JPS5914014B2 - ハイドロキノン誘導体の製法 - Google Patents
ハイドロキノン誘導体の製法Info
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- JPS5914014B2 JPS5914014B2 JP12230976A JP12230976A JPS5914014B2 JP S5914014 B2 JPS5914014 B2 JP S5914014B2 JP 12230976 A JP12230976 A JP 12230976A JP 12230976 A JP12230976 A JP 12230976A JP S5914014 B2 JPS5914014 B2 JP S5914014B2
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Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
（式中Ｒ１は低級アルキル基を示し、Ｒ２およびＲ３は
水素原子または低級アルキル基を表わすかあるいはＲ１
とＲ２またはＲ３とが結合して−（ＣＨ２）４一基を示
し、ｎはＯ〜１１の整数を示し、ＡおよびＢはＡとＢで
結合手を示すかまたはＡおよびＢ共に水素原子を示す）
で表わされるハイドロキノン誘導体の製法に関する。
水素原子または低級アルキル基を表わすかあるいはＲ１
とＲ２またはＲ３とが結合して−（ＣＨ２）４一基を示
し、ｎはＯ〜１１の整数を示し、ＡおよびＢはＡとＢで
結合手を示すかまたはＡおよびＢ共に水素原子を示す）
で表わされるハイドロキノン誘導体の製法に関する。
本発明により得られる一般式（１）で表わされる化合物
は有用な薬理効果が期待されるものであるが、とりわけ
補酵素Ｑの製造中間体として重要なものである。
は有用な薬理効果が期待されるものであるが、とりわけ
補酵素Ｑの製造中間体として重要なものである。
補酵素Ｑは生体内の電子伝達系に関与する生理的に重要
なキノ２誘導体である。本発明はこのような補酵素Ｑま
たはその類縁化合物の製造中間体を高収率に得る製法を
提供することを目的とするものである。従来、補酵素Ｑ
の製造法の主なものとしては（１）補酵素Ｑのハイドロ
キノン体またはその誘導体にプレニルアルコールまたは
その誘導体を反応せしめて縮合反応物を得、次にこれを
加水分解および酸化して補酵素Ｑを得る方法（特公昭３
９−１７５１３号公報参照）、（２）補酵素Ｑのハイド
ロキノン体とプレニルアルコール誘導体とをＮ−スルフ
イニル化合物を縮合剤として反応させ、反応生成物を加
水分解と酸化を行つて補酵素Ｑを得る方法（特公昭４７
−２６４９６号公報参照）、（３）補酵素Ｑのハイドロ
キノンージアセテートとプレニルハロゲン化合物のπ−
アクリル型ニツケル錯体とを反応させ、得られた反応生
成物を加水分解後酸化する方法（特開昭５０５８０２１
号公報参照） 等が知られている。
なキノ２誘導体である。本発明はこのような補酵素Ｑま
たはその類縁化合物の製造中間体を高収率に得る製法を
提供することを目的とするものである。従来、補酵素Ｑ
の製造法の主なものとしては（１）補酵素Ｑのハイドロ
キノン体またはその誘導体にプレニルアルコールまたは
その誘導体を反応せしめて縮合反応物を得、次にこれを
加水分解および酸化して補酵素Ｑを得る方法（特公昭３
９−１７５１３号公報参照）、（２）補酵素Ｑのハイド
ロキノン体とプレニルアルコール誘導体とをＮ−スルフ
イニル化合物を縮合剤として反応させ、反応生成物を加
水分解と酸化を行つて補酵素Ｑを得る方法（特公昭４７
−２６４９６号公報参照）、（３）補酵素Ｑのハイドロ
キノンージアセテートとプレニルハロゲン化合物のπ−
アクリル型ニツケル錯体とを反応させ、得られた反応生
成物を加水分解後酸化する方法（特開昭５０５８０２１
号公報参照） 等が知られている。
しかし前記（１）の方法は使用する酸性触媒によりプレ
ニルアルコールまたはその誘導体が分解されたり、また
はその他の副次反応の進行が著しく、従つて補酵素Ｑの
生成収率が３０〜４０％と低減し、さらに、反応時生ず
る不純物の除去が容易でないために高純度のものをしか
も収率よく得ることは不可能である。
ニルアルコールまたはその誘導体が分解されたり、また
はその他の副次反応の進行が著しく、従つて補酵素Ｑの
生成収率が３０〜４０％と低減し、さらに、反応時生ず
る不純物の除去が容易でないために高純度のものをしか
も収率よく得ることは不可能である。
前記（２）の方法は、（１）の方法と同じく反応収率が
低い欠点があり、さらに前記（３）の方法はイソプレノ
イドの異性化が避け難くシス／トランスの割合が％から
％にもおよびトランス体が減少するのみならずその精製
がきわめて困難である。
低い欠点があり、さらに前記（３）の方法はイソプレノ
イドの異性化が避け難くシス／トランスの割合が％から
％にもおよびトランス体が減少するのみならずその精製
がきわめて困難である。
