剤は、被覆ポツティング剤中に、約１係から約１０係
の割合で含んでいるのが好ましいが、よシ多ぐか、よシ
少量の割合であってもよい。

多くの紫外線活性化重合開始剤が、当業者にょシ知られ
ておシ、本発明に使用するに好適である。

例えば、紫外線重合開始剤は、式Ｍ、（ＣＯ）、で示さ
れるカルボニル金属力ら選択される。この式中、Ｍは金
属原子、Ｘは１又は２、ｙは、金属原子の全原子価によ
シ決めら九、普通４から１Ｏｆある。

好適な紫外線活性化開始剤は、次の化合物から選択され
る。

（ａｌ　　炭素原子１個から１６個までを有する直鎖状
又は分枝状アルキルジオン、 （ｂＪ　　一般式ｇ’（ｃｏ）ａｍで示さするカルボニ
ル化合物。式中５Ｒ゛は、それぞれ１個から１０個まで
の炭素原子を有するアルキル基、アリル基、アラルキル
基又はアルカリル基であ虱Ｒ°はＲｏと同じか、又は水
素である。また、Ｒｏ又はぼけ、機能を妨げるような逆
効果を与えない置換剤である。例えば、Ｒｏ又はＲｏは
、α位置で、アルキル基、アリル基、アルカリル基、ア
ルコキシ基若しくはアリルオ、キシ基であるか、それら
のアミン誘導体、モノ誘導体若しくはジアルキルアミ、
ノ誘導体である。上記置換体は、それぞれ大体６個まで
の炭素原子を含んでいる。また、カルボニル基と結合し
たＲｏとビは、約１６個以下の炭素原子を有する芳香族
ケトン又は複素環式ケトンを生成する。

本発明による処理剤中に、付着開始剤を含んでいるとよ
いが、必らずしも必要ではない。この付着開始剤は、当
業者に通常知られた化合物から選択される。２種類の開
始剤が好適である。

第１の種類は、モノカルボン酸とジカルボン酸であり、
これらは、アジリレート反応希釈剤又はメタクリレート
反応希釈剤とともに共重合する能力があるにれちは、メ
タクリル酸とアクリル酸から生成され名。このような酸
は、処理剤中にｊ重量％乃至２０重量％の割合で含まれ
、１重量％から１０重量％までと、１重量裂から１５重
量％までの割合が好適である。　　　。

第２の種類の好適な付着開始剤は、シランを含む周知の
もので、全処理剤中に１重量％乃至１０重量％の割合で
含まれているとよい。

１種以上のキレート化剤、架橋剤又は重合抑制剤を含ん
でいてもよい。こ九は任意であるが、好ましいことであ
る。

キレート化剤と抑制剤は、全処理剤中に約０．１重量％
から約１重量％の割合で含んでいると効果的である。エ
チレンジアミン四酢酸；そのナトリウム塩（Ｎａ、ＥＤ
ＴＡ　）、１．１．−４チレンビスーニトリルメチリジ
ンジビリジン、並びにβ−ジケトンに類するものが、普
通最も効果的で、好ましい。

架橋剤を、全処理剤中に、０から約１０重量％までの割
合で含んでいてもよい。架橋剤の例としては、共重合性
ジメタクリレートがある。

製造時から単量体に含まれている抑制剤の濃度は、安定
性を良好にするべく十分に高いとよい。

しかし、保存時間を最大にするために、上記に述べた割
合、即塾全処Ｑ中に約０１重量％か５約１重量％である
のが好ましい。

好適な抑制剤は、ヒドロキノン、ベンン゛キノン、ナフ
トキノン、フエナンツラキノン、アンツ２キノン、並９
に枳上のりずれかで置換した化合物である。また、抑制
剤として種々めフェノールを使用することも出来る。好
適なものは１６−シータードーフ゛チル−４−メチルフ
エンールである。

厚さ、粘度蒸びチキソ、トロピーは、用途に応じて変え
ることが出来る。所望の性質を得るべく、当業者には知
られたシックナー、可塑剤、希釈剤及び他、の稗々の試
薬を使用することも出来る。

