JPS59169942A - 基材をガラス様フイルムで被覆する方法 - Google Patents
基材をガラス様フイルムで被覆する方法Info
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- JPS59169942A JPS59169942A JP59045350A JP4535084A JPS59169942A JP S59169942 A JPS59169942 A JP S59169942A JP 59045350 A JP59045350 A JP 59045350A JP 4535084 A JP4535084 A JP 4535084A JP S59169942 A JPS59169942 A JP S59169942A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明tよ、スプレー法、tu tri法又(まスピ
ニング法等の簡単な商業的I5 ン1、(こ」、って、
金属、15タス′NLだ(まけラミックi444 iこ
塗(1iηることσ)でさる傳い(例えば0,1−・1
1001) ) jJラスフrル18を低温度C調製り
る方法(こ関りるものである。 II1近、(jtl高分子物T=1’\−スの皮膜を〕
J’クラス膜と(社)き換えて、否定的環境、(91え
([高温、腐蝕性また(j摩耗竹環境中で使用でさるよ
う(こづることに関心が持たれて(7′Xる。l1li
I某な皮II快の必要条(′1としては次のような点
h<あて):(1+、IJラス様の性質を持つこと(口
11も、耐火性、而4 ffl +’l、電気絶縁性お
よび緻密性、凝若竹をイi L、ピンホールがないこと
):(21電枕tこ被覆しIこりコイルに巻(=J 4
づたりでさるJ:)な広(1)凡用性ノ)りあること:
および(3)所望の基材とj色合しうるII(’v”f
;R度で塗布できること。 ガラスフィルムを金属、ガラスおよびレラミック基材に
塗布づる最ち一般的な方ン7ξとして(ま(1)エナメ
ル引きまたはグレージング:(2)化学的蒸す法:およ
び(3)溶融ガラス中への直接浸漬法、がある。これら
の方法は侮れも、薄(X汎用性O)あるフィルムの調製
に関しては種々の欠点がある。 グレージングまたはエナメル引き方法は、代表的には粘
土と長石、またはフリ・y t−<予め溶融されたカラ
ス)と水からなるスラリーを利用する。この混合物は刷
毛塗り、スプレー;J−t、:は浸漬によって塗布され
、引続き加熱してカラスを再溶融づるか、あるいはカラ
ス形成物質を反応さけて溶融づる。こうした方法は凄い
フィルムを製造づるIζめには極めて好適であるが、濡
れJ3よび密着性の問題のために、簿い連続フィルムを
得ることは木質的に不可能である。水性懸濁液をM月に
塗布覆る場合、この懸濁液が基材と化学的に反応して密
着性および濡1しを促進さけるような作用は認められな
い。従って、(浅域的密着による技術(金属表面をビ・
ソキングし・ て粗面にりる等)または高温を必要と
Jる技H:i(即し高揚に熱した基材に乾燥−1ブメル
t5)末を塗市する方法あるいは溶q・1)智が密着性
および濡れの問題を克服づるために開発されている。 しかしながら皮膜の連続性を確実(、二づるために多層
?JiImがしばしば必要どされる。従−〕(クレージ
ングJ5 J、び二1プーメル弓12!iン去はしばし
、ば高温処理温度を必要とし、厚い汎用I11のない皮
ll!;!をもたらづ。 若ト関連りる方法としC1米[jl 1;r訂第321
2929号にi3い−(は、粉末カラスを含イj?lる
右機貿溶液を用いて基材−1(こ/JフスフrルlXを
沈着している。しかしこの方法は遠心分離操作を含む多
数の工程が必要゛Cある点て不利である。 化学蒸れ)人はカラスフィルムを作るために1史用りる
ことがC′さる。しかしイjがら、この方法は畠1i1
1i C゛あり、沈乞速麿が遅い!こめ、例えばカラス
被覆した電線のこときものを連続的に製)^づるために
は特に適さない、7また、沈着したフィルムは多孔質で
あり、再加熱して緻密化しな
ニング法等の簡単な商業的I5 ン1、(こ」、って、
金属、15タス′NLだ(まけラミックi444 iこ
塗(1iηることσ)でさる傳い(例えば0,1−・1
1001) ) jJラスフrル18を低温度C調製り
る方法(こ関りるものである。 II1近、(jtl高分子物T=1’\−スの皮膜を〕
J’クラス膜と(社)き換えて、否定的環境、(91え
([高温、腐蝕性また(j摩耗竹環境中で使用でさるよ
う(こづることに関心が持たれて(7′Xる。l1li
I某な皮II快の必要条(′1としては次のような点
h<あて):(1+、IJラス様の性質を持つこと(口
11も、耐火性、而4 ffl +’l、電気絶縁性お
よび緻密性、凝若竹をイi L、ピンホールがないこと
):(21電枕tこ被覆しIこりコイルに巻(=J 4
づたりでさるJ:)な広(1)凡用性ノ)りあること:
および(3)所望の基材とj色合しうるII(’v”f
;R度で塗布できること。 ガラスフィルムを金属、ガラスおよびレラミック基材に
塗布づる最ち一般的な方ン7ξとして(ま(1)エナメ
ル引きまたはグレージング:(2)化学的蒸す法:およ
び(3)溶融ガラス中への直接浸漬法、がある。これら
の方法は侮れも、薄(X汎用性O)あるフィルムの調製
に関しては種々の欠点がある。 グレージングまたはエナメル引き方法は、代表的には粘
土と長石、またはフリ・y t−<予め溶融されたカラ
ス)と水からなるスラリーを利用する。この混合物は刷
毛塗り、スプレー;J−t、:は浸漬によって塗布され
、引続き加熱してカラスを再溶融づるか、あるいはカラ
ス形成物質を反応さけて溶融づる。こうした方法は凄い
フィルムを製造づるIζめには極めて好適であるが、濡
れJ3よび密着性の問題のために、簿い連続フィルムを
得ることは木質的に不可能である。水性懸濁液をM月に
塗布覆る場合、この懸濁液が基材と化学的に反応して密
着性および濡1しを促進さけるような作用は認められな
い。従って、(浅域的密着による技術(金属表面をビ・
ソキングし・ て粗面にりる等)または高温を必要と
Jる技H:i(即し高揚に熱した基材に乾燥−1ブメル
t5)末を塗市する方法あるいは溶q・1)智が密着性
および濡れの問題を克服づるために開発されている。 しかしながら皮膜の連続性を確実(、二づるために多層
?JiImがしばしば必要どされる。従−〕(クレージ
ングJ5 J、び二1プーメル弓12!iン去はしばし
、ば高温処理温度を必要とし、厚い汎用I11のない皮
ll!;!をもたらづ。 若ト関連りる方法としC1米[jl 1;r訂第321
2929号にi3い−(は、粉末カラスを含イj?lる
右機貿溶液を用いて基材−1(こ/JフスフrルlXを
沈着している。しかしこの方法は遠心分離操作を含む多
数の工程が必要゛Cある点て不利である。 化学蒸れ)人はカラスフィルムを作るために1史用りる
ことがC′さる。しかしイjがら、この方法は畠1i1
1i C゛あり、沈乞速麿が遅い!こめ、例えばカラス
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は特に適さない、7また、沈着したフィルムは多孔質で
あり、再加熱して緻密化しな
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in al!lツカラス中材を浸iffりる112人あ
るいは)17M1!カラスをjj(71基月を弓jき1
0 < 、7’J i人(!1.へ)5p Lうるよう
な11(温ては?jノイルり、;また使(〕)でi!”