本発明者らはこれら従来法における欠点を解決すべく種
々検討の結果８０％以上の高収率でかつ高純度の補酵素
Ｑ等を得る方法を完成するにいたつたものである。
々検討の結果８０％以上の高収率でかつ高純度の補酵素
Ｑ等を得る方法を完成するにいたつたものである。
すなわち本発明は一般式（式中ＡおよびＢは水素原子を
示すかまたはＡおよびＢで結合手を示し、ｎはＯ〜１１
の整数を示し、そしてＸ１およびＹで結合手を示す場合
Ｘ２はハロゲン原子を示し、またＹおよびＸ２で結合手
を示す場合Ｘ１はハロゲン原子を示す）で表わされる化
合物と一般式（式中Ｒ１は低級アルキル基を示し、Ｒ２
およびＲ３は水素原子または低級アルキル基あるいはＲ
１とＲ２またはＲ３とが結合して一（ＣＨ２）４−基を
示す）で表わされる化合物とを反応させて一般式（式中
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ａ．Ｂおよびｎは前記と同じ意味を
示す）で表わされるハイドロキノン誘導体を得るもので
ある。
示すかまたはＡおよびＢで結合手を示し、ｎはＯ〜１１
の整数を示し、そしてＸ１およびＹで結合手を示す場合
Ｘ２はハロゲン原子を示し、またＹおよびＸ２で結合手
を示す場合Ｘ１はハロゲン原子を示す）で表わされる化
合物と一般式（式中Ｒ１は低級アルキル基を示し、Ｒ２
およびＲ３は水素原子または低級アルキル基あるいはＲ
１とＲ２またはＲ３とが結合して一（ＣＨ２）４−基を
示す）で表わされる化合物とを反応させて一般式（式中
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ａ．Ｂおよびｎは前記と同じ意味を
示す）で表わされるハイドロキノン誘導体を得るもので
ある。
本発明に用いられる一般式（）で表わされる化合物とし
ては例えばゲラニルフロマイド、フアルネシルクロライ
ド、ソラネシルプロマイド、デカプレニルプロマイド、
イソデカプレニルクロライド、フイチルプロマイド、イ
ソフイチルクロライド等のイソプレン単位で構成された
化合物あるいはその飽和化合物があげられる。
ては例えばゲラニルフロマイド、フアルネシルクロライ
ド、ソラネシルプロマイド、デカプレニルプロマイド、
イソデカプレニルクロライド、フイチルプロマイド、イ
ソフイチルクロライド等のイソプレン単位で構成された
化合物あるいはその飽和化合物があげられる。
また一般式（）で表わされる化合物は、文献未載の化合
物であり、このものは例えば２・３−ジメトキシ５−メ
チル−１・４−キノンの６位をハロゲン化した後還元し
て１・４−ハイドロキノンとし、欠いで常法によつて１
・４一位を保護して一般式（式中Ｒｌ．Ｒ２、Ｒ３は前
記と同じ意味を示し、Ｘは・・ロゲン原子を示す）で表
わされる化合物を得、さらにこれに溶媒中でマグネシウ
ムを穏和な条件下に反応させることによつて一般式（式
中Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３およびＸは前記と同じ意味を示す）
で表わされる化合物とし、ついでこのものにハロゲン化
第１銅を反応させることによつて得ることができる。
物であり、このものは例えば２・３−ジメトキシ５−メ
チル−１・４−キノンの６位をハロゲン化した後還元し
て１・４−ハイドロキノンとし、欠いで常法によつて１
・４一位を保護して一般式（式中Ｒｌ．Ｒ２、Ｒ３は前
記と同じ意味を示し、Ｘは・・ロゲン原子を示す）で表
わされる化合物を得、さらにこれに溶媒中でマグネシウ
ムを穏和な条件下に反応させることによつて一般式（式
中Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３およびＸは前記と同じ意味を示す）
で表わされる化合物とし、ついでこのものにハロゲン化
第１銅を反応させることによつて得ることができる。
一般式（）で表わされる化合物より一般式（Ｖ）で表わ
される化合物を経て一般式（）で表わされる化合物を合
成する際に使用される溶媒としては、エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、りん酸
ヘキサメチルトリアミド（以後ＨＭＰＴと記す）等の無
水の溶媒、とりわけＨＭＰＴ単独かまたはテトラヒドロ
フランにＨＭＰＴを添加した混合溶媒が好ましい。一般
式（）で表わされる化合物の調製をさらに詳しく説明す
ると、一般式（）で表わされる化合物を上記の溶媒に溶
解したものを不活性ガス例えば窒素、アルゴン等の気流
下でマグネシウムに滴加して反応させる。この際、グリ
ニヤール試薬が穏和に形成される条件を選べばよく、場
合により加温することもさしつかえない。反応条件は一
般式（）で表わされる化合物を添加後、必要に応じてさ
らに１〜１０時間０〜６０℃で反応を行う。次にこうし
て得られた一般式（Ｖ）で表わされるグリニヤール化合
物に当量のハロゲン化第１銅例えば沃化第１銅を室温下
に加えて１５〜６０分間攪拌することによつて反応を終