好適々結果を挙げるべく、抜覆ポツティング剤中に界面
活性剤を含んでいるとよいが、含んでいなくてもよい。

好適な界面活性剤の選択ｑ、簡単な実験により決められ
、る、界面活性剤は、重合体に可溶で、かつインシアネ
ートを末端付加したプレポリマーと反応しないものでな
くてはならない。界面活性剤は、次式に示される石油ス
ルホネートのようなアニオン物質であるとよい。

ｇ　　　（ＣｎＨ２，−、、ＳＯ，）ｘＭｅ式中、ｎは
２１以上で、Ｍｅは原子価Ｘの金属を示す。このような
物質は、米国ニューヨーク州ニューヨークのライトコケ
ミカルコーポレーション（Ｗｉｔｃｏ　Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌ　Ｃｏｒｐ、　）によシ商標名［Ａ１．、ｃｏｎａｔ
ｅ　　８０Ｊの下に市販されているものカ、米国ペンシ
ルバニア州パトラ−、ペンソイルのペンレコーデイビジ
ョン（Ｐｅｎｒｅｃｏ　Ｄｉｖｉｓｉｏｎ　）によシ、
商標名［Ｐｅｔｒｏｂａｓ’ｅ　Ｊの下に市販さ□　　
れている。

もう一つの好適なアニオン物質は、次式に示さレルアル
キルスルホン酸ナトリウム又ハアルキ／ｌｚアリルスル
ホン酸ナトリウムである。

コノ物質は、商標名［ＡＬｋａｎｏｌ　　１８９＝ＳＪ
とＪＤ、ＷＪの下に、米国プラウエア州つイルミントン
のイー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール　アンド　カ
ンノ＝　−（Ｅ、　Ｉ　、ｄｕＰｏｎｔ　ｄｒＮｅ’ｍ
ｏｕｒｓ　＆Ｃｏ、、）によグ市販されているものが、
連番を付した商標□名ｊ”　Ｔｅｎｇｉ　ｔｏＩＪＯ下
に、・・米国ニューヨーク州ニューヨークのユニオンカ
ーバイドコーポレーションぐＵｎｉ’ｏ＋ｎＣａｒｂｉ
ｄｅ　　ｅ’ｏｒｐｏｒａｔｊｏｎ）によシ市販されて
いるものである。

別の好適なアニオン物質は、商標名［Ａ１１ｐａｌｌの
下に、米国ニューヨーク・州ニュー′ヨークのガフコー
ポレーション（・Ｇ’ＡＰ　Ｃｏｒｐ、’　）によシ市
販されて１い□るヌルホンエトギシ化さｔたものか、商
標名「”Ｉ’Ｊｅｏ’ｄｃ＋１２５’−３５Ｊの下に、
米国テキザス州ヒユーストン□のシェルケミカルカンパ
ニー（ｉ９ｈ’ｅ’ｌｌＣｈｅｍｉ’ｃａｌ　Ｃｏ、　
　）によシ市販さ九ティる。

［Ｕｎｉｏｎ　Ｃａｒｂｉｄｅ　Ｌ−５３２０Ｊのよう
な非イオン界面活性剤を、本発明に用いてもよい。

界面活性剤の濃度は、どんな場合にも使用さ九る個々の
界面活性剤あ、反応希釈剤の□種類に応じて定めら九′
る。最適条件は、西業者の慣行の問題である。

しかし、アニオン界面活性剤の場合、全処理剤中５約０
．２５□係の界面活性剤が、好適な乳化状態を達成する
だめの最少濃度として必要であυ、普通食〈ｔも約０，
５俤の濃度臥好適である。最大の濃度は約１０％である
。

とへ以上になると□、硬化速度、安定性又鉦硬化生成物
を抑制することにより、界面活性剤は、全処理剤の性質
を妨害し始める。実際に、上限濃度を約５係とすると普
通好適で′ある。非イオン界面活性剤の場合、最適濃度
は、□より低く、全処理剤中、約０．１重置部以下であ
るとよい。