%]記riにjj fJる以外ロカラスか比較的高粘1
′1りある!にV)に、ノイルlX厚さは ロ“2に1
5・< (1(’)Unl以1)、汎用(’lのない一
ノイル11シかiI7られイーCい 、uIいカラスノイル11を製jil、 Jるあまり一
0象1白てない方法としてはゾル−グル法がある。この
))ン人 (し 、 例 え IJ ブ リン )
J −(B rinker) ”S 8「9イ木
に月づるゾル−ケルから誘導された反tiJ防11皮l
I!J (S ol −Q cl [) erivc
d △旧1re−f 1ect、ior+ Co
a目ngs for 3 1lican) J
(S olarEncrgy tvl a口s、
5 (1981) 159172 )およびグリンカ
−(3rinker)等菖[ゾル−ケルろ1ら誘導され
た薄いフィルムと多成分)7−イし塙カラス系における
モノリスとの比較(Com11al’1sO1ls o
f 501− (3e+ DOrive(I T+
1i+1Fi1msw 口h Monoliths
in a fvlulticonu+o−nen
t 3ilicate Qlass 3ystem
)J (Tl113olid Fil…s 77
(191N) 141448 )に記載され−(いる
。この方法においては、例えばSi、へβ、By’r;
等の網状構)^形成カチオンからなる金属アルコキシド
類をノJラス先駆物貿として使用している。アルτ1−
ル溶液中でこれらのアルコキシドは部分的に加水分解さ
れ、次いて重合して橋架り酸素原子により結合したカラ
ス様網状(14造を形成Jる。■薄溶液(2〜5当吊%
の酸化物)を浸漬、スピニングおJ、びスプレー法によ
って金属、ガラスおよびしラミック基材に塗イliづる
ことができる。粘材に:tイ1jされると、部分加水分
解されたカラス様高分子は基14表面と化学的に反応し
完全な濡れ性を示す。これは下図のJ、うに表わづこと
がで′き、シリカ様高分子が金1凰(lvNのヒト■」
ギシル化した単層と反応しC直接M−Osi結合を形成
りる: 高分子鎖 イの結果、優れた密着性が達成される。この微細多孔質
シリカ様高分子フィルムは比較的低)晶の熱処理、すな
わら、例えばプリンカー管上[多成分ケイ酸塩ガラス系
におけるモノリシックゲルのガラスへの転換(Conv
ersion ofN−1onol 已bic GO
IS to Q 1asses in a
MulLi−component 31licat
e Glass 3ystem ) j(J、 Ma
t、Sci、16 (1981) 1980−198
8)(示されたようなガラス軟化点よりかなり低い温反
での熱処理によって1緻密なカラスフィルムに転換づる
ことがぐさる。 このゾル グル法は、−回の浸泊十稈(こよつζは極く
薄いく一般的には0.571m以下)フrルl、 Lか
生成できないという欠員がaqる。浸)i工程を繰返す
ことににつ(よりj+7い)rルムを生成づることがで
きるが、厚さを増大させる速度が極めて匠く、引続く被
覆1稈の間fnに熱処理を必要と覆る。 従って、この発明の目的は、カラス様物質のフィルムで
基材を被覆づる方法を提供することである。 この発明の別な目的は、例えは()、1〜100μmの
薄いフィルムを、1]−程の操作で、例えば約400〜
1ooo”cの如き低温度て形成Cさるような基材の被
覆方法を提供することである。 この発明の更に別な目的lj、ノrルム厚さおよびその
他の処理条件をail+御りることが容易な基材の被覆
方法を提供Jることである。 づなわちこの発明にJ、るカンスフrルム(−M祠を被
覆でる方法は、網状椙造内にガラス微粉末を包含させた
高分子網状構造をイjりる部分的に加水分解した金属ア
ルコ1キシドを含イi−4るアルコール水溶液を基材に
塗布して該粘材十に訂首性おJ、び密着性のある最初の
一フィルムをflLjりる1稈、d5よび該粉末カラス
成分を溶FA1;りるに十分な温度に該フィルムを加熱
しく該フィルムを最終的な鋤密フィルムに転換する上程
からなることを特徴とづるものひある。 本質的に、この発明の方法は1.])ホしたゾル−ゲル
法におけるゾル−ゲル溶液中に、微粉末の);め溶融し
たカラス又はゲルを分11シさける」稈を含/しCいる
。従っU、1lJi様な観点から、この発明のli法は
ト述したプリンカー等の文献に記載された従来技術の改
良と言える。この発明方法にお()る既知あるいは10
用的11項の訂細は、特に説明しない限り上記プリンカ
ー等箸のニー)の文献の記載と同様である。 部分的加水分解された金属アルニ】ヤシ1〜の)γf液
液中微粉末カラスを添加づることによ−)で、金属アル
コキシドはガラス粒子と反応する。この反応は理論的に
は次のにうなものlある:反応した断片 反応した断片 これらの反応にj、って、この溶液は分散粒子を完全に
濡ら(ことになり、かクシ(懸濁相の非常に良好な分散
液をもたらづ。ガラスを添加し!、:1!、分散フリツ
I・を含む不合溶液を、慣用的な浸漬、スプレーまたは
スピニング法によ−)で金属、カラスおJ、びレラミツ
ク基拐に塗布づることが出来る。V イliの間にこの
ゾル−ゲル溶液相は基材を完全に濡らしそし′C基材と
反応する。イの間にツルーグル溶液はifラフy11力
を抱込み、それと化学的に結合づる。乾燥りることにJ
、つ(、カラスフリットを取囲みDつそれと結合してい
るカラス様ゲル相からなる非常に均な密着性のあるフィ
ルムが形成される。 塗イ1i後、慣用的な熱処理を用いて、(1)微細多孔
7!iゾル−ゲルガラス様フィルムを緻密なカラス様フ
ィルムに転換し、且つ(2) 塗イi シたフリットを
再溶融づることができる。この方法の利点は、フリット
を基材に結合し且つそれ自身に結合しているパ結合剤″
が直接ガラスに転換されるために、有機質結合剤に見ら
れるような燃焼により孔を形成づるようなことはない点
である。 また、このゾル、ゲル物質は急速に1つ低温度で転換し
てガラスを形成し、かくして、低融点フリットと相俟っ
て、この方法を低温度のl 4i、例えばAJ2.Cu
、Niなどの非耐火性基材を被覆づる場合に好適なも
のとさける。 部分加水分解金属アルコキシドの高分子網状構造を含有
するアルコール水溶液の組成については、例えば+Wt
記プリプリンカー文献に記載されている。17.7適な
金属アルコキシドとして(よ、アルキル部分に1〜・4
個の炭素原子をbつものが特に挙げられる。炭素原子の
故がJ、り大きいしの、例えば6または7個の炭素1卓
子をイ」りるしのら使用てさるが、炭素原r数が多くな
るとφyイIIシたフィル11の乾燥がより勤しくなる
。金属アルコキシド中の好適な金属としくは非常に広範
囲の金属が挙I)られ、例えIJ I+’、I IIJ
表の第■第mJUよび第1V屈や、遷移金属類J> J
、びその他の多価(例えば+3 + F /I 、
(r;等)金属煩か挙げられる。これら金属のアル」
キシド類は加水分解によフC三次元の高分子網状構造を
形成づる。通常、金属は硼素、アルミニウム、チタン、
珪素、ジル:コニウムおよびこの他のレラミックタイプ
の金属類である。複数の全屈アルコキシドの混合物を用
いて、フィル11の竹71を塗布条件に適合づるJ:う
に仕上ることもCきることは従来と同様である。 溶液に用いる適当なアル−1−ル類は例えばC4〜4の
アルカノール類の如き低級アルカノールである。このア
ルコールの゛アルキル部分は、アルコキシドのアルキル
部分と同しくすることができる。通常、エタノールまた
はプロパツールがあらゆるアルコキシドと共に使用する
ことができる。しかしながら、アルコールを正確に一致
さけることは必要でない。一般に、アルコキシドにおけ
ると同様に、アルコールの分子量が大きくなるにつれて
乾燥工程に時間がかかり、網状((4HBのための重合
反応が遅くなる。金属アル」キシ1−に代えであるいは
金属アルコキシドど共に、メ1〜キシエタノール類の如
さアル−1キシドとアルコールとの組合せ誘導体類を(
史用1することもiiJ能である。 必要に1,6じ−てこの溶液中に更に、硝酸塩や酢酸4
4の如き系相溶性のアニΔンV!をも−)、アルカリ金
属またはアルカリ土類金属または水j1!ko)i>i
類の如き系相溶性の金属塩を含有さけることし′r:き
る。これらの塩類は、冑らねるフィルムの性?1を所望
の最終用途に適合りるように(J上るために添加される
。例えば、アルカリ金属類を添加づると周知のように最
終酸化物フィルムのガラス転移温瓜を低下させることが
(さJ、う。従って、これらの塩類はフシックスのJ−
)な作用を右しCいる。斯様な塩が最終的に冑′られる
フィルムの凝着性に悪い影響を及ぼさないように注意づ
べきである。例えLff、フィルムを乾燥する際に急速
に結晶化りる。1、う/、ニー += LJ、’iU?