了させる。前記一般式（１）で表わされる化合物を合成
するためには前記のようにして得た一般式（）で表わさ
れる化合物の溶液に一般式（）で表わされる化合物を徐
々に滴加する。
される化合物を経て一般式（）で表わされる化合物を合
成する際に使用される溶媒としては、エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、りん酸
ヘキサメチルトリアミド（以後ＨＭＰＴと記す）等の無
水の溶媒、とりわけＨＭＰＴ単独かまたはテトラヒドロ
フランにＨＭＰＴを添加した混合溶媒が好ましい。一般
式（）で表わされる化合物の調製をさらに詳しく説明す
ると、一般式（）で表わされる化合物を上記の溶媒に溶
解したものを不活性ガス例えば窒素、アルゴン等の気流
下でマグネシウムに滴加して反応させる。この際、グリ
ニヤール試薬が穏和に形成される条件を選べばよく、場
合により加温することもさしつかえない。反応条件は一
般式（）で表わされる化合物を添加後、必要に応じてさ
らに１〜１０時間０〜６０℃で反応を行う。次にこうし
て得られた一般式（Ｖ）で表わされるグリニヤール化合
物に当量のハロゲン化第１銅例えば沃化第１銅を室温下
に加えて１５〜６０分間攪拌することによつて反応を終
了させる。前記一般式（１）で表わされる化合物を合成
するためには前記のようにして得た一般式（）で表わさ
れる化合物の溶液に一般式（）で表わされる化合物を徐
々に滴加する。
反応条件は特に制限されるものではないが、一般的には
Ｏ℃〜５０℃で２〜２０時間程度反応させればよく、特
に２０〜３０℃で４〜５時間程度が好ましい。反応終了
後の目的物質の抽出は例えば反応液を水に注ぎ、これを
溶媒例えばエーテルで液一液抽出したのち、さらにエー
テル層を水洗し、溶媒を脱水後、留去して一般式（１）
で表わされる化合物を得る。一般式（）で表わされる化
合物は常温において油状であり、特に精製するまでもな
く薄層クロマトグラフイ一で１スポツトを示し、副反応
物の生成は認められず、殆んど定量的収率で得ることが
できる。本発明の方法においては、一般式（１）で表わ
される化合物は殆んど定量的収率で得られ、また異性体
の混入のない極めて高純度のものが得られる。
Ｏ℃〜５０℃で２〜２０時間程度反応させればよく、特
に２０〜３０℃で４〜５時間程度が好ましい。反応終了
後の目的物質の抽出は例えば反応液を水に注ぎ、これを
溶媒例えばエーテルで液一液抽出したのち、さらにエー
テル層を水洗し、溶媒を脱水後、留去して一般式（１）
で表わされる化合物を得る。一般式（）で表わされる化
合物は常温において油状であり、特に精製するまでもな
く薄層クロマトグラフイ一で１スポツトを示し、副反応
物の生成は認められず、殆んど定量的収率で得ることが
できる。本発明の方法においては、一般式（１）で表わ
される化合物は殆んど定量的収率で得られ、また異性体
の混入のない極めて高純度のものが得られる。
また本発明方法によれば前記一般式（）で表わされる化
合物のｎの数が６以上の物質でも定量的収率で高純度の
目的生成物を得ることができる。さらに＝般式（１）で
表わされる化合物より補酵素Ｑまたはその類縁化合物に
導く場合にも一般式（１）で表わされる化合物の保護基
がアセタール型あるいはケタール型の結合をしているこ
とから、酸による離脱が極めて円滑に行われるので、常
法により容易に高純度かつ収率よく導くことができる。
次に本発明を実施例により説明するが、本発明は以下の
実施例に限定されるものではない。
合物のｎの数が６以上の物質でも定量的収率で高純度の
目的生成物を得ることができる。さらに＝般式（１）で
表わされる化合物より補酵素Ｑまたはその類縁化合物に
導く場合にも一般式（１）で表わされる化合物の保護基
がアセタール型あるいはケタール型の結合をしているこ
とから、酸による離脱が極めて円滑に行われるので、常
法により容易に高純度かつ収率よく導くことができる。
次に本発明を実施例により説明するが、本発明は以下の
実施例に限定されるものではない。
実施例 １（ａ） ２・３−ジメトキシ−５−メチル−
６−ゲラニル一１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキ
シメチルエーテルの合成マグネシウムリボン５０ηを乾
燥したテトラヒドロフラン５ｍ１に浸し、微量の沃素を
添加した後、アルゴン気流下でかきまぜながら２・３ジ
メトキシ−５−メチル−６−プロモー１・４−ハイドロ
キノンービスーメトキシエーテル７００ηをテトラヒド
ロフラン１５ａに溶解した溶液を滴下する。
６−ゲラニル一１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキ
シメチルエーテルの合成マグネシウムリボン５０ηを乾
燥したテトラヒドロフラン５ｍ１に浸し、微量の沃素を
添加した後、アルゴン気流下でかきまぜながら２・３ジ
メトキシ−５−メチル−６−プロモー１・４−ハイドロ
キノンービスーメトキシエーテル７００ηをテトラヒド