また５１００万部に付き５００重量部以下のような低濃
度の遊離基安定剤、即ち紫外線安定剤を加えるとよい。

これらの−くは公知であυ、目的とさｎ、る使用時の前
の組成物の見かけの重合化を防止する。好適な遊離基安
定剤は、ヒドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、ヒドラキシ
トルエンのブチレート、及びヒドロキシアニゾールのブ
チレートである。

本発明によ乞被覆ポツティング剤は、始め紫外線硬化生
成物として生成された。しかし、多くの回路板と電気的
電子的・構成要素の構造によシ、紫る。　　□ との欠点を克服するんめに、被覆ボッティング剤中に、
２次的な硬化機構が組み込１れた。特に、本発明によれ
ば、紫外−を照射した後に、被覆とポツティングにおけ
る未硬化領域を完全に硬化するだめの湿潤硬化機構が与
えらＪｌ、る。　　　□本拠明の第１実施例の全硬化機
構は、次の通りである。　　□ （１）紫外線が、アクリレ−）・又はメタクリレートを
重合化して、被覆ポツティングを定着する。

（２）　　インシアネートを末端相加したプレポリ４−
を、水、特に大気中の湿分と反応させる。どの反応は、
次式に示されている。

ＨＯＨ ”２（Ｒ−Ｎ＝ｃ＝ｏ）＋ｎ、、ｏ→Ｒ−Ｎ−Ｃ−Ｎ、
−４＋ＣＯ２こ□の後者の反応により、最終の物理的性
質を与え、２４□時簡又はそれ以下の時間以内に、被覆
ボッティング部の未照射部を完全に硬化する。

第２実施例の全硬化段階は、茨の通シである。

（１）紫外線がアクリレート又ゝ妊メタクリレートを硬
化し、被覆ボッティングを定着させる。

（２）次に、１傘属乾燥剤の存在下に、アリル結合によ
υ架橋反応を生じさせる。・アリル結合は最終的な物理
的性質を与え、２４時、間抜又はそれ以内の時間で、被
覆ポツティング部の未照射領域を完全に硬化する。　　
　　　　　　、。

実施例１ 本発明を以下、好適実施例に基づき説明する。

ステンレススチール攪拌器、窒素導入管、温度計、凝縮
器及び入口を備えた窒素清浄四頚紫外線遮蔽樹脂釜に、
アップショア　（Ｕｐｊｏｈｎ　）ＬＦ−１６８ジフエ
ニルメタンジイソシアネート（Ｍ　Ｄ　Ｉ、）２８６１
添加した。　　　　　　　　。

次ニ、ポリエーテルジオフル４６．６．、　＄　、　（
平均分子量１ｏｏｏ、）とポリニーテルト、す、オール
２０１（平均分子量７００）を、６０Ｃで攪埋しながら
、ゆっくりと添加した。６０１Ｃで１時間攪拌した後、
加熱し、９０Ｃで１時間斗′攪拌した。

、室温まで冷却し、トリメチロ１−ルプロパンエトキシ
レートトリアクリレート２６０Ｐと、チバガイギーイル
ガキュア（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ　Ｉｒｇａｃｕｒｅ　
）　６５］ジメトキシ−２−ンエニルアセトフエノンを
添加し５．・混合した。

最終混合物に、オーディオスピーカーコーンの裏面を浸
漬した。スピーカーに、２０秒間、３６５０オングスト
ローム、６００００μＷ／ｃｒｆＬの紫外線を照射して
、被膜を硬化させた。紫外線照射した被膜は、２５秒か
ら４５秒以内に、固い指触乾燥状態になった。□ 紫外線を照射しなかったスピーカーコーンの部分は、最
初は、湿った手触ｐだったが、２４時間、室温で湿った
状態に置くと、十分に硬化することが発見さただ。「暗
影部」即ち紫外線の当ら女かった部分のスピーカーを薄
、く切断すると、２４時間後には、こめ部分の表面が、
十分に硬化しているのが見つけられた。