IJるべきである。急激な結晶化が起−)た1易合に
は、このフィルムは不拘!1と4するだろう。 通常、部分的に加水分解された71ル1−1シト溶液を
作るために酸加水分解が用いられる。この場合、p l
−lは通常1〜2.5の範囲(あり、塩酸、硝酸等の酸
を添加し−C調節される。塩基加水分解を利用づること
もでき、この場合、通常pl−16〜9で行なわれる。 好適な)&: Itは水酸化アンモニウム等の弱塩基で
ある。より総括的に述べれば、適当なp Llは十・〜
・9の範囲であり、中間のpl−1は酢酸/酢酸塩の如
き適当な緩衝液を添加づることによって維持される。正
確な1111の選択は周知のJ、うに絹成依(7士(1
のものである。 )R液の11確な組成は、含J、れる成分おJ、ひ所+
’Jlの113柊的な性71に依存するbのCある6
般的に、以1・のJ、うな割合が用いられる:全屈アル
コー1シトと金属塩との合51て50−!’1oO(J
(金属J晶(,1この含削吊の50%まて)’:ノ’/
レー1−ル1000−一、+0O00o ;水10〜5
00g ;粉末ガラス10・−10(Ig:および上記
のp Llにづるために必要4f酸または塩基(通常は
数滴f)s rら1NHCρの約1 nllあるいはN
+−1,OHの3 m、Qまてて十分である)。 必要に応じて正確な但をこれらの範囲から外れて変化さ
せることもできる。例えば、使用りる金属塩の吊は所望
の最終的性質に依存する。 例えば、低温度で溶融させたい場合には、アルカリ金属
塩の量を多めに用いる。薄いフィルムを塗布しlζい場
合には、アルコールの気を比較的多くして網状構造の希
釈を増大させる。所望の加水分解の邑を達成するlζめ
に、水の吊を変えることができる3、同様に、最終的な
所望性費に応じて、使用するカラスの小を選択りる。代
表的に+J 、基+4に塗イ[iされる溶液の粘度は、
1 10 ボイズから15ボイスよC゛、あるいは溶液のゲ
ル化点51、(の範囲どづる。 粉末力゛ラスは、原則どしC1如伺(2るカラスからも
作ることかCきる。刀ラスの正Ii?fな性′i1は臨
界的4Tものではないが、所望の特定の用途に従って選
定される。しばしば、ノノルカリホウ伺酸塙、アルカリ
アルミノ?d 09塩笠の如さ慣用的な硅酸塩または燐
酸塩ベースのカラネを用いることかできる。使用さ4す
るカラスの(Φ類に重要な制限はイrい。適当なカラス
の代表的な例として)1.1911えl;[I’ )j
ラス リイ1−ンス(Ql+l5S3cicnce)
J ([)orcmus、 Jolln WilCy
&S on、 N asv )’ ork (
1!173) )を参照0)t−と、。 特に使用riJ能/2り、イゾの刀ラスは、光フッ・イ
ハープレーノA−ム#A込に関りる米国4’J ;’l
第22723/12号に記載され(いるbのである。こ
れ1;Jl、四塩化物の炎加水分解にJ、す/jシラス
(カフ微細な分散系を製造することができるために、1
7定の用途に好適である。 代表的には、カラスの粒径は200= 400メツシコ
の範囲あるいはこれより小さいもの(ある。 この場合し、ぞの粒径は特定の用途に応しC)欽定され
る。例えば一般に、粒径か小さくなるほど、焼結温度、
づなわら最終的フィルl\を製造づるのに必要な加熱温
度を低くJることがCきる。比較的太さい粒径でも、例
えば杓i¥が一定の範囲内に適切に分子ti bでいる
場合には、使用Jることかできる。粒子の形状は重要で
なく、プレート状、球状等あらゆるものが使用Cきる。 この発明方法の特イjの利点は、この方法がII(い温
度を用いて非常に耐久性のあるフィルムを形成でさると
いう事実から由来Jる。従つC1好ましい態様にδ3い
ては、粉末カラスとして例えば4()0−・500’C
の比較的低渇喰のカラス軟化点を右づるものを使用する
。しかしながら勿論、より高い湿度で溶融りるガラスを
多くの用途に用いることができる。 被覆溶イ々の調製は、1″it= nI2明した事IO
以外は本質的に1C1用的なしのCあり、恐ら<ン′l
−1の予り実験をづれば、当梨名(あれLlj L1名
冒1)4「操作で最適なム1η製がひきる。一般(J、
先り”D初に、部分加水分hT L 1ζアル了11シ
トの溶)1シを牛成りる。この場合、沈澱かできり−1
1つ溶液中に高分子網状構造が保持される上うな条1′
1をjη111!りる。 通常は、溶液成分をアルニJ−ルに添加し、次に水を添
加づる11代表的には、たと2」11本反応及び縮合反
応が完了17ても、この系かi;+ rγf t’l
’c 741(持づるようへ条件を1′するために、ア
J1...−’l lジ)への各しルに対して水1[ル
を使用りる1、ここ(″部分加水分解パという用語(,
1、中線1jQ昧(使用されCいる3、何故イTら(,
1内(1的+、−1;Iノ′ル・1キシ基の全でがIJ
11水分解されないから(ある、代表的には、この部分
IJI+水分Ill? CI室温ノ〕曹)約60−80
°CまCのc晶13J Ci′iな:l−1 :)lる
。l’l: (l\さことに、この加水分解は室温C迅
速に完1′りるため、1n用的な溶液の加熱は全く不要
であることが見出きれIこ。 加水分解の程度は、例えば最終用途を木節して、慣用的
に選定される。例え(3L、基材のトに線形配列させる
ことが望ましい場合lこは、畏い鎖□III 7J(分
解の程度が比較的高い)がしはし・1、(望ましい。加
水分解の稈1身は、−1−としC溶1iij [11の
水の吊を選ぶことにJ、って制御リイ、ことか(さる、
1一般的には、水の平を減らしpHを落1ことに1一つ
′(、加水分解の稈喰Lt、 (+(十すイ)1、ホの
早を増(゛)し1j1(をδ11りづることによつU
、 tall水分解の程度は高まる。しか(7ながら+
11171(分Fl’?のf?■でのしのは余り重要C
ない。 t′1) 14、力ラスを)脆加しくいイ1−いこ−の
’II :i5rは、この発明の′)り)末カラス添加
物として使用Cさる微′t;)木刀ラスを製造覆るため
t’= (’l川りろJ、!か7さる。口の微扮未ガラ
スは、高分子網状1i4造を成1処さけ(グルとし、次
いにの部;> 7111水分IQ’()H液をや2煙し
て多孔性固体を生成りること(、二」、つCIItl甲
(J調製でさる。この多孔性固体を扮l□+1゛すれば
、非常に微細なガラス粉末を得ることかてきる。必要な
らはこのカラス粉末をその軟化点より低い温石で加熱し
て1−)1、い。 この発明の方法におい(は、部分加水分解7フルー1キ
シ1〜溶液を生成したの15、予め選定されたmの14
)木刀ラスを添加りる。、カラスど部分+Jll水分解
水分解アルニドキシド応は直’、−> U二’全温C間
始りる。従−)にの場合も加熱は必′12て゛<’Lい
が、従来と同様G O〜80℃迄の湯度を使用りること
