JPS5917877B2 - 電気装置用基板 - Google Patents
電気装置用基板Info
- Publication number
- JPS5917877B2 JPS5917877B2 JP10629976A JP10629976A JPS5917877B2 JP S5917877 B2 JPS5917877 B2 JP S5917877B2 JP 10629976 A JP10629976 A JP 10629976A JP 10629976 A JP10629976 A JP 10629976A JP S5917877 B2 JPS5917877 B2 JP S5917877B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- oxide layer
- weight
- electrical device
- alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、たとえば集積回路装置などの半導体装置や基
板上に抵抗要素を形成した感熱基板など種々の電気要素
、回路要素を形成載置するための電気装置用基板の改良
に関する。
板上に抵抗要素を形成した感熱基板など種々の電気要素
、回路要素を形成載置するための電気装置用基板の改良
に関する。
”０ 従来、この種の基板にはセラミックが主として使
用されてきた。
用されてきた。
その最大の理由は絶縁性にすぐれている点である。しか
し、セラミック基板は機械的強度、特に抗折力が弱く、
また平担度を必要とするこの種基板’５ においては焼
成後研磨加工を施すのが通常である。
し、セラミック基板は機械的強度、特に抗折力が弱く、
また平担度を必要とするこの種基板’５ においては焼
成後研磨加工を施すのが通常である。
このため、金属基板の使用が考えられる。本発明はたと
えば第１図に示されるように金属基体１として、クロム
１０〜２６重量％、ニッケル３．５〜２５重量％、アル
ミニウム０．０５〜７重θ 量％、残部実質的に鉄より
なる合金を使用し、絶縁性付与のため該合金基体表面に
前記合金の酸化層２を形成してなるものである。
えば第１図に示されるように金属基体１として、クロム
１０〜２６重量％、ニッケル３．５〜２５重量％、アル
ミニウム０．０５〜７重θ 量％、残部実質的に鉄より
なる合金を使用し、絶縁性付与のため該合金基体表面に
前記合金の酸化層２を形成してなるものである。
本発明基板の基体を形成する合金はオーステナイト組織
であるので、非磁性であり、そのインタ・５ クタンス
は小さく残留磁化がないことから電気装置用として好適
である。
であるので、非磁性であり、そのインタ・５ クタンス
は小さく残留磁化がないことから電気装置用として好適
である。
また加工性にすぐれているので様々な形状に対応できる
。さらに熱伝導性にすぐれているので大規模な集積回路
などの熱放散性を要求される分野での使用に好適する。
このｏ 熱伝導性の良好な点は基体合金層、酸化層のそ
れぞれの厚さを選択することによつて熱放散性を調節す
ることができることを意味し、したがつて容易に任意の
熱的特性をもつた基板を製造できる。本発明基板の基体
合金は耐食性及び耐熱性にすぐ５ れているので電気装
置の製造、使用等における各種の環境に耐えることがで
きる。たとえば使用温度は４００℃以上にても可能であ
り、酸洗等の処理もできる。また、本発明基板の基体合
金はろう付性、溶接性にもすぐれているので電気装置の
組立てに都合がよい。さらに機械的強度も良いので基板
基体として好適である。本発明基板に使用する基体合金
のクロム及びニツケルの含有量は上述の本発明の各種特
徴を保つための必要量から決定される。
。さらに熱伝導性にすぐれているので大規模な集積回路
などの熱放散性を要求される分野での使用に好適する。
このｏ 熱伝導性の良好な点は基体合金層、酸化層のそ
れぞれの厚さを選択することによつて熱放散性を調節す
ることができることを意味し、したがつて容易に任意の
熱的特性をもつた基板を製造できる。本発明基板の基体
合金は耐食性及び耐熱性にすぐ５ れているので電気装
置の製造、使用等における各種の環境に耐えることがで
きる。たとえば使用温度は４００℃以上にても可能であ
り、酸洗等の処理もできる。また、本発明基板の基体合
金はろう付性、溶接性にもすぐれているので電気装置の
組立てに都合がよい。さらに機械的強度も良いので基板
基体として好適である。本発明基板に使用する基体合金
のクロム及びニツケルの含有量は上述の本発明の各種特
徴を保つための必要量から決定される。
本発明基板の基体表面酸化層は合金をたとえば大気中、
湿潤水素雰囲気中などの含酸素雰囲気で高温酸化するこ
とにより形成するのが好ましい。
湿潤水素雰囲気中などの含酸素雰囲気で高温酸化するこ
とにより形成するのが好ましい。
この具体的条件は次の第１表に示す。酸化層はＣｒ２Ｏ
３及びＡｔ２Ｏ３を主体とするもので、その比抵抗は大
きく、またち密である。
３及びＡｔ２Ｏ３を主体とするもので、その比抵抗は大
きく、またち密である。
したがつてすぐれた絶縁性を示す。たとえば酸化層の比
抵抗は１０７〜１０１２Ωｌ！に調整することができ、
密度は真比重の７０％以〉上さらには８０（：！）以上
にまで調整できる。
抵抗は１０７〜１０１２Ωｌ！に調整することができ、
密度は真比重の７０％以〉上さらには８０（：！）以上
にまで調整できる。
この酸化層の厚さは０．００５詣以上好ましくは０．０
１〜０．５ｍ１にするとよい。この程度の厚さであれば
電気装置用の基板として十分な絶縁性が得られるととも
に、金属基板としての特異性、例え 二ば熱伝導性を有
利に利用できる。この酸化層の表面粗度は平担である程
望ましいが、表面粗さ３μ以下程度であれば使用可能で
あろう。
１〜０．５ｍ１にするとよい。この程度の厚さであれば
電気装置用の基板として十分な絶縁性が得られるととも
に、金属基板としての特異性、例え 二ば熱伝導性を有
利に利用できる。この酸化層の表面粗度は平担である程
望ましいが、表面粗さ３μ以下程度であれば使用可能で
あろう。
１μ以下ならば最も好ましい。
本発明基板のさらに特異な点はアルミニウムの ５一部
が基体内部酸化され、酸化層と基体との付着強度を強固
にする点にある。
が基体内部酸化され、酸化層と基体との付着強度を強固
にする点にある。
このため、本発明基板は酸化層と基体との間での剥離の
可能性が無く取扱いが容易である。本発明基板の応用と
して、多層化ができる。
可能性が無く取扱いが容易である。本発明基板の応用と
して、多層化ができる。
た ５とえば、第２図において、２は金属層、４が酸化
層である。基体合金の組成限定理由は次のとおりである
。
層である。基体合金の組成限定理由は次のとおりである
。