ロフラン１５ａに溶解した溶液を滴下する。
その後、マグネシウムが溶解するまでかきまぜる。反応
液にＨＭＰＴ３７ｎｌおよび沃化第１銅３９０Ｗ１ｊ？
を加え室温でさらに３０分間かきまぜる。次にこの反応
液にゲラニルプロマイド４４０ηを加えて室温にて３時
間かきまぜつつ反応させる。
液にＨＭＰＴ３７ｎｌおよび沃化第１銅３９０Ｗ１ｊ？
を加え室温でさらに３０分間かきまぜる。次にこの反応
液にゲラニルプロマイド４４０ηを加えて室温にて３時
間かきまぜつつ反応させる。
反応終了後飽和の塩化アンモニウム水溶液に注ぎこれを
エーテルで抽出する。エーテル層を水洗後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去して淡黄色油状の２
・３−ジメトキシ−５−メチル−６−ゲラニル一１・４
−ハイドロキノンービスーメトキシメチルエーテルを得
る。収量７５９ワ、（収率９３％）。次にこのものの物
゛囲を示せば下記のとおりである。
エーテルで抽出する。エーテル層を水洗後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去して淡黄色油状の２
・３−ジメトキシ−５−メチル−６−ゲラニル一１・４
−ハイドロキノンービスーメトキシメチルエーテルを得
る。収量７５９ワ、（収率９３％）。次にこのものの物
゛囲を示せば下記のとおりである。
ＩＲ（Ｎｅａｔ） １６６０１１１６５、１０６５、９
８５ＣＴ１Ｌ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ） １．５７
（ｓ、３Ｈ）、１，６５（Ｓｌ３Ｈ）、１．７４（Ｓｌ
３Ｈ）、２．０（Ｍｌ４Ｈ）、２．１７（Ｓｌ３Ｈ）、
３。
８５ＣＴ１Ｌ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ） １．５７
（ｓ、３Ｈ）、１，６５（Ｓｌ３Ｈ）、１．７４（Ｓｌ
３Ｈ）、２．０（Ｍｌ４Ｈ）、２．１７（Ｓｌ３Ｈ）、
３。
３７（Ｄｌ２Ｈ）、３．５７（Ｓｌ６Ｈ）、３．８３（
ｓ、６Ｈ）、５．０２（ｓ、４Ｈ）、５．０５（Ｍｌ２
Ｈ）質量分析 ｍ／Ｅ４Ｏ８（Ｍ＋） （ｂ） ２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−ゲラニ
ル一１・４−ハイドロキノンービスーメトキシメチルエ
ーテル７９３ワから補酵素Ｑ２を調製するには、このも
のをメタノール２０ｍ１に溶解し、塩酸を１滴加えて室
温で１時間反応させた後メタノールを留去し、残留物を
常法で酸化すれば粗製の補酵素Ｑ２（５７８ワ）が得ら
れる。
ｓ、６Ｈ）、５．０２（ｓ、４Ｈ）、５．０５（Ｍｌ２
Ｈ）質量分析 ｍ／Ｅ４Ｏ８（Ｍ＋） （ｂ） ２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−ゲラニ
ル一１・４−ハイドロキノンービスーメトキシメチルエ
ーテル７９３ワから補酵素Ｑ２を調製するには、このも
のをメタノール２０ｍ１に溶解し、塩酸を１滴加えて室
温で１時間反応させた後メタノールを留去し、残留物を
常法で酸化すれば粗製の補酵素Ｑ２（５７８ワ）が得ら
れる。
これをシリカゲルクロマトカラムに通して精製し、精製
補酵素Ｑ２を得る。収量５５６叩（前記実施例１（ａ）
からの通算収率８４％）。次にこのものの元素分析値（
Ｃｌ，Ｈ２６Ｏ４として）を示せば下記のとおりである
。計算値 Ｃ：７１．６７Ｈ：８．２３（％）実測値
Ｃ：７１．５１Ｈ：８．２０（％）参考例２・３−ジメ
トキシ−５−メチル−６−ブロモ１・４−ハイドロキノ
ン−ビス−２／−テトラヒドロピラニルエーテルの調製
２・３−ジヒドロピラン３．４ｙに１滴の濃塩酸を加え
、冷却下に、ゆつくりと２・３−ジメトキシ−５−メチ
ル−６−ブロモ−１・４−ハイドロキノン１．７４ｙを
加える。
補酵素Ｑ２を得る。収量５５６叩（前記実施例１（ａ）
からの通算収率８４％）。次にこのものの元素分析値（
Ｃｌ，Ｈ２６Ｏ４として）を示せば下記のとおりである
。計算値 Ｃ：７１．６７Ｈ：８．２３（％）実測値
Ｃ：７１．５１Ｈ：８．２０（％）参考例２・３−ジメ
トキシ−５−メチル−６−ブロモ１・４−ハイドロキノ
ン−ビス−２／−テトラヒドロピラニルエーテルの調製
２・３−ジヒドロピラン３．４ｙに１滴の濃塩酸を加え
、冷却下に、ゆつくりと２・３−ジメトキシ−５−メチ
ル−６−ブロモ−１・４−ハイドロキノン１．７４ｙを
加える。
一夜かきまぜたのち、クロロホルムに溶解し、アルカリ
水洗後、溶媒を乾燥し、次に減圧濃縮して過剰の２・３
−ジヒドロピランを留去すると粗製の２・３−ジメトキ
シ５−メチル−６−プロモー１・４−ハイドロキノン−
ビス−２′−テトラヒドロピラニルエーテルが得られる
。収量２，２７７（収率８０％）。このものの物性を示
せば下記のとおりである。ＩＲ２９２Ｏ、１４６１、１
２００、１０７５、１０２１、９４８？−１質量分析