がCさる。 この反1.i:、、溶液を従来と同様にしく基(Δに塗
71iすることにJ、す、に[稈でこの発明の好ましい
皮11!、14′(qることかでき、好ましくはt[(
記の操作で、0.1・へ・1007.z…の範囲である
いは所望にJ、りその他の厚さで・容易にイの厚さを変
えられる薄い皮膜を19ることができる。低)晶おJ−
ひ厚さの調1iiiにIJII *、 t、この発明に
にる皮IIG>は従来の皮膜に比べで、」、リ一層の汎
用性がある貞も1刊り点C″ある。 溶液を基材に:ラフイ11りるに(J、浸i?1、スー
fレーあるいはスピニング(1!■に半導体lJ祠に関
連して)の如き従来の方法が使用℃゛さる。 例示的に述l\るならば、j9さのム11°J i!D
1.J、、((・11升ば浸漬操作においては、以下
の何れかのパラメータを調節りることによっては成りる
ことが(ぎる:(1)カラス(フリット)のδ捜& ;
f2)ソ゛ルグル冶)1にの温度;(3)ゾル−グル
溶液の粘磨:(/I)浸漬速磨;(5)浸漬角度:等。 スプレー処理の場合には、最初の三つのパラメータの他
に、スプレー同量も厚さ調節のjζめに変えることが(
さる。 所定の処理においτ基材に塗イ11される)R液の吊は
、例えは溶液中の成分の量を考慮づることにより、慣用
的に決めることができる。溶液は通常室温で塗布される
が、勿論特定の用途(Jおいては昇温下v’4布するこ
ともてきる。同様に、暴利を予め加熱しておき次にその
上に溶液を塗イIiりることbjjJ能である。引続く
フィルlX緻1デj化のための加熱工程は、少なくとも
粉末カラスの軟化員、通常は少なくとも4(10’Cの
温度−C一般に行なわれる。経済性と簡便性のために、
最高加熱温度は通常ガラス軟化点を約50〜100°C
越えるまでの温度Cある。この加熱][稈によって、最
初に塗11i シた誘電タイグの一ノイルムを最柊的イ
「所望の不透過性の保護カラス用ノイルムに転16りる
1゜ 塗イl+ d3 J、び′または加熱−1(、l、’l
は、通帛の人気条(’lト(行/i′うごとがCさる。 しかしながら、従来と同様に、これらの工程4不話性、
jw九竹または酸化性雰囲気、更には必要な、らば真空
中で行ム)ことしくさる。 m far LJ だ/ −r /L/ lx 1.J
11 il、; lJ<’21! ”J ル。、Z
し1.J商業的塗rIiにどっ(は重要な刊fユ【であ
る。例えは連続タンク製造fj法を抹用りることかCさ
る。 勿論、必要ならば、この発明のfj刊イン11土稈塗f
li変えて、繰返し塗ffi ’t)採用りることがC
さる。同様に、上述したようなりrましい塗布り法政外
にも、例えば刷毛塗り等の方ン人す使用りることが−C
きる。 こ発明のフィルムは、15月表面を絶縁性、耐摩耗性、
不透過性等にしたい場合に基↑A去而面適用りることが
でさる。一般的用途は上層のも14Aの保護である。し
かしなから層厚さを10川的に調節することによって光
学的用途にも利用づることができる。 基材の表面そのものに1.1本71的な制限はない。 金属類、カラス類、セラミック類、半導1本等か全てこ
の発明の方法を用いC被fitlることができる。前述
したように、この方法は特に低融点の基材に対して適用
づることかできる。これらの低融点基材に刻しては、カ
ラス様皮躾を施づことは通常は困難である。何故ならL
JXtM来必要とされていた加熱工程により低融点基材
が10社を受()るかうである。か< L T 、この
発明は特に例えばアルミニウム、カブ[〜ンの如さ高分
子物11、低融点合金等の基4Δに灼しτ適用づること
かCきる。勿論、銅、−ツケル、カラス。 しラミック等どいつた高融J1°、1基+AにりJ L
−(b !rl様に適用りることかできる。勿論、前
)ホし/、: Jうに、JJ(祠の表面が水酸基を1′
1′っことは必要lはないo 91jんと全ての基材は
その上に少イcくどし中層の酸化物をイjしている。)
rル11の)1・J切な凝着性おJ、び密層性をif「
実にりるl、:めにIJIυi様な酸化物の単層で十分
である。更に、この発明のフィル11は、前述した以外
の綿含反1・L・、例えばアミノ基との縮合反応によつ
(Jij−44(、二密石することができる。従−)で
この5七明は広a・b Ifll lご応用づることが
できる。 同様に、この発明のフィルノ、を)台用しJうとする基
材の表面の形状には1iiJ等制限はない。場合によっ
ては、フィルムのIΩ4’t /、=、 l;λ1れ肋
骨に基づいてこの発明により達成される異常な稈に強カ
イ」゛密盾性を考えると、1;を月がrす卸な形状を持
っている場合に特に適用することがてさる。 以下に実施例をあげ(説明りるが、これらの実施例は単
にこの発明を説明りるためのものであって、この発明は
これら実施例にのみ限定されるものではない。尚、実施
例中に示づ温度は補正しない摂氏温度であり、また、部
および%は特に示さない限り干出ベースである。 実施例1゜ シリコンデ1−ラエ1ヘキシド(315111g)、無
水1−クノール(3N、+ m、o) 、1 N 1
lOff < 2 (’1滴)a3よひII□O(26
m、o )を60″CC反応フシス1中て混合した。1
、 !i l+’、’1間11’t J’l’後この
溶液を330℃に冷7JI Lノ、If□0231m、
Qを再(J’ irt 11111. IJ、この溶液
を3i)にt l” ”Q 30分反1,6さI! !
、: i’;t、無水1タノールη5:1に希釈した。 この溶ii+1100 m、Q IこF記イ11成の粉
末カラス〈−う0(1メツシ1)209を添加した: S i 0. 40.4 (w1%)j’i
Q2 18i A f、032.5 CaQ 3.5 、〜Ig Q 2.2 Na、0 12.1 に□Q 21.2 この溶液を銅の基材に浸漬法により塗布したのち空気乾
燥した。この基材を流動窒素雰囲気中で1000℃に加
熱した。この処理によって厚さ25μmの均一なガラス
皮膜が1!7られ、−での抵抗率は8×100・amよ
りも大きかった。 実施+ul 2 。 シリ:Jンーjトラ丁1−キシド(61nto ) 、
無水エタノール(61+nρ)、1N 1−ICQ(
4滴)およびH,O(5m、0 ) ヲ60 ’CC1
11Jj間反応フラス:J中で)昆合し、た。この溶液
を40′Cに冷NI L、、−1’ ”/ −i 1J
ハ、/ −)Lr (9,Om、fl ) ニ溶解し
た△esec−ゾl−キシド(8,70) 、 l−1
□0 (2,2m1l >および1lIII酸トリメチ
ル(13,軸O)を添h11シた。 40 ’C′C″1時間1糸、l−120(2!i、8
m、り ) 、酢1り (4,0111,[l ) i
lj土び耐酸バリウlx < !t、3G l11.