・被膜を、次のように湿度試験した。

被覆されたスピーカーコーンヲ、ステンレススチール攪
拌器の棚に置き、タンクの底から水５００１を入れた。

タンクを閉塞し、密封し、　　１１５ｔ：の温度まで加
熱した。４０時間加熱した後、タンクを　□冷却した。

次に、タンクを開き、、コーンを取シ出して検査した。

目に見える泡などの被膜の欠陥は現れなかった。

実施例■ トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレー
トの代わシに、ジシクロペンチルメタクリレ−）’２６
０’、Ｐ針使用する以外は、実施例■と同様にして行な
った。

実施例Ｉと同じ様な結果を得だ。

実施例■ｌ′ トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレー
トの代わりに、ジシクロペンタジェンアクリレ−）　’
２６０７−を使用する以外は、実施例Ｉと同様にして行
なった。

実施例１と同じ様な結果を得た。

実施例■ 実施例Ｉと同様な窒素清浄四頚紫外線遮閉樹脂釜を、は
ぼ４０Ｃ４で加熱し、ｒＭＯ，ＢＡＹｊＴＤｌｌ、６−
ヘキサンジオをル／ネオペンチルグリコールアジペート
をン・２０分以上ア・けてゆらく９と添加した。このグ
リコーレレは；米国ペンシルバニア州フィラデルフィア
めイル□ツクスカンパ二−製造のイルレックス（’Ｉ　
ｎ’ｏ’ｌ’ｅｘ　）　１４０’Ｏ−１，２’Ｏポリエ
ステルである。　　　　□ ポリエステルの添加を完了した後、１時間、４０Ｃから
４５七の温度で攪拌しながら加熱を続け、次に、１００
Ｃで攪葎シカから２時間加熱した。３時間で反応が完了
すえとすぐに、槽の温度を５０Ｇに下げ、ヒドロキシエ
チルメタクリレ−１−２３０９を添加口だ。反応混合物
を更に加熱し、５０ｒに維持□し、その温度で、２時間
攪拌した。

反応混合物を室温に戻した。この生成樹脂１７０１に、
攪拌しながら、次の化合物を加えた。

ジシクロペンテニルオキシエチルタンクリレー）２７５
ｇ−、アクリル酸２９１、グリシドキシグロビルトリメ
トキシシラン５５１、チレミガイギーイガキュール６５
１ジメトキシ−２−フ兎ニルーアセトフェノン２０ｐ、
ユニオンカーバイ）Ｌ−５３２０シリコ一ン界面活性剤
０．５！１４、並びに３Ｍカンパニーフルオラード（Ｆ
ｌｕｏｒａｄ　）　ＦＣ４３０均展剤１．５１である。

すべての成分が溶解するまで、この混合物を攪拌した。

最終溶液は、ポリエステル−ウレタン−メタクリレート
樹脂（ＰＥＵＭＡ）を約３４係濃度含んでいた。

上記樹脂溶液を６６４％　、ヒドロキシエチルメタクリ
レートを３３２チ、６％コバルトナフタネートを０３％
含む混合物を次の使用例に用いた。

実施例 プリント回路板の上面、即ち、構成要素の側面に、最終
溶液を噴霧した。回路板に、３６５０Ａ、６０．０００
μＷ／ｄの紫外線を照射して、被膜を硬化した。紫外線
照射した被膜部分は、１０秒から４５秒以内に固い指触
乾燥状態になった。

構成要素の１暗影部」、即ち紫外線照射を直接□ 受けなかった部分は、湿った手触りであったが、□室温
、湿潤状態で２４時間放置の後に、十分に硬化　□しだ
。２４時間後、「暗影部」の回路板を細かく切ると、−
板の被膜が十分に硬化しているのがわかった・　　：、
　　　・ ステンレススチールタンクの棚に被膜を施Ｖだ板を置き
、タンクの底に、５００　Ｐの水を添加した。

