JPS59181550A - フオトマスクの出納管理装置 - Google Patents
フオトマスクの出納管理装置Info
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- JPS59181550A JPS59181550A JP58055534A JP5553483A JPS59181550A JP S59181550 A JPS59181550 A JP S59181550A JP 58055534 A JP58055534 A JP 58055534A JP 5553483 A JP5553483 A JP 5553483A JP S59181550 A JPS59181550 A JP S59181550A
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- Japan
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70541—Tagging, i.e. hardware or software tagging of features or components, e.g. using tagging scripts or tagging identifier codes for identification of chips, shots or wafers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/34—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H10P72/3404—Storage means
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔発明の技術分野Ｊ
本発明は半導体装置の製造工程に用いられるフォトマス
クの収納および使用状況管理を行うフォトマスクの出納
管理装置に関する。 〔発明の技術的背景およびその間照点〕一般に、半導体
装置の製造に際しては、その棟類および工程毎に材質お
よび・七ターンの異る複数のフォトマスクが用いられる
。これらの７オトマスクにはそれぞれマスク番号が割り
当てられるとともに、１枚毎にマスク番号が付されたマ
スクケース内に納められ、通常はクリーンルーム内の所
定の格納場所に保管されている。 この場合、マスク番号は半導体装置の品種名、工程名と
は無関係に決定され、また、格納場所としてクリーンル
ームが選ハれることから、畠さや奥行に制限のある比較
的狭いスペースに集中的Ｖこ配列されている。 したがって、所定のフォトマスクを入手する際マスク番
号を基にして検索しなけれ１ｌ−１：ならず、しかも、
ス被−ス的に狭い場Ｆ９ｒでの出し入れ作業全余儀なく
悼れることから、半導体装ｉｔの品種別若しぐは工程別
のフォトマスクを揃えるに多大の時間ヲ装することの他
、番号の異るフォトマスクが混在する要因にもなってい
た。 一刀、半導体装置の品他別、工程別のフォトマスクの在
犀な、使用ａＦ４始日時、１変相回を等の管理は、全て
作業者が何らかの方法で記録しなければならず、この点
でも非能率で、しかも、登録忘れ一？記録ミスを招きや
すかった。 また、クリーフルーム内の作業時間が長びくことは、塵
の増大にもつながるものであった。 〔発明の目的」 本発明は上記事情を考慮してなさγしたもので、フォト
マスクの出Ｒ」および管理全迅速且つ正確に行い得、匪
つ、贋の発生を極めて低く抑さえ得る）丈トマスクの出
納管理装置σの提供を目的とする。 〔発明の概要〕 この目的全達成するために、本発明のフォトマスクの出
＃Ｉ３雷理装置σは、虚数のマスクケース分収納する複
数の収納箱と、これらの収納箱を行、列に裁置する収納
棚と、前記収納箱の一つを嵌挿して、任意の前５ピマス
ククースを着脱させる着脱装置と、Ｍｊｌ記収納棚から
任意の前記収納箱を取り出して前記着脱装置に嵌挿させ
、且つ、この収納箱を前記収納棚の元の位［べに裁置さ
ぜる搬送装置と、特定のフォトマスクを指定して、この
フォトマスクを収納した前記マスクケースを着脱し得る
ように前記搬送装置および着脱装置を駆動制御するとと
もに、前記フォトマスク毎の出！ｆ３情報賃理を行うコ
ンピュータとを具備したことを特徴とするものである。 〔発明の実施例〕 以下、添付図面を参照して本発明の一実施例Ｖこついて
説明する。 第１図は本発明に係るフォトマスクの出納管理装置の全
体的な構成を示す斜視図で、主に、枚数のマスクケース