Q )を添加した。この溶液を無水]タノール(4:1
に希釈し、:′30分間M打した。この)γf液に、5
中量%当帛の酸化物を含む溶液を生成するLJ必鼓なm
の下記組成のカラスを添加した。 B2O340(mo1%) Δ、c0 10 λ 3 1’)bo 40 CIIo 30 この溶液を浸漬法によって万ラスd3J、0珪素の基材
に塗イ1iシた。600℃C・加熱した後、Vさ1/、
7m以下のフィルj1が得られた。 上記の実施例−(用いた反応物Jj J:び、′J、た
(よ操作条件を総括的まIJは1”i定向に述べたこの
発明の反応物J3よび/′または操作条(’lと買さ換
えて、上記の実施例と同じ手順で繰返づことら可能(あ
る。 以上の説明から、当業者ならばこの発明の特徴を容易に
理解づることができ、またこの発明の範囲から外れるこ
となく種々の変更や修正等が可能であることが判るであ
ろう。 特許出願人 アメリカ合衆国
るいは)17M1!カラスをjj(71基月を弓jき1
0 < 、7’J i人(!1.へ)5p Lうるよう
な11(温ては?jノイルり、;また使(〕)でi!”
%]記riにjj fJる以外ロカラスか比較的高粘1
′1りある!にV)に、ノイルlX厚さは ロ“2に1
5・< (1(’)Unl以1)、汎用(’lのない一
ノイル11シかiI7られイーCい 、uIいカラスノイル11を製jil、 Jるあまり一
0象1白てない方法としてはゾル−グル法がある。この
))ン人 (し 、 例 え IJ ブ リン )
J −(B rinker) ”S 8「9イ木
に月づるゾル−ケルから誘導された反tiJ防11皮l
I!J (S ol −Q cl [) erivc
d △旧1re−f 1ect、ior+ Co
a目ngs for 3 1lican) J
(S olarEncrgy tvl a口s、
5 (1981) 159172 )およびグリンカ
−(3rinker)等菖[ゾル−ケルろ1ら誘導され
た薄いフィルムと多成分)7−イし塙カラス系における
モノリスとの比較(Com11al’1sO1ls o
f 501− (3e+ DOrive(I T+
1i+1Fi1msw 口h Monoliths
in a fvlulticonu+o−nen
t 3ilicate Qlass 3ystem
)J (Tl113olid Fil…s 77
(191N) 141448 )に記載され−(いる
。この方法においては、例えばSi、へβ、By’r;
等の網状構)^形成カチオンからなる金属アルコキシド
類をノJラス先駆物貿として使用している。アルτ1−
ル溶液中でこれらのアルコキシドは部分的に加水分解さ
れ、次いて重合して橋架り酸素原子により結合したカラ
ス様網状(14造を形成Jる。■薄溶液(2〜5当吊%
の酸化物)を浸漬、スピニングおJ、びスプレー法によ
って金属、ガラスおよびしラミック基材に塗イliづる
ことができる。粘材に:tイ1jされると、部分加水分
解されたカラス様高分子は基14表面と化学的に反応し
完全な濡れ性を示す。これは下図のJ、うに表わづこと
がで′き、シリカ様高分子が金1凰(lvNのヒト■」
ギシル化した単層と反応しC直接M−Osi結合を形成
りる: 高分子鎖 イの結果、優れた密着性が達成される。この微細多孔質
シリカ様高分子フィルムは比較的低)晶の熱処理、すな
わら、例えばプリンカー管上[多成分ケイ酸塩ガラス系
におけるモノリシックゲルのガラスへの転換(Conv
ersion ofN−1onol 已bic GO
IS to Q 1asses in a
MulLi−component 31licat
e Glass 3ystem ) j(J、 Ma
t、Sci、16 (1981) 1980−198
8)(示されたようなガラス軟化点よりかなり低い温反
での熱処理によって1緻密なカラスフィルムに転換づる
ことがぐさる。 このゾル グル法は、−回の浸泊十稈(こよつζは極く
薄いく一般的には0.571m以下)フrルl、 Lか
生成できないという欠員がaqる。浸)i工程を繰返す
ことににつ(よりj+7い)rルムを生成づることがで
きるが、厚さを増大させる速度が極めて匠く、引続く被
覆1稈の間fnに熱処理を必要と覆る。 従って、この発明の目的は、カラス様物質のフィルムで
基材を被覆づる方法を提供することである。 この発明の別な目的は、例えは()、1〜100μmの
薄いフィルムを、1]−程の操作で、例えば約400〜
1ooo”cの如き低温度て形成Cさるような基材の被
覆方法を提供することである。 この発明の更に別な目的lj、ノrルム厚さおよびその
他の処理条件をail+御りることが容易な基材の被覆
方法を提供Jることである。 づなわちこの発明にJ、るカンスフrルム(−M祠を被
覆でる方法は、網状椙造内にガラス微粉末を包含させた
高分子網状構造をイjりる部分的に加水分解した金属ア
ルコ1キシドを含イi−4るアルコール水溶液を基材に
塗布して該粘材十に訂首性おJ、び密着性のある最初の
一フィルムをflLjりる1稈、d5よび該粉末カラス
成分を溶FA1;りるに十分な温度に該フィルムを加熱
しく該フィルムを最終的な鋤密フィルムに転換する上程
からなることを特徴とづるものひある。 本質的に、この発明の方法は1.])ホしたゾル−ゲル
法におけるゾル−ゲル溶液中に、微粉末の);め溶融し
たカラス又はゲルを分11シさける」稈を含/しCいる
。従っU、1lJi様な観点から、この発明のli法は
ト述したプリンカー等の文献に記載された従来技術の改
良と言える。この発明方法にお()る既知あるいは10
用的11項の訂細は、特に説明しない限り上記プリンカ
ー等箸のニー)の文献の記載と同様である。 部分的加水分解された金属アルニ】ヤシ1〜の)γf液
液中微粉末カラスを添加づることによ−)で、金属アル
コキシドはガラス粒子と反応する。この反応は理論的に
は次のにうなものlある:反応した断片 反応した断片 これらの反応にj、って、この溶液は分散粒子を完全に
濡ら(ことになり、かクシ(懸濁相の非常に良好な分散
液をもたらづ。ガラスを添加し!、:1!、分散フリツ
I・を含む不合溶液を、慣用的な浸漬、スプレーまたは
スピニング法によ−)で金属、カラスおJ、びレラミツ
ク基拐に塗布づることが出来る。V イliの間にこの
ゾル−ゲル溶液相は基材を完全に濡らしそし′C基材と
反応する。イの間にツルーグル溶液はifラフy11力
を抱込み、それと化学的に結合づる。乾燥りることにJ
、つ(、カラスフリットを取囲みDつそれと結合してい
るカラス様ゲル相からなる非常に均な密着性のあるフィ
ルムが形成される。 塗イ1i後、慣用的な熱処理を用いて、(1)微細多孔
7!iゾル−ゲルガラス様フィルムを緻密なカラス様フ
ィルムに転換し、且つ(2) 塗イi シたフリットを
再溶融づることができる。この方法の利点は、フリット
を基材に結合し且つそれ自身に結合しているパ結合剤″
が直接ガラスに転換されるために、有機質結合剤に見ら
れるような燃焼により孔を形成づるようなことはない点
である。 また、このゾル、ゲル物質は急速に1つ低温度で転換し
てガラスを形成し、かくして、低融点フリットと相俟っ
て、この方法を低温度のl 4i、例えばAJ2.Cu
、Niなどの非耐火性基材を被覆づる場合に好適なも
のとさける。 部分加水分解金属アルコキシドの高分子網状構造を含有
するアルコール水溶液の組成については、例えば+Wt