タンクを閉：塞し、密□封じて、１１５Ｃの温度に□な
るまで加熱した。４０時間５．クロ熱した後に１．タン
ク牽冷却した。次に、タンクを開き、板を取シ出し検査
した。

板には、目に見え仝膨れや狸の被膜欠損は観！され女か
った。

実施例■ ジシクロペンテニルオキシエテルメタクリレートの代わ
シニ、等量のアルヲラツクシポマー（：　ＡＩｃｏ、ｌ
ａｃ　、Ｓ　１．ＰＯＭＥｌ（、）　：Ｄ　ＣＡＰ　Ｍ
ジシクロペン、ｊ１９”　＝ルメタク１ノ・し、＝トを
用いる以外は、実施例■と同様な方法を繰シ返した。実
施例■と同様な結果を得た。。

実施例■　□ ジシタ四ペンテニルオ・キシエチルメククリレートの代
わシに、等量のジシクロブタジェンメタクリレートを使
用する以外は５実施例■の方法を繰り返した。実施例■
と同様な結果を得た。

前記のように、本発明は、プリント回路板、並びに電気
的及び電子的構成要素等を相似被覆したシ、ポツティン
グするだめの、新規で改良された化合物と方法を提供す
るものである。

本発明による被覆ボッティング法は、ブラシで塗ったシ
、滴下したシ、ローン引きしたシ、浸漬したり、あるい
は適浩に希釈して噴霧したシするよう々手段によ）、回
路板又は構成要素に施される。

また、この方法は、紫外線硬化を含む二元的構造によυ
、敏速に定着硬化し、即座に指触乾燥状態に硬化すると
とを特徴としている。

しかし、従来の紫外線で硬化した製品と異なシ、本発明
による処理剤は組成物の二次的硬化機構により、完全に
硬化するのに、全領域に亘る紫外線照射を必要としない
。

更に、硬化被覆ポツティング法は、グラスチック、金属
、ガラス及び木材に対するすぐれた伺着性と、すぐれ・
１耐摩耗性と、熱循環における加水分解に対する安定性
、及び耐性を有している。

この被膜とポツティングは、修繕しうるものである。即
ち、メチルエチルケトンのような好適な溶剤により除去
し、次に、ブラシを使用したり、噴霧したシ、紫外線照
射して、置換しうる。

本発明は、特に回路板を相似被覆し、オーディオスピー
カーコーンをポツティングするのに用いられる。

しかし、癌業者ならば、本発明に゛よる組成物及び方法
を、電気的変圧器などの他の部品に使用することも出来
る。更に、この組成物と方法は、電子的分野に用途を限
定されるものではなく、保護相似被覆又はポツティング
を必要とする他の分野においても使用キ九るとよい。

手続補正書（方幻 昭和５９年　３月２　日 特許庁長官　若杉　和夫　殿 １、事件の表示　　　　　　昭和５８年特許願第２１３
１５３号２、発明の名称　　ｌ成分被覆組成物及びその
硬化被覆を形成する方法 ３、補正をする者 事件との関係　　　　　特許出願人 名　　称　　　ロックタイト　コーポレーション４゜代
理人