ｎ／Ｅ４３Ｏ（Ｍ＋） 実施例 ２ ２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−フアルネシル一
１・４−ハイドロキノン−ビス−２′テトラヒドロピラ
ニルエーテルの合成マグネシウム５５ワを乾燥したイソ
プロピルエーテル７ｍｌとＨＭＰＴ３ｍｌの混合溶媒に
浸し、沃素を触媒量で添加し、アルゴン気流下にかきま
ぜながら、２・３−ジメトキシ−５−メチル−６ーブロ
モ−１・４−ハイドロキノン−ビス−２′−テトラヒド
ロピラニルエーテル８６０ヮを乾燥したイソプロピルエ
ーテル１５ｍ１に溶解した溶液をゆつくりと滴加し、室
温で３時間反応させ、次いで沃化第１銅３９０ワを加え
て３０分間反応させる。
水洗後、溶媒を乾燥し、次に減圧濃縮して過剰の２・３
−ジヒドロピランを留去すると粗製の２・３−ジメトキ
シ５−メチル−６−プロモー１・４−ハイドロキノン−
ビス−２′−テトラヒドロピラニルエーテルが得られる
。収量２，２７７（収率８０％）。このものの物性を示
せば下記のとおりである。ＩＲ２９２Ｏ、１４６１、１
２００、１０７５、１０２１、９４８？−１質量分析
ｎ／Ｅ４３Ｏ（Ｍ＋） 実施例 ２ ２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−フアルネシル一
１・４−ハイドロキノン−ビス−２′テトラヒドロピラ
ニルエーテルの合成マグネシウム５５ワを乾燥したイソ
プロピルエーテル７ｍｌとＨＭＰＴ３ｍｌの混合溶媒に
浸し、沃素を触媒量で添加し、アルゴン気流下にかきま
ぜながら、２・３−ジメトキシ−５−メチル−６ーブロ
モ−１・４−ハイドロキノン−ビス−２′−テトラヒド
ロピラニルエーテル８６０ヮを乾燥したイソプロピルエ
ーテル１５ｍ１に溶解した溶液をゆつくりと滴加し、室
温で３時間反応させ、次いで沃化第１銅３９０ワを加え
て３０分間反応させる。
次にフアルネシルクロライド４９０叩を加え、室温で３
時間撹拌する。反応液を氷水中に注ぎ、エーテルで抽出
する。
時間撹拌する。反応液を氷水中に注ぎ、エーテルで抽出
する。
エーテル層を水洗後乾燥し次いでエーテルを留去すれば
２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−フアルネシル一
１・４−ハイドロキノン−ビス−２′−テトラヒドロピ
ラニルエーテルを得る。収量０．８６７（収量７０％）
。この２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−フアルネ
シル一１・４−ハイドロキノン−ビス−２′テトラヒド
ロピラニルエーテル０．８６７を実施例１（ｂ）と同様
に処理すれば補酵素Ｑ３が得られる。
２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−フアルネシル一
１・４−ハイドロキノン−ビス−２′−テトラヒドロピ
ラニルエーテルを得る。収量０．８６７（収量７０％）
。この２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−フアルネ
シル一１・４−ハイドロキノン−ビス−２′テトラヒド
ロピラニルエーテル０．８６７を実施例１（ｂ）と同様
に処理すれば補酵素Ｑ３が得られる。
粗製補酵素Ｑ３収量６７０叩（収率８７％）精製補酵素
Ｑ３収量４２２η（収率５５％）実施例 ３２・３−ジ
メトキシ−５−メチル−６−ソラネシル一１・４−ハイ
ドロキノン−ビス−メトキシメチルエーテルの合成マグ
ネシウム５０ηを乾燥したテトラヒドロフラン５ｍ１に
浸し、沃素を触媒量で添加し、これに窒素気流下に２・
３−ジメトキシ−５−メチル〜６−ブロモ−１・４−ハ
イドロキノンービスーメトキシメチルエーテル７００η
を乾燥したテトラヒドロフラン３０ｍ１ＶＣ溶解した溶
液を徐徐に加え、室温で３時間反応させた後、沃化第１
銅３９０ηを加えて、３０分間反応させる。
Ｑ３収量４２２η（収率５５％）実施例 ３２・３−ジ
メトキシ−５−メチル−６−ソラネシル一１・４−ハイ
ドロキノン−ビス−メトキシメチルエーテルの合成マグ
ネシウム５０ηを乾燥したテトラヒドロフラン５ｍ１に
浸し、沃素を触媒量で添加し、これに窒素気流下に２・
３−ジメトキシ−５−メチル〜６−ブロモ−１・４−ハ
イドロキノンービスーメトキシメチルエーテル７００η
を乾燥したテトラヒドロフラン３０ｍ１ＶＣ溶解した溶
液を徐徐に加え、室温で３時間反応させた後、沃化第１
銅３９０ηを加えて、３０分間反応させる。
次にこの反応液にソラネシルプロマイド１．４７を加え
、２時間かきまぜた後、室温で一夜静置する。
、２時間かきまぜた後、室温で一夜静置する。
以下実施例１と同様に処理すれば、淡黄色油状の２・３
−ジメトキシ−５−メチルーソラネシル１・４−ハイド
ロキノン−ビス−メトキシメチルエーテルが得られる。
−ジメトキシ−５−メチルーソラネシル１・４−ハイド
ロキノン−ビス−メトキシメチルエーテルが得られる。
収量１．４９７（収率８４％）。このものの物性を示せ
ば下記のとおりである。