記プリプリンカー文献に記載されている。17.7適な
金属アルコキシドとして(よ、アルキル部分に1〜・4
個の炭素原子をbつものが特に挙げられる。炭素原子の
故がJ、り大きいしの、例えば6または7個の炭素1卓
子をイ」りるしのら使用てさるが、炭素原r数が多くな
るとφyイIIシたフィル11の乾燥がより勤しくなる
。金属アルコキシド中の好適な金属としくは非常に広範
囲の金属が挙I)られ、例えIJ I+’、I IIJ
表の第■第mJUよび第1V屈や、遷移金属類J> J
、びその他の多価(例えば+3 + F /I 、
(r;等)金属煩か挙げられる。これら金属のアル」
キシド類は加水分解によフC三次元の高分子網状構造を
形成づる。通常、金属は硼素、アルミニウム、チタン、
珪素、ジル:コニウムおよびこの他のレラミックタイプ
の金属類である。複数の全屈アルコキシドの混合物を用
いて、フィル11の竹71を塗布条件に適合づるJ:う
に仕上ることもCきることは従来と同様である。 溶液に用いる適当なアル−1−ル類は例えばC4〜4の
アルカノール類の如き低級アルカノールである。このア
ルコールの゛アルキル部分は、アルコキシドのアルキル
部分と同しくすることができる。通常、エタノールまた
はプロパツールがあらゆるアルコキシドと共に使用する
ことができる。しかしながら、アルコールを正確に一致
さけることは必要でない。一般に、アルコキシドにおけ
ると同様に、アルコールの分子量が大きくなるにつれて
乾燥工程に時間がかかり、網状((4HBのための重合
反応が遅くなる。金属アル」キシ1−に代えであるいは
金属アルコキシドど共に、メ1〜キシエタノール類の如
さアル−1キシドとアルコールとの組合せ誘導体類を(
史用1することもiiJ能である。 必要に1,6じ−てこの溶液中に更に、硝酸塩や酢酸4
4の如き系相溶性のアニΔンV!をも−)、アルカリ金
属またはアルカリ土類金属または水j1!ko)i>i
類の如き系相溶性の金属塩を含有さけることし′r:き
る。これらの塩類は、冑らねるフィルムの性?1を所望
の最終用途に適合りるように(J上るために添加される
。例えば、アルカリ金属類を添加づると周知のように最
終酸化物フィルムのガラス転移温瓜を低下させることが
(さJ、う。従って、これらの塩類はフシックスのJ−
)な作用を右しCいる。斯様な塩が最終的に冑′られる
フィルムの凝着性に悪い影響を及ぼさないように注意づ
べきである。例えLff、フィルムを乾燥する際に急速
に結晶化りる。1、う/、ニー += LJ、’iU?
IJるべきである。急激な結晶化が起−)た1易合に
は、このフィルムは不拘!1と4するだろう。 通常、部分的に加水分解された71ル1−1シト溶液を
作るために酸加水分解が用いられる。この場合、p l
−lは通常1〜2.5の範囲(あり、塩酸、硝酸等の酸
を添加し−C調節される。塩基加水分解を利用づること
もでき、この場合、通常pl−16〜9で行なわれる。 好適な)&: Itは水酸化アンモニウム等の弱塩基で
ある。より総括的に述べれば、適当なp Llは十・〜
・9の範囲であり、中間のpl−1は酢酸/酢酸塩の如
き適当な緩衝液を添加づることによって維持される。正
確な1111の選択は周知のJ、うに絹成依(7士(1
のものである。 )R液の11確な組成は、含J、れる成分おJ、ひ所+
’Jlの113柊的な性71に依存するbのCある6
般的に、以1・のJ、うな割合が用いられる:全屈アル
コー1シトと金属塩との合51て50−!’1oO(J
(金属J晶(,1この含削吊の50%まて)’:ノ’/
レー1−ル1000−一、+0O00o ;水10〜5
00g ;粉末ガラス10・−10(Ig:および上記
のp Llにづるために必要4f酸または塩基(通常は
数滴f)s rら1NHCρの約1 nllあるいはN
+−1,OHの3 m、Qまてて十分である)。 必要に応じて正確な但をこれらの範囲から外れて変化さ
せることもできる。例えば、使用りる金属塩の吊は所望
の最終的性質に依存する。 例えば、低温度で溶融させたい場合には、アルカリ金属
塩の量を多めに用いる。薄いフィルムを塗布しlζい場
合には、アルコールの気を比較的多くして網状構造の希
釈を増大させる。所望の加水分解の邑を達成するlζめ
に、水の吊を変えることができる3、同様に、最終的な
所望性費に応じて、使用するカラスの小を選択りる。代
表的に+J 、基+4に塗イ[iされる溶液の粘度は、
1 10 ボイズから15ボイスよC゛、あるいは溶液のゲ
ル化点51、(の範囲どづる。 粉末力゛ラスは、原則どしC1如伺(2るカラスからも
作ることかCきる。刀ラスの正Ii?fな性′i1は臨
界的4Tものではないが、所望の特定の用途に従って選
定される。しばしば、ノノルカリホウ伺酸塙、アルカリ
アルミノ?d 09塩笠の如さ慣用的な硅酸塩または燐
酸塩ベースのカラネを用いることかできる。使用さ4す
るカラスの(Φ類に重要な制限はイrい。適当なカラス
の代表的な例として)1.1911えl;[I’ )j
ラス リイ1−ンス(Ql+l5S3cicnce)
J ([)orcmus、 Jolln WilCy
&S on、 N asv )’ ork (
1!173) )を参照0)t−と、。 特に使用riJ能/2り、イゾの刀ラスは、光フッ・イ
ハープレーノA−ム#A込に関りる米国4’J ;’l
第22723/12号に記載され(いるbのである。こ
れ1;Jl、四塩化物の炎加水分解にJ、す/jシラス
(カフ微細な分散系を製造することができるために、1
7定の用途に好適である。 代表的には、カラスの粒径は200= 400メツシコ
の範囲あるいはこれより小さいもの(ある。 この場合し、ぞの粒径は特定の用途に応しC)欽定され
る。例えば一般に、粒径か小さくなるほど、焼結温度、
づなわら最終的フィルl\を製造づるのに必要な加熱温
度を低くJることがCきる。比較的太さい粒径でも、例
えば杓i¥が一定の範囲内に適切に分子ti bでいる
場合には、使用Jることかできる。粒子の形状は重要で
なく、プレート状、球状等あらゆるものが使用Cきる。 この発明方法の特イjの利点は、この方法がII(い温
度を用いて非常に耐久性のあるフィルムを形成でさると
いう事実から由来Jる。従つC1好ましい態様にδ3い
ては、粉末カラスとして例えば4()0−・500’C
の比較的低渇喰のカラス軟化点を右づるものを使用する
。しかしながら勿論、より高い湿度で溶融りるガラスを
多くの用途に用いることができる。 被覆溶イ々の調製は、1″it= nI2明した事IO
以外は本質的に1C1用的なしのCあり、恐ら<ン′l
−1の予り実験をづれば、当梨名(あれLlj L1名
冒1)4「操作で最適なム1η製がひきる。一般(J、
先り”D初に、部分加水分hT L 1ζアル了11シ
トの溶)1シを牛成りる。この場合、沈澱かできり−1
1つ溶液中に高分子網状構造が保持される上うな条1′
1をjη111!りる。 通常は、溶液成分をアルニJ−ルに添加し、次に水を添
加づる11代表的には、たと2」11本反応及び縮合反
応が完了17ても、この系かi;+ rγf t’l
’c 741(持づるようへ条件を1′するために、ア
J1...−’l lジ)への各しルに対して水1[ル
を使用りる1、ここ(″部分加水分解パという用語(,
1、中線1jQ昧(使用されCいる3、何故イTら(,
1内(1的+、−1;Iノ′ル・1キシ基の全でがIJ