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （′１）′特に相似被覆及びポツティングに使用される
   １成券被覆組成物であって、 （５）次の群から選択された重合化物質２〔’ｌｊ　（
   ａ）　　少くとも１つのイソシアネートを末端付加した
   ポリエーテルジオール及び □　　　　　少くとも１つのイソシア詠−トを末端付加
   したトリオール、 □　（ｂ）　　アクリレート反応希釈剤及びメタク□　
   　　　リレート反応熱油剤、 ［’２）　（ａ）　　少くとも１つのウレタン−アクリ
   ルート又はウレタン−メタクリレート、 （ｂ）　　アリル基を含むアクリレ−トスはメタクリレ
   ート、 （Ｃ）非アリルアクリレート希釈剤又は非アリルアクリ
   レート希釈剤、 （ｄｌ　　金属乾燥剤。 並びに　。 （１３）光重合型、の重合開始剤を含む、こ牛を特、徴
   とする組成物。 （２）イソシアネートを末端付加したポリエーテルジオ
   ール及びトリオールが、少くとも１つのポリエーテルジ
   オール、及び少り仁も１？のポリエーテルトリオールと
   逼剰の、ジづソシアネートの混合物の反、応生成物を含
   んでいることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に
   記載の組成物。 （３）　　ポリエーテルジオール成分が、約３００から
   約５ｏｏｏ　’ｉでの範囲の平均分子量を有するもので
   記載の組成物。　　′　　　　　　　□（４）ポリエー
   テルトリオール成分が、約２００から約３０００までの
   範囲の平均分子量を有するものであることを特徴とする
   特許請求の範囲第（２）項に記載の組成物。 （５）ポリエーテルジオールが５約４００から約１００
   ０までの華均分子量であシ、ポリエーテルトリオ−ルが
   、約７００の平均分子量であることを特徴□　とｊるｉ
   許請求８範囲第（２）項に記載の組ｍ’ｍン”（６）　
   　ポリエーテルジオールとポリニーテルト、ジオールの
   混合物が、：ポＩＪｊ、：ｒ、　７．テ、ルジオールを
   主成分とするもので６　＄’、ｃ　１４をｉとする特許
   請求の範囲第（２）項に記載の組成物。 （７）　　インシアネートを末端細かしたポリエーテル
   ジオール及びトリオーツ！今、１．０当量のポリエーテ
   ルジオール及びポリエーテルトリオール混合物と５約１
   ６当量から約２．２尚量９ジインシアネートとの反や生
   成物を含んでいることを特徴とする特許請求の範囲第、
   （２）項に記載の組成物。 （８１’　　１．Ｃ１量のポリエーテルジオールとポリ
   エーテルトリオール混合物と、２．０轟量のジイソシア
   ネートを含んでいることを特徴とする特許謂゛　求め範
   囲第（６）項に記載の組成物。 （９）”約４００から約ｉ、’ｏ６ｏｔでの平均分子量
   を有するポリζ−チルジオールの約０．９１．６当量、
   約７００の平均分子量ｉするポリーニテ・１トリオ−・
   ・の０．０８４当量、並びにジフェニルメクンジイソシ
   アネートの２．０当量を含んでいるととを特徴−１とす
   る特許請求の範囲第（８）項に記載の組成物。 ・−・・：クイリ′−ト反応希釈剤又はメタクリ′−ト
   反応希釈剤が、トリノチロールプロパンエトキ”’ｌ’
   ｌｌｌ　ｌ＋レートトリアクリレ−）−、）、シクロで
   メタジエンメタクリレート、ジシクロペンタジェンアク
   リレート、インブチルメタクリレート、インボルニルメ
   タクリレート、ラウリルメタクリレート並みにシクロへ
   キシルメタクリレート、よシなる群から選択さ八だもの
   であることを特徴とする特許請求の範囲第（２）項顛煕
   載の、組成物。、。 （１１）アダリレート翠応希釈剤又はメタクリレート反
   応希釈剤力、瓢組成物中に約２．５重章係から約５０重
   量％までの範囲で含まれていることを特徴とする特許請
   求の範囲第（２）項に記載の組成物。 αり　アクリレート反応希釈剤又はメタクリレート反Ｍ
   　軟剤が、：組成物中に約３５重置部で含ま八ているこ
   とを特徴とｆ’　７１特許請求の範囲第０１）項に記載