ば下記のとおりである。
ＩＲ（Ｎｅａｔ） １６６５、１１６５、１０６５、９
８５０ｍ−１得られた２・３−ジメトキシ−５−メチル
−６ソラネシル一１・４−ハイドロキノン−ビスメトキ
シメチルエーテル１．４９７を実施例１（ｂ）と同様に
処理すれば補酵素Ｑ９が得られる。
８５０ｍ−１得られた２・３−ジメトキシ−５−メチル
−６ソラネシル一１・４−ハイドロキノン−ビスメトキ
シメチルエーテル１．４９７を実施例１（ｂ）と同様に
処理すれば補酵素Ｑ９が得られる。
収量１．１９ｙ（通算収率７５％）。このものの元素分
析値（Ｃ５４Ｈ，２Ｏ４として）を示せば下記のとおり
である。
析値（Ｃ５４Ｈ，２Ｏ４として）を示せば下記のとおり
である。
計算値 Ｃ：８１．５６％ Ｈ：１０．３９％実測値
Ｃ：８１．４４％ Ｈ：１０．５１％実施例 ４２・３
−ジメトキシ−５−メチル−６−ソラネシル一１ ・４
−ハイドロキノン−ビス−エトキシエチルエーテルの合
成（ａ） ２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−ブロ
モ−１・４−ハイドロキノン−ビス−エトキシエチルエ
ーテルの合成エチルビニルエーテル２、９ｆに１滴の濃
塩酸を加え、冷却下に徐々に２・３−ジメトキシ５−メ
チル−６−ブロモ−１・４−ハイドロキノン０，９３７
を加える。
Ｃ：８１．４４％ Ｈ：１０．５１％実施例 ４２・３
−ジメトキシ−５−メチル−６−ソラネシル一１ ・４
−ハイドロキノン−ビス−エトキシエチルエーテルの合
成（ａ） ２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−ブロ
モ−１・４−ハイドロキノン−ビス−エトキシエチルエ
ーテルの合成エチルビニルエーテル２、９ｆに１滴の濃
塩酸を加え、冷却下に徐々に２・３−ジメトキシ５−メ
チル−６−ブロモ−１・４−ハイドロキノン０，９３７
を加える。
３時間室温でかきまぜたのち、クロロホルムを加えて溶
解し、この液をアルカリで洗浄後、溶媒を乾燥する。
解し、この液をアルカリで洗浄後、溶媒を乾燥する。
次に減圧下に濃縮して過剰のエチルピニルエーテルを留
去すると、粗製の２・３−ジメトキシ−５−メチル−６
−ブロモ−１・４−ハイドロキノン−ビス−エトキシエ
チルエーテルが得られる。
去すると、粗製の２・３−ジメトキシ−５−メチル−６
−ブロモ−１・４−ハイドロキノン−ビス−エトキシエ
チルエーテルが得られる。
収量１．３ｆ（収率９０％）。このものの物性を示せば
下記のとおりである。
下記のとおりである。
ＩＲ（Ｎｅａｔ） ２８８０、１４５０、１４０６、１
３３８、１１４２、１０８０ｃｍ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３、δ） １．１３および１．１７（２個のＴｌ６Ｈ）
１．４３および１．５２（２個のＤｌ６Ｈ）２．３６（
Ｓｌ３Ｈ）３．７（Ｍｌ４Ｈ）３．８６（Ｓｌ６Ｈ）５
．３５（Ｍｌ２Ｈ）質量分析 ｍ／Ｅ４Ｏ６（Ｍ＋）（
ｂ） ２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−ブロモ−
１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキシメチルエーテ
ルの代りに２・３−ジメトキシ５−メチル−６−ブロモ
−１．４−ハイドロキノン−ビス−エトキシエチルエー
テル８２０ワを用いた他は、実施例３と同様に処理し、
補酵素Ｑ９を得た収量０．９５Ｖ（実施例４（ａ）から
の通算収率６０％、融点４１．５〜４２．５℃）。
３３８、１１４２、１０８０ｃｍ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３、δ） １．１３および１．１７（２個のＴｌ６Ｈ）
１．４３および１．５２（２個のＤｌ６Ｈ）２．３６（
Ｓｌ３Ｈ）３．７（Ｍｌ４Ｈ）３．８６（Ｓｌ６Ｈ）５
．３５（Ｍｌ２Ｈ）質量分析 ｍ／Ｅ４Ｏ６（Ｍ＋）（
ｂ） ２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−ブロモ−
１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキシメチルエーテ
ルの代りに２・３−ジメトキシ５−メチル−６−ブロモ
−１．４−ハイドロキノン−ビス−エトキシエチルエー
テル８２０ワを用いた他は、実施例３と同様に処理し、
補酵素Ｑ９を得た収量０．９５Ｖ（実施例４（ａ）から
の通算収率６０％、融点４１．５〜４２．５℃）。
実施例 ５２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−デカ
プレニル一１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキシメ
チルエーテルの合成マグネシウム５０Ｗ１ｆの乾燥した
テトラヒドロフラン７ｍｌとＨＭＰＴ３ｍｌの混合溶媒