クロム及びニツケルはオーステナイト組織を形成するた
めに必要なものであり、クロムは１０〜２６４重量％、
ニツケルは３．５〜２５重量％とする。アルミニウムは
Ａｔ２Ｏ３なる良好な酸化物を得るために必要であり、
また一部が内部酸化されて基体と酸化層の付着を強固に
する。この効果を得るにはアルミニウム量を０．０５〜
７重量％にする。
めに必要なものであり、クロムは１０〜２６４重量％、
ニツケルは３．５〜２５重量％とする。アルミニウムは
Ａｔ２Ｏ３なる良好な酸化物を得るために必要であり、
また一部が内部酸化されて基体と酸化層の付着を強固に
する。この効果を得るにはアルミニウム量を０．０５〜
７重量％にする。
また、上記の各成分元素のさらに好ましい範囲を次の第
２表に示す。
２表に示す。
たとえば１６Ｃｒ−１４Ｎｉ−Ｆｅ系合金、１８Ｃｒ−
８Ｎ１−Ｆｅ系合金にＡｔを含有するものは最良である
。
８Ｎ１−Ｆｅ系合金にＡｔを含有するものは最良である
。
実施例
クロム１６重量％、ニツケル１４重量％、アルミニウム
１．５重量％、残部鉄よりなる合金を基体とし、この基
体を湿潤水素雰囲気中で１２５０℃にて３時間処理して
基体表面に酸化層を形成した。
１．５重量％、残部鉄よりなる合金を基体とし、この基
体を湿潤水素雰囲気中で１２５０℃にて３時間処理して
基体表面に酸化層を形成した。
得られた酸化層はＣｒ２Ｏ３及ひＡｔ２Ｏ３を主体とす
る絶縁性にすぐれた密度の高いものであつた。また、ア
ルミニウムが内部酸化されていて、基体と酸化層との間
は強固に付着していた。このようにして得た基板は熱伝
導性も適当で、電気装置用として好適であつた。
る絶縁性にすぐれた密度の高いものであつた。また、ア
ルミニウムが内部酸化されていて、基体と酸化層との間
は強固に付着していた。このようにして得た基板は熱伝
導性も適当で、電気装置用として好適であつた。
第１図及び第２図は本発明電気装置用基板の断面図であ
る。 １・・・一・・基体、 ２，４・・・・・・酸化層、 ３・・・・・・金属層。
る。 １・・・一・・基体、 ２，４・・・・・・酸化層、 ３・・・・・・金属層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ クロム１０〜２６重量％、ニッケル３．５〜２５重
量％、アルミニウム０．０５〜７重量％、残部実質的に
鉄からなる合金で形成された前記合金酸化層とを具備し
てなる電気装置用基板。 ２ 酸化層はクロムの酸化物及びアルミニウムの酸化物
が主体である特許請求の範囲第１項に記載の電気装置用
基板。 ３ 酸化層の厚さは、０．００５ｍｍ以上である特許請
求の範囲第１項乃至第２項に記載の電気装置用基板。 ４ 酸化層の表面粗度は３μ以下である特許請求の範囲
第１項乃至第３項に記載の電気装置用基板。 ５ 酸化層は高温酸化によつて形成された特許請求の範
囲第１項乃至第４項に記載の電気装置用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10629976A JPS5917877B2 (ja) | 1976-09-07 | 1976-09-07 | 電気装置用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10629976A JPS5917877B2 (ja) | 1976-09-07 | 1976-09-07 | 電気装置用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5332373A JPS5332373A (en) | 1978-03-27 |
| JPS5917877B2 true JPS5917877B2 (ja) | 1984-04-24 |
Family
ID=14430135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10629976A Expired JPS5917877B2 (ja) | 1976-09-07 | 1976-09-07 | 電気装置用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5917877B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60222788A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-11-07 | リヒヤルト・ヒルシユマン・ラデイオテヒニツシエス・ヴエルク | 動き報知器 |
| JPS61117478A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-04 | Toshiba Corp | 超音波による物体検出方法 |
| JPH01145594A (ja) * | 1987-12-01 | 1989-06-07 | Nippon Denso Co Ltd | 対人追従装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4474904A (en) * | 1982-01-21 | 1984-10-02 | Lemon Peter H R B | Foundry moulds and cores |
| BR8206406A (pt) * | 1982-02-09 | 1983-09-27 | Borden Uk Ltd | Processo para a producao de moldes e machos para fundicao |
-
1976
- 1976-09-07 JP JP10629976A patent/JPS5917877B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60222788A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-11-07 | リヒヤルト・ヒルシユマン・ラデイオテヒニツシエス・ヴエルク | 動き報知器 |
| JPS61117478A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-04 | Toshiba Corp | 超音波による物体検出方法 |
| JPH01145594A (ja) * | 1987-12-01 | 1989-06-07 | Nippon Denso Co Ltd | 対人追従装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5332373A (en) | 1978-03-27 |
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