   の組成物。　　　　　　　　□ ０３）　　ウレタン−アレリレート又はウレタン−メタ
   タン−アクリレート又は酬すエステルーウレタンーメタ
   クリレートであることを特徴とする特許請求の範囲第（
   １）項に記載め□組成物。 コール及び１６′−ヘキサンしオールとアジピン酸との
   反応生成物であるとと廉特□徴とする特許請求の範囲第
   ０４）項に□記載の組成物。　　　　□Ｏｅ　　非アリ
   ル希釈剤が、ヒドロキシエチルメタクリレートであるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に＾己載の組
   成ｍＬ　−”””　　　””ａη　金属乾燥剤が、少く
   とも２なる原子価を有する金属の塩と１．不飽和有機酸
   を含んでいると、とを特徴とする特許請求の範囲第（１
   ）項に記載の組□ 酸物。 ＋［ｌｉ）　　金属乾燥剤が、コバルト、７ンガン、セ
   リウム、鉛、クロム、鉄、ニッケル、ウランち９亜鉛の
   それぞれリル−ト、ヂンテネート及び、レジネートよシ
   なる軒か、ら選択されたものであることを特徴とする特
   許請求の範囲第α７）項に記載の組成物。　　　　　　
   　　　　　□ ０■　金属乾燥剤が、コバルトナフチネートで、あ、る
   とと大物！とすや特許請求の範囲、第０棒項に、記載の
   組成や。 Ｃ！■　ウレタン−アクリレート又はウレタン−メタク
   リレートが、組成物中に約２０重置部から約５０重置部
   の割合で含まれていること、を特徴とする特許請不の範
   囲第（、講）項に記載の組成物。 （２υ　、非アリルアクリレー計希釈剤又は非アリルメ
   タ、クリレート希釈剤が、約２９重置部から約６０重量
   ％までの割合で含まれていることを特徴とする特許請求
   の範囲第（１）項に記載の組成物。 （社）　アリット基含有アクリレート又はアリル基含有
   メタクリレートが、約１０重量％から約５０重置部まで
   の割合で含まれて緊ることを特徴とする特許請求の範囲
   第（１）項に記載の組成物。 Ｑ■　アリル基含有アクリレート又はアリル基含有メタ
   クリレートが、ジシクロペンテニルオキシエチルメタク
   リレート又はジシクロペンテニルメタクリレートである
   ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載の組
   成物。 （２４）界面活性剤を更に含むことを特徴とする特許請
   求の範囲第ｆ１，１項乃至第（２′ｌＩ項のいずれ空に
   記載の組成物。　　　　　　　： Ｑｏ　１つ以上の暗影部を有する基材上に、紫外線・硬
   化重合による相似被覆又はポツティングを形成する方法
   であって、 〔１〕（Ａ）（ｉ）少くとも１つのインシアネートを末
   端付加したポリエーテルジオール及び トリオール、 （１１）アクリレート反応希釈剤又はメタクリレート反
   応希釈剤、及び （ｒｒｒ＋　　光重合型の重合開始剤、又は（Ｂ）（ｉ
   　＋　　少くとも１つのウレタン−アクリレート又はウ
   レタン−メタクリレート、 （１１）アリル基含有アクリレート又はアリル基含有メ
   タクリレート、 （ｉｉｉｌ　　非アリル基アクリレート希釈剤又は非ア
   リル基メタクリレート希釈剤、 ＯＶ）金属乾燥剤、及び 、（Ｖ）、光重合型の！合間始剤 よシケる群をら選込嬶、れだ重合組成物を与え仝緋階と
   、 〔２〕　　この重合組成物によυ、前記基材を少くと、
   、も部分的に被覆する段階と、 〔３〕被覆された基材に、照射部分が硬化するに十分な
   、波長と強度の紫外線を照射する段階と、〔４〕被覆さ
   れた前記基材を、適当な温度と湿度で貯蔵、して１組み
   込ｔｔ′した硬化機構によシ、前記被覆のうちの紫外線
   照射されなかった暗影部の硬化を促進する段、階とを含
   ｐことを特徴とする方侍。 （２ｅ　　基材が１回路板よシ外シ、この回路板が、そ
   の上に、暗影部を作るよ、、う、な１個以上の構成要素
   を備えていることを特徴とする特許請求の、範囲第ａｓ
   項に、記載の方法。 （２７）基材が、、竺気的構成要素又は電子的構成要素
   を備えている午とを特徴とする特許請求の範、囲。 第、（２句項に記載、の方法。