に浸し、これに触媒量の沃素を添加し、アルゴン気流下
でかきまぜつつ、これに２・３−ジメトキシ−５−メチ
ル−６−ブロモ−１・４−ハイドロキノンービスメトキ
シメチルエーテル７００Ｔｎ９を乾燥したテトラヒドロ
フラン２０ｍ１に溶解した溶液を滴加し、室温で３時間
反応させた後、沃化第１銅３９０Ｔｆ１９を加えてさら
に１時間反応させる。
プレニル一１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキシメ
チルエーテルの合成マグネシウム５０Ｗ１ｆの乾燥した
テトラヒドロフラン７ｍｌとＨＭＰＴ３ｍｌの混合溶媒
に浸し、これに触媒量の沃素を添加し、アルゴン気流下
でかきまぜつつ、これに２・３−ジメトキシ−５−メチ
ル−６−ブロモ−１・４−ハイドロキノンービスメトキ
シメチルエーテル７００Ｔｎ９を乾燥したテトラヒドロ
フラン２０ｍ１に溶解した溶液を滴加し、室温で３時間
反応させた後、沃化第１銅３９０Ｔｆ１９を加えてさら
に１時間反応させる。
次にこの反応液にデカプレニルプロマイド１．５３７を
加えて室温で５時間かきまぜる。
加えて室温で５時間かきまぜる。
以下実施例１（ａ）と同様にして処理すれば、淡黄色油
状の２・３−ジメトキシ−５−メチル−６デカプレニル
一１・４−ハイドロキノン−ビスメトキシメチルエーテ
ルが得られる。収量１．６４７（収率８６％）。このも
のの物性を示せば下記のとおりである。
状の２・３−ジメトキシ−５−メチル−６デカプレニル
一１・４−ハイドロキノン−ビスメトキシメチルエーテ
ルが得られる。収量１．６４７（収率８６％）。このも
のの物性を示せば下記のとおりである。
ｎＤ１．５１１４ＩＲ（Ｎｅａｔ） １６６５、１１６
５、１０６５、９８５？−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ
） １．６（ｍ、３３Ｈ）、２．０（ｍ、３９Ｈ）、３
．３８（ｄ、２Ｈ）、３．６０（ｓ、６Ｈ）、３．８５
（ｓ、６Ｈ）、５．０５（Ｓｌ４Ｈ）、５．１０（Ｍｌ
ｌＯＨ）得られた２・３−ジメトキシ−５−メチル−６
デカプレニル一１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキ
シメチルエーテル１．６４ｆを実施例１（ｂ）と同様に
処理すれば補酵素ＱｌＯが得られる。
５、１０６５、９８５？−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ
） １．６（ｍ、３３Ｈ）、２．０（ｍ、３９Ｈ）、３
．３８（ｄ、２Ｈ）、３．６０（ｓ、６Ｈ）、３．８５
（ｓ、６Ｈ）、５．０５（Ｓｌ４Ｈ）、５．１０（Ｍｌ
ｌＯＨ）得られた２・３−ジメトキシ−５−メチル−６
デカプレニル一１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキ
シメチルエーテル１．６４ｆを実施例１（ｂ）と同様に
処理すれば補酵素ＱｌＯが得られる。
粗製補酵素ＱｌＯ収量１．３８７（実施例５（ａ）から
の通算収率８０％）精製補酵素ＱｌＯ収量１．３３７（
実施例５（ａ）からの通算収率７７％）精製補酵素Ｑ，
。
の通算収率８０％）精製補酵素ＱｌＯ収量１．３３７（
実施例５（ａ）からの通算収率７７％）精製補酵素Ｑ，
。
の融点は４６．５〜４８℃であつた。実施例 ６
（ａ） ２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−フイチ
ル一１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキシメチルエ
ーテルの合成マグネシウム５０ηを乾燥したテトラヒド
ロフラン７ｍｌとＨＭＰＴ３ｍｌの混合溶媒中に浸し、
これに触媒量の沃素を添加し、アルゴン気流下にかきま
ぜつつ、これに２・３−ジメトキシ５−メチル−６−フ
ロモー１ ・４−ハイドロキノンービスーメトキシメチ
ルエーテル７００ηを乾燥したテトラヒドロフラン２０
ｍ１に溶解した溶液を滴加し、室温で２時間反応させた
後、沃化第１銅３９０ヮを加え、室温でさらに１時間反
応させる。
ル一１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキシメチルエ
ーテルの合成マグネシウム５０ηを乾燥したテトラヒド
ロフラン７ｍｌとＨＭＰＴ３ｍｌの混合溶媒中に浸し、
これに触媒量の沃素を添加し、アルゴン気流下にかきま
ぜつつ、これに２・３−ジメトキシ５−メチル−６−フ
ロモー１ ・４−ハイドロキノンービスーメトキシメチ
ルエーテル７００ηを乾燥したテトラヒドロフラン２０
ｍ１に溶解した溶液を滴加し、室温で２時間反応させた
後、沃化第１銅３９０ヮを加え、室温でさらに１時間反
応させる。
次にこの反応液にフイチルクロライド６４０ηを加え、
室温でかきまぜる。
室温でかきまぜる。
以下実施例１と同様に処理すれば淡黄色油状の２・３−
ジメトキシ−５−メチル−６−フイチル一１・４−ハイ