を並べて収納する複数の収納箱１０と、これらの収納箱
１０ヲ水平方向および垂直方向に行、列吃側べて載置す
る収納棚かと、この収納箱
クの収納および使用状況管理を行うフォトマスクの出納
管理装置に関する。 〔発明の技術的背景およびその間照点〕一般に、半導体
装置の製造に際しては、その棟類および工程毎に材質お
よび・七ターンの異る複数のフォトマスクが用いられる
。これらの７オトマスクにはそれぞれマスク番号が割り
当てられるとともに、１枚毎にマスク番号が付されたマ
スクケース内に納められ、通常はクリーンルーム内の所
定の格納場所に保管されている。 この場合、マスク番号は半導体装置の品種名、工程名と
は無関係に決定され、また、格納場所としてクリーンル
ームが選ハれることから、畠さや奥行に制限のある比較
的狭いスペースに集中的Ｖこ配列されている。 したがって、所定のフォトマスクを入手する際マスク番
号を基にして検索しなけれ１ｌ−１：ならず、しかも、
ス被−ス的に狭い場Ｆ９ｒでの出し入れ作業全余儀なく
悼れることから、半導体装ｉｔの品種別若しぐは工程別
のフォトマスクを揃えるに多大の時間ヲ装することの他
、番号の異るフォトマスクが混在する要因にもなってい
た。 一刀、半導体装置の品他別、工程別のフォトマスクの在
犀な、使用ａＦ４始日時、１変相回を等の管理は、全て
作業者が何らかの方法で記録しなければならず、この点
でも非能率で、しかも、登録忘れ一？記録ミスを招きや
すかった。 また、クリーフルーム内の作業時間が長びくことは、塵
の増大にもつながるものであった。 〔発明の目的」 本発明は上記事情を考慮してなさγしたもので、フォト
マスクの出Ｒ」および管理全迅速且つ正確に行い得、匪
つ、贋の発生を極めて低く抑さえ得る）丈トマスクの出
納管理装置σの提供を目的とする。 〔発明の概要〕 この目的全達成するために、本発明のフォトマスクの出
＃Ｉ３雷理装置σは、虚数のマスクケース分収納する複
数の収納箱と、これらの収納箱を行、列に裁置する収納
棚と、前記収納箱の一つを嵌挿して、任意の前５ピマス
ククースを着脱させる着脱装置と、Ｍｊｌ記収納棚から
任意の前記収納箱を取り出して前記着脱装置に嵌挿させ
、且つ、この収納箱を前記収納棚の元の位［べに裁置さ
ぜる搬送装置と、特定のフォトマスクを指定して、この
フォトマスクを収納した前記マスクケースを着脱し得る
ように前記搬送装置および着脱装置を駆動制御するとと
もに、前記フォトマスク毎の出！ｆ３情報賃理を行うコ
ンピュータとを具備したことを特徴とするものである。 〔発明の実施例〕 以下、添付図面を参照して本発明の一実施例Ｖこついて
説明する。 第１図は本発明に係るフォトマスクの出納管理装置の全
体的な構成を示す斜視図で、主に、枚数のマスクケース
を並べて収納する複数の収納箱１０と、これらの収納箱
１０ヲ水平方向および垂直方向に行、列吃側べて載置す
る収納棚かと、この収納箱
【Ｏに並設され、収納箱１０
の】つを嵌挿し、て任意のマスクケースを着脱する着脱
装置Ｉと、収納棚２０および着脱ｉ１σ加の正面部で三
次元に移動ｉ５１能な機構置市し、収納棚２０から収納
箱１０を取り出して着脱装置３ｎに嵌装ゼしめ、マスク
ケースの着脱を完了した収納箱１０會収納棚加の元の位
置に裁置させる搬送ｉ ｔｉ！４０と、作業者との対話
、フォトマスク情報の管理全行うとともに、看脱裟１〆
３０に指令を与うて搬送装置４０金駆動するフォトマス
ク管理コンピュータ刃とを具えている。 ここで、収納箱ｌＯは第２図に示すように上方に開口部
を有し、その内部ＶＣ？ｌｌ、ｔは１４１固のマスクケ
ース１１を一列に並べて収納するべく細長く形成され、
さらに、底部における幅方向の中心部にはマスクケース
１１ヲ飼別に上方Ｑて押し上けるための押上は穴１２が
穿たれている。 また、収納棚２０は収帽箱ＩＯ全水平にしてその長手方
向に挿入づるように例えば縦が４段に、横が７段にそれ
ぞれ仕切られている。 次に、着脱装置間の正面部Ｖこは収納箱１０を水平方回
Ｖｃ神脱させ得る収７泊箱出し入れ口、べ１が設けられ
、その゛側面部にはマスクケース１１紮出し入れするフ
ォトマスク出し人ｎ口：３２か設けられている。 また、こり瘤ｊ況装置直５０の下１戊部に、第４１：Ａ
に示す如く、収ｊｒ１ Ｍ １０ ％−嵌御せしめたと
さマスクケースｊ１に対応する位置にそれぞれ配列され
／ζ押上げ棒３４ａＱ持ち上げて特定のマスクケースＩ
ＩＱ上昇芒ぜ１尋る押上は装１ｇ３４力Ｓ設けられ、訟
らに、その」三方部分には押上げ表置；３４および搬送
装置・１０を駆動する搬送ｍ’ｉ ＠用のコンピュータ