11水分解されないから(ある、代表的には、この部分
IJI+水分Ill? CI室温ノ〕曹)約60−80
°CまCのc晶13J Ci′iな:l−1 :)lる
。l’l: (l\さことに、この加水分解は室温C迅
速に完1′りるため、1n用的な溶液の加熱は全く不要
であることが見出きれIこ。 加水分解の程度は、例えば最終用途を木節して、慣用的
に選定される。例え(3L、基材のトに線形配列させる
ことが望ましい場合lこは、畏い鎖□III 7J(分
解の程度が比較的高い)がしはし・1、(望ましい。加
水分解の稈1身は、−1−としC溶1iij [11の
水の吊を選ぶことにJ、って制御リイ、ことか(さる、
1一般的には、水の平を減らしpHを落1ことに1一つ
′(、加水分解の稈喰Lt、 (+(十すイ)1、ホの
早を増(゛)し1j1(をδ11りづることによつU
、 tall水分解の程度は高まる。しか(7ながら+
11171(分Fl’?のf?■でのしのは余り重要C
ない。 t′1) 14、力ラスを)脆加しくいイ1−いこ−の
’II :i5rは、この発明の′)り)末カラス添加
物として使用Cさる微′t;)木刀ラスを製造覆るため
t’= (’l川りろJ、!か7さる。口の微扮未ガラ
スは、高分子網状1i4造を成1処さけ(グルとし、次
いにの部;> 7111水分IQ’()H液をや2煙し
て多孔性固体を生成りること(、二」、つCIItl甲
(J調製でさる。この多孔性固体を扮l□+1゛すれば
、非常に微細なガラス粉末を得ることかてきる。必要な
らはこのカラス粉末をその軟化点より低い温石で加熱し
て1−)1、い。 この発明の方法におい(は、部分加水分解7フルー1キ
シ1〜溶液を生成したの15、予め選定されたmの14
)木刀ラスを添加りる。、カラスど部分+Jll水分解
水分解アルニドキシド応は直’、−> U二’全温C間
始りる。従−)にの場合も加熱は必′12て゛<’Lい
が、従来と同様G O〜80℃迄の湯度を使用りること
がCさる。 この反1.i:、、溶液を従来と同様にしく基(Δに塗
71iすることにJ、す、に[稈でこの発明の好ましい
皮11!、14′(qることかでき、好ましくはt[(
記の操作で、0.1・へ・1007.z…の範囲である
いは所望にJ、りその他の厚さで・容易にイの厚さを変
えられる薄い皮膜を19ることができる。低)晶おJ−
ひ厚さの調1iiiにIJII *、 t、この発明に
にる皮IIG>は従来の皮膜に比べで、」、リ一層の汎
用性がある貞も1刊り点C″ある。 溶液を基材に:ラフイ11りるに(J、浸i?1、スー
fレーあるいはスピニング(1!■に半導体lJ祠に関
連して)の如き従来の方法が使用℃゛さる。 例示的に述l\るならば、j9さのム11°J i!D
1.J、、((・11升ば浸漬操作においては、以下
の何れかのパラメータを調節りることによっては成りる
ことが(ぎる:(1)カラス(フリット)のδ捜& ;
f2)ソ゛ルグル冶)1にの温度;(3)ゾル−グル
溶液の粘磨:(/I)浸漬速磨;(5)浸漬角度:等。 スプレー処理の場合には、最初の三つのパラメータの他
に、スプレー同量も厚さ調節のjζめに変えることが(
さる。 所定の処理においτ基材に塗イ11される)R液の吊は
、例えは溶液中の成分の量を考慮づることにより、慣用
的に決めることができる。溶液は通常室温で塗布される
が、勿論特定の用途(Jおいては昇温下v’4布するこ
ともてきる。同様に、暴利を予め加熱しておき次にその
上に溶液を塗イIiりることbjjJ能である。引続く
フィルlX緻1デj化のための加熱工程は、少なくとも
粉末カラスの軟化員、通常は少なくとも4(10’Cの
温度−C一般に行なわれる。経済性と簡便性のために、
最高加熱温度は通常ガラス軟化点を約50〜100°C
越えるまでの温度Cある。この加熱][稈によって、最
初に塗11i シた誘電タイグの一ノイルムを最柊的イ
「所望の不透過性の保護カラス用ノイルムに転16りる
1゜ 塗イl+ d3 J、び′または加熱−1(、l、’l
は、通帛の人気条(’lト(行/i′うごとがCさる。 しかしながら、従来と同様に、これらの工程4不話性、
jw九竹または酸化性雰囲気、更には必要な、らば真空
中で行ム)ことしくさる。 m far LJ だ/ −r /L/ lx 1.J
11 il、; lJ<’21! ”J ル。、Z
し1.J商業的塗rIiにどっ(は重要な刊fユ【であ
る。例えは連続タンク製造fj法を抹用りることかCさ
る。 勿論、必要ならば、この発明のfj刊イン11土稈塗f
li変えて、繰返し塗ffi ’t)採用りることがC
さる。同様に、上述したようなりrましい塗布り法政外
にも、例えば刷毛塗り等の方ン人す使用りることが−C
きる。 こ発明のフィルムは、15月表面を絶縁性、耐摩耗性、
不透過性等にしたい場合に基↑A去而面適用りることが
でさる。一般的用途は上層のも14Aの保護である。し
かしなから層厚さを10川的に調節することによって光
学的用途にも利用づることができる。 基材の表面そのものに1.1本71的な制限はない。 金属類、カラス類、セラミック類、半導1本等か全てこ
の発明の方法を用いC被fitlることができる。前述
したように、この方法は特に低融点の基材に対して適用
づることかできる。これらの低融点基材に刻しては、カ
ラス様皮躾を施づことは通常は困難である。何故ならL
JXtM来必要とされていた加熱工程により低融点基材
が10社を受()るかうである。か< L T 、この
発明は特に例えばアルミニウム、カブ[〜ンの如さ高分
子物11、低融点合金等の基4Δに灼しτ適用づること
かCきる。勿論、銅、−ツケル、カラス。 しラミック等どいつた高融J1°、1基+AにりJ L
−(b !rl様に適用りることかできる。勿論、前
)ホし/、: Jうに、JJ(祠の表面が水酸基を1′
1′っことは必要lはないo 91jんと全ての基材は
その上に少イcくどし中層の酸化物をイjしている。)
rル11の)1・J切な凝着性おJ、び密層性をif「
実にりるl、:めにIJIυi様な酸化物の単層で十分
である。更に、この発明のフィル11は、前述した以外
の綿含反1・L・、例えばアミノ基との縮合反応によつ
(Jij−44(、二密石することができる。従−)で
この5七明は広a・b Ifll lご応用づることが
できる。 同様に、この発明のフィルノ、を)台用しJうとする基
材の表面の形状には1iiJ等制限はない。場合によっ
ては、フィルムのIΩ4’t /、=、 l;λ1れ肋
骨に基づいてこの発明により達成される異常な稈に強カ
イ」゛密盾性を考えると、1;を月がrす卸な形状を持
っている場合に特に適用することがてさる。 以下に実施例をあげ(説明りるが、これらの実施例は単
にこの発明を説明りるためのものであって、この発明は
これら実施例にのみ限定されるものではない。尚、実施
例中に示づ温度は補正しない摂氏温度であり、また、部
および%は特に示さない限り干出ベースである。 実施例1゜ シリコンデ1−ラエ1ヘキシド(315111g)、無
水1−クノール(3N、+ m、o) 、1 N 1
lOff < 2 (’1滴)a3よひII□O(26
m、o )を60″CC反応フシス1中て混合した。1
、 !i l+’、’1間11’t J’l’後この
溶液を330℃に冷7JI Lノ、If□0231m、
Qを再(J’ irt 11111. IJ、この溶液
を3i)にt l” ”Q 30分反1,6さI! !