ドロキノン−ビス−メトキシメチルエーテルが得られる
。収量０．９９７（収率９０％）。このものの物性を示
せば下記のとおりである。ＩＲｌ６６Ｏ、１１６５、１
０６５、９８５ｃｍまたフイチルクロライドに代えてイ
ソフイチルクロライドを使用した場合にも同様に相当す
る目的生成物が得られる。
ジメトキシ−５−メチル−６−フイチル一１・４−ハイ
ドロキノン−ビス−メトキシメチルエーテルが得られる
。収量０．９９７（収率９０％）。このものの物性を示
せば下記のとおりである。ＩＲｌ６６Ｏ、１１６５、１
０６５、９８５ｃｍまたフイチルクロライドに代えてイ
ソフイチルクロライドを使用した場合にも同様に相当す
る目的生成物が得られる。
）） ２・３−ジメトキシ−５−メチル−６−フイチル
一１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキシメチルエー
テル４７０ηを実施例１（ｂ）と同様に処理すれば、２
・３−ジメトキシ−５−メチル−６−フイチル一１・４
−ベンゾキノンが得られる。
一１・４−ハイドロキノン−ビス−メトキシメチルエー
テル４７０ηを実施例１（ｂ）と同様に処理すれば、２
・３−ジメトキシ−５−メチル−６−フイチル一１・４
−ベンゾキノンが得られる。
収量３５４η（実施例６（ａ）からの通算収率８１％）
。このものの物性を示せば下記のとおりである。ＩＲｌ
６７Ｏｌ４６Ｏｌ２６４ｌ２ｌ Ｏ、１１６０ｃＴｒＬ−１ 元素分析値（Ｃ２９Ｈ４８Ｏ４として）
。このものの物性を示せば下記のとおりである。ＩＲｌ
６７Ｏｌ４６Ｏｌ２６４ｌ２ｌ Ｏ、１１６０ｃＴｒＬ−１ 元素分析値（Ｃ２９Ｈ４８Ｏ４として）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中ＡおよびＢは水素原子を示すかまたはＡおよびＢで
結合手を示し、ｎは０〜１１の整数を示し、そしてＸ＿
１およびＹで結合手を示す場合Ｘ＿２はハロゲン原子を
示しまたＹおよびＸ＿２で結合手を示す場合Ｘ＿１はハ
ロゲン原子を示す）で表わされる化合物と、一般式▲数
式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１は低級アルキル基を示し、Ｒ＿２およびＲ
＿３は水素原子または低級アルキル基を表わすかあるい
はＲ＿１とＲ＿２またはＲ＿３とが結合して−（ＣＨ＿
２）＿４−基を示す）で表わされる化合物とを反応させ
ることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があり
ます▼ （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ａ、Ｂおよびｎは前記
と同じ意味を示す）で表わされるハイドロキノン誘導体
の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12230976A JPS5914014B2 (ja) | 1976-10-14 | 1976-10-14 | ハイドロキノン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12230976A JPS5914014B2 (ja) | 1976-10-14 | 1976-10-14 | ハイドロキノン誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5350126A JPS5350126A (en) | 1978-05-08 |
| JPS5914014B2 true JPS5914014B2 (ja) | 1984-04-02 |
Family
ID=14832757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12230976A Expired JPS5914014B2 (ja) | 1976-10-14 | 1976-10-14 | ハイドロキノン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5914014B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6450320U (ja) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 |
-
1976
- 1976-10-14 JP JP12230976A patent/JPS5914014B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6450320U (ja) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5350126A (en) | 1978-05-08 |
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