が向風されており、前記フォトマスク管理コンピュータ
５０の入力部と略同等のｆ８．Ｈ［ｋ有する操作・ぞネ
ル３３がフォトマスク出し入れ口３２の上１１１１１壁
に設けられている。 また、搬送装置４０ば、床面に配置されたレール４１上
を走行する水平移動機構４２と、この水平移動機構４２
に対して、さらＶこ垂直方向に走行するとともに、収納
棚加および斬脱装置加に収納箱１０を出し入れするため
に水平方向にも走行する垂直、水平移動機構１１３を具
えている。 一方、上古己マスクグース１１は第３図に示す如く、４
１回する内ｉ１１！Ｉム窄にそれぞれ３本の閥１４が彫
られ、３枚の７オトマスク１３を収納し得るように形成
されている。 上記の如く構成されたフォトマスクの出納前埋装「葭の
作用を：以−ドに説明する。 先−ｒ、ｆ千菜者がフォトマスクＵ理コ／ピユータ関の
入力部徒たｔま操作パネルあのキー？操作して品種、工
程を指定すると、フォトマスク管理コンピュ−タ二）ｏ
は内部に蓄えらｎでいる情報を検索し、該当するフォト
マスク１３が収納されている収納箱１０およびマスクケ
ース」１の位置を割シ出し、漕カ児装置（資）の搬送側
（ホ）コンピュータに指令を与える。 次に１搬送匍１＠１コンピユータはこの指令ケ受けて搬
送装置４０を駆動制御し、指定されたフォトマスク全言
む収納箱１０を着脱裟置寞に低伸せしめ、続いて指定さ
れたフォトマスク全収納したマスクケース１１を押し上
げる。 ここで、作業者は押し上げられたマスクケース１１から
フォトマスク管理コンピュータ５０により指定されたフ
ォトマスク１３ヲ取り出す。かくして、フォトマスクの
取出しｆｃ％了した仏は上述したと逆の手順にて収納箱
１０は搬送裟１置４０を介して元の位置に戻される。 一方、７オトマスク１３の収納も同様の方法で行なわれ
る。 このようにして、フォトマスク■３の出し入れが行なわ
れる度に、フォトマスク哲理コンピュータ関は、そのフ
ォトマスク１３に対ルレするフォトマスク情報の更新全
行う。また、これらのフォトマスク情報はファイリング
きれ作業者の指示しこより適宜外部ＶＣ明示され、必要
に応じて上ＩＳｌのコンピュータに情報転送される。 この場合、半導体装置の製造に供される多数のフォトマ
スクを、半導体装置の品捗毎に収納箱ＩＯによって区分
し、且つ、同一工程毎にマスクケース１１によって区分
するようＶζすれば、一連のフォトマスクの瑣り出し若
しくは収納が極めて短時間で行なわれる。 なお、フォトマスクの出納に際して、その管理に必要な
情報を入力した後で始めて搬送装置４０が駆動されるよ
うにすればフォトマスクの管理が確実Ｖこ行なわれる。 〔発明の効果〕 以」二の説明によって明らかな如く、不発明のフォトマ
スクの出納管理装置によれば、格納されているフォトマ
スクの１枚毎の情報がコンピュータにより自動的に更新
されるので、記録忘れや、記録ミスの無い綿密な管理が
可能になるとともに、作業者がコンピュータに指令を与
えるだけで、収納箱、マスクケースの出し入れは全て目
動的に行なわれるため迅速且つ確実な出納と、作業量の
減少に伴って、発生する塵敬の低減化とが可能になる。 また、出納の自動化により格納装置のス４−ス効率を上
げ得、クリーンルーム内の省ス４−ス化が促進される。 一方、フォトマスクを半導体装置の品抽毎に収納箱で区
分し、１つ、同一工程毎にマスクケースによって区分す
るようにすれば、半導体装｛ｄの品柚変史ＶＣ際して一
連のフォトマスクの出納が著しく迅速化されるう また、フォトマスク毎の出納管理がなされることから、
繰返して使用されるものであっても、そのライフ管理が
極めて容易になるという優れた効果が得られる。
の】つを嵌挿し、て任意のマスクケースを着脱する着脱
装置Ｉと、収納棚２０および着脱ｉ１σ加の正面部で三
次元に移動ｉ５１能な機構置市し、収納棚２０から収納
箱１０を取り出して着脱装置３ｎに嵌装ゼしめ、マスク
ケースの着脱を完了した収納箱１０會収納棚加の元の位
置に裁置させる搬送ｉ ｔｉ！４０と、作業者との対話
、フォトマスク情報の管理全行うとともに、看脱裟１〆
３０に指令を与うて搬送装置４０金駆動するフォトマス
ク管理コンピュータ刃とを具えている。 ここで、収納箱ｌＯは第２図に示すように上方に開口部
を有し、その内部ＶＣ？ｌｌ、ｔは１４１固のマスクケ
ース１１を一列に並べて収納するべく細長く形成され、
さらに、底部における幅方向の中心部にはマスクケース
１１ヲ飼別に上方Ｑて押し上けるための押上は穴１２が
穿たれている。 また、収納棚２０は収帽箱ＩＯ全水平にしてその長手方