、: i’;t、無水1タノールη5:1に希釈した。 この溶ii+1100 m、Q IこF記イ11成の粉
末カラス〈−う0(1メツシ1)209を添加した: S i 0. 40.4 (w1%)j’i
Q2 18i A f、032.5 CaQ 3.5 、〜Ig Q 2.2 Na、0 12.1 に□Q 21.2 この溶液を銅の基材に浸漬法により塗布したのち空気乾
燥した。この基材を流動窒素雰囲気中で1000℃に加
熱した。この処理によって厚さ25μmの均一なガラス
皮膜が1!7られ、−での抵抗率は8×100・amよ
りも大きかった。 実施+ul 2 。 シリ:Jンーjトラ丁1−キシド(61nto ) 、
無水エタノール(61+nρ)、1N 1−ICQ(
4滴)およびH,O(5m、0 ) ヲ60 ’CC1
11Jj間反応フラス:J中で)昆合し、た。この溶液
を40′Cに冷NI L、、−1’ ”/ −i 1J
ハ、/ −)Lr (9,Om、fl ) ニ溶解し
た△esec−ゾl−キシド(8,70) 、 l−1
□0 (2,2m1l >および1lIII酸トリメチ
ル(13,軸O)を添h11シた。 40 ’C′C″1時間1糸、l−120(2!i、8
m、り ) 、酢1り (4,0111,[l ) i
lj土び耐酸バリウlx < !t、3G l11.
Q )を添加した。この溶液を無水]タノール(4:1
に希釈し、:′30分間M打した。この)γf液に、5
中量%当帛の酸化物を含む溶液を生成するLJ必鼓なm
の下記組成のカラスを添加した。 B2O340(mo1%) Δ、c0 10 λ 3 1’)bo 40 CIIo 30 この溶液を浸漬法によって万ラスd3J、0珪素の基材
に塗イ1iシた。600℃C・加熱した後、Vさ1/、
7m以下のフィルj1が得られた。 上記の実施例−(用いた反応物Jj J:び、′J、た
(よ操作条件を総括的まIJは1”i定向に述べたこの
発明の反応物J3よび/′または操作条(’lと買さ換
えて、上記の実施例と同じ手順で繰返づことら可能(あ
る。 以上の説明から、当業者ならばこの発明の特徴を容易に
理解づることができ、またこの発明の範囲から外れるこ
となく種々の変更や修正等が可能であることが判るであ
ろう。 特許出願人 アメリカ合衆国
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、網状構造内にカラス微粉末を包含させた高分子網状
構造を右りる部分的に加水分解した金属アルコキシドを
含右りるアル71−ル水溶液を基材に塗イロして該基材
十に111および密栓性のある最初のノrルムを(q与
づる[(?、および該′t4)末ガラス成分を溶融づる
に十分な温度に該フィルムを加熱して該フ、rルムを最
終曲な緻密フrルムに!/、換りる−[稈からなること
を特徴どりる草月をガラス様フィルムで被覆づる方法。 2、前記アルコール水溶液は1部分的にIJI+水分解
した金属アルニコキシドと前記ガラス微粉末とを反応さ
せることによつ(調製される1’y i’を請求の範囲
第1項記載の方法。 3、前記部分的に加水分解した金属アルニコキシドから
なるアルコール水溶液は、酸、塩基または系相溶性のア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属塩を含み、また、該
アルコキシドを加水分解してこの加水分解しかつ縮合し
たアルT1キシドからなる高分子網状構造を形成するに
−[分な口)間にわたって室温乃至80℃の温度で前記
溶液を保持することによって調製されたものである特許
請求の範囲第2項記載の方法、。 4、網状構造内にカラス微粉末を包含させた高分子網状
構造を有する部分的に加水分解された金属アルコキシド
を含イゴするアルコール水溶液は、金属アルコキシドと
アルカリ金属またjJ、アルカリ土類金属塩どの合、i
l’ T’ b O・〜500g (アルカリ金属また
はアルカリ土類金属塩はこの昂の50%まで):アル]
−ルi、ooo〜1o、ooog :水10〜500す
ニガラス10・〜ioog ;必要ならばpl−11・
〜・2.5とりるのに要する酸;および一必要なら(J
−吋16〜つとするのに要する塩基からなる特許請求の
q・L間第3項記載の方法。 5、iil記金属アルコキシドは13.△ρ、11゜S
lまたは7rのC1〜4−アルコ1シ1〜てあり;前記
アルコールはC,〜4 アルツノノールであり:前ら己
カラス1)末(31ノノイ酸J晶またはリンM塩ベース
のガラスである’lr A’f請求の範囲第71項記載
の方法。 6、前記カラス粉末は約200・−400メンシ、の粒
径をもつ特許請求の範囲第1(IIi記載の方法。 7、前記部分加水分解全屈jフルー11−シトのアルコ
ール水溶液はpH1〜2.5を有し、このp t−lは
l−I C、I2またはl−I N O3を添加づるこ
とにJ、り調整される特許請求の範囲第1I In、記
載の方法。 8、前記溶液は浸漬法、スプレー法またはスピニング法
にJこり前記基Hに塗布される特許請求の範囲第1項記
載の/J法。 9、前記最終フィルムは0.1〜100μmのJ171
さを右する特許請求の範囲第1 Jnまたは第4項記載
の方法。 10、前記t5)未カラスは400〜1.+1(10℃
の軟化点を4jりる特工′1請求の範囲第91rj i
’+i2軟の方法3.11 、1’lil記粉末カラス
は、部分加水分解全屈j2ル=11シトの高分子網状1
jI旨もを含イj−Jるアルj−ル水溶液を乾燥して脱
水カラス様ゲルを調製し、次いでこれを粉砕しく粉末と
すること(こよっで作られた粉末化した脱水カラス様ゲ
ル(ある特i′を請求の範囲第4項記載の方法。 12、前記基材はカラス、金属、半導体またはレラミッ
クである1)防請求の範囲第41li記戦の7′5
ン去 。 13、前記基材はCu、Ni、△ρまたは半導体である
特i、’f請求の範囲第12項記載の方法。 149.前記最初のフィルムを前記粉末ガラスの軟化点
からそれより50℃高い温度までの温度で加熱する特許
請求の範囲第1項記載の方法、15、前記最初のフィル
ムを前記粉末ガラスの軟化点からでれより100℃高い
温度まての湿1島て加熱づる特許請求の範囲第10項記
載の方法。
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| CA1209864A (en) | 1986-08-19 |
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