向に挿入づるように例えば縦が４段に、横が７段にそれ
ぞれ仕切られている。 次に、着脱装置間の正面部Ｖこは収納箱１０を水平方回
Ｖｃ神脱させ得る収７泊箱出し入れ口、べ１が設けられ
、その゛側面部にはマスクケース１１紮出し入れするフ
ォトマスク出し人ｎ口：３２か設けられている。 また、こり瘤ｊ況装置直５０の下１戊部に、第４１：Ａ
に示す如く、収ｊｒ１ Ｍ １０ ％−嵌御せしめたと
さマスクケースｊ１に対応する位置にそれぞれ配列され
／ζ押上げ棒３４ａＱ持ち上げて特定のマスクケースＩ
ＩＱ上昇芒ぜ１尋る押上は装１ｇ３４力Ｓ設けられ、訟
らに、その」三方部分には押上げ表置；３４および搬送
装置・１０を駆動する搬送ｍ’ｉ ＠用のコンピュータ
が向風されており、前記フォトマスク管理コンピュータ
５０の入力部と略同等のｆ８．Ｈ［ｋ有する操作・ぞネ
ル３３がフォトマスク出し入れ口３２の上１１１１１壁
に設けられている。 また、搬送装置４０ば、床面に配置されたレール４１上
を走行する水平移動機構４２と、この水平移動機構４２
に対して、さらＶこ垂直方向に走行するとともに、収納
棚加および斬脱装置加に収納箱１０を出し入れするため
に水平方向にも走行する垂直、水平移動機構１１３を具
えている。 一方、上古己マスクグース１１は第３図に示す如く、４
１回する内ｉ１１！Ｉム窄にそれぞれ３本の閥１４が彫
られ、３枚の７オトマスク１３を収納し得るように形成
されている。 上記の如く構成されたフォトマスクの出納前埋装「葭の
作用を：以−ドに説明する。 先−ｒ、ｆ千菜者がフォトマスクＵ理コ／ピユータ関の
入力部徒たｔま操作パネルあのキー？操作して品種、工
程を指定すると、フォトマスク管理コンピュ−タ二）ｏ
は内部に蓄えらｎでいる情報を検索し、該当するフォト
マスク１３が収納されている収納箱１０およびマスクケ
ース」１の位置を割シ出し、漕カ児装置（資）の搬送側
（ホ）コンピュータに指令を与える。 次に１搬送匍１＠１コンピユータはこの指令ケ受けて搬
送装置４０を駆動制御し、指定されたフォトマスク全言
む収納箱１０を着脱裟置寞に低伸せしめ、続いて指定さ
れたフォトマスク全収納したマスクケース１１を押し上
げる。 ここで、作業者は押し上げられたマスクケース１１から
フォトマスク管理コンピュータ５０により指定されたフ
ォトマスク１３ヲ取り出す。かくして、フォトマスクの
取出しｆｃ％了した仏は上述したと逆の手順にて収納箱
１０は搬送裟１置４０を介して元の位置に戻される。 一方、７オトマスク１３の収納も同様の方法で行なわれ
る。 このようにして、フォトマスク■３の出し入れが行なわ
れる度に、フォトマスク哲理コンピュータ関は、そのフ
ォトマスク１３に対ルレするフォトマスク情報の更新全
行う。また、これらのフォトマスク情報はファイリング
きれ作業者の指示しこより適宜外部ＶＣ明示され、必要
に応じて上ＩＳｌのコンピュータに情報転送される。 この場合、半導体装置の製造に供される多数のフォトマ
スクを、半導体装置の品捗毎に収納箱ＩＯによって区分
し、且つ、同一工程毎にマスクケース１１によって区分
するようＶζすれば、一連のフォトマスクの瑣り出し若
しくは収納が極めて短時間で行なわれる。 なお、フォトマスクの出納に際して、その管理に必要な
情報を入力した後で始めて搬送装置４０が駆動されるよ
うにすればフォトマスクの管理が確実Ｖこ行なわれる。 〔発明の効果〕 以」二の説明によって明らかな如く、不発明のフォトマ
スクの出納管理装置によれば、格納されているフォトマ
スクの１枚毎の情報がコンピュータにより自動的に更新
されるので、記録忘れや、記録ミスの無い綿密な管理が
可能になるとともに、作業者がコンピュータに指令を与
えるだけで、収納箱、マスクケースの出し入れは全て目
動的に行なわれるため迅速且つ確実な出納と、作業量の
減少に伴って、発生する塵敬の低減化とが可能になる。 また、出納の自動化により格納装置のス４−ス効率を上
げ得、クリーンルーム内の省ス４−ス化が促進される。 一方、フォトマスクを半導体装置の品抽毎に収納箱で区
分し、１つ、同一工程毎にマスクケースによって区分す
るようにすれば、半導体装｛ｄの品柚変史ＶＣ際して一
連のフォトマスクの出納が著しく迅速化されるう また、フォトマスク毎の出納管理がなされることから、
繰返して使用されるものであっても、そのライフ管理が
極めて容易になるという優れた効果が得られる。
第１１図は本発明に係るフォトマスクの出納管理装置の
一実施例の全体的構成を示す＋ＥＩ祝図、第２図および
第３図は□同実施例の王ｙ〃な委累の形状を示す斜視図
、第４図は四実ｋｍ例の工費な要素の動作状態ケ示すＩ
ｔｌｌ１面図である。 １０・・・収納箱、１１・・・マスクケース、】３・・
・フォトマスク、加・・・収納棚、３０・・・溜脱装（
廐、３１・・・収納箱出し入れ口、３２・・・フォトマ
スク出し入れ口、お・・・操作パネル、諷・・・押上げ
装置、４０・・・搬送装置、４１・・・レール、・１２
・・水平移動機溝、４３・・・垂直、水平移動機構、（
資）・・・フォトマスク管理コンピュータっ出願人代理
人 猪 股 情 味１図 第２図 １ 〆 第３図 第４図
一実施例の全体的構成を示す＋ＥＩ祝図、第２図および
第３図は□同実施例の王ｙ〃な委累の形状を示す斜視図
、第４図は四実ｋｍ例の工費な要素の動作状態ケ示すＩ
ｔｌｌ１面図である。 １０・・・収納箱、１１・・・マスクケース、】３・・
・フォトマスク、加・・・収納棚、３０・・・溜脱装（
廐、３１・・・収納箱出し入れ口、３２・・・フォトマ
スク出し入れ口、お・・・操作パネル、諷・・・押上げ
装置、４０・・・搬送装置、４１・・・レール、・１２
・・水平移動機溝、４３・・・垂直、水平移動機構、（
資）・・・フォトマスク管理コンピュータっ出願人代理
人 猪 股 情 味１図 第２図 １ 〆 第３図 第４図
Claims (2)
- （１）複数のマスクケースを収納する複数の収納箱と、
これらの収納箱を行、列に載置する収納棚と、前記収納
箱の１つ全嵌押して、任意の前記マスクケースｆＫ：着
脱させる着脱装置と、前記収納棚から任意の前記収納箱
を取り出して前記着脱装置に嵌挿させ、且つ、この収納
箱を前記収納棚の元の位置に載面させる搬送装置と、特
定のフォトマスクを指定して、このフォトマスクを収納
した前記マスクケースを着脱し得るように前記搬送装置
および着脱装置を動動制御するとともに、前記フォトマ
スク毎の出稍慣報看理を行うコンピュータとを具備した
ことを特徴とするフォトマスクの出納管理装置。 - （２）前記フォトマスクな、半導体装置の品種毎に前記
収納箱によって区分し、且つ、同一工程毎に−前記マス
クケースによって区分することに％徴とする特許請求の
範囲第１項記載のフォトマスクの出納管理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58055534A JPS59181550A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | フオトマスクの出納管理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58055534A JPS59181550A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | フオトマスクの出納管理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59181550A true JPS59181550A (ja) | 1984-10-16 |
Family
ID=13001388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58055534A Pending JPS59181550A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | フオトマスクの出納管理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59181550A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01230246A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-09-13 | Tel Sagami Ltd | 半導体ウェハの移し換え方法及び半導体ウェハの移し換え装置並びに半導体ウェハの熱処理ボート |
| JPH0342429A (ja) * | 1989-07-08 | 1991-02-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の収納・取り出し管理システム |
| JPH0420401A (ja) * | 1990-05-15 | 1992-01-24 | Daifuku Co Ltd | 自動倉庫 |
| JPH04268667A (ja) * | 1991-02-25 | 1992-09-24 | Hitachi Ltd | 生産管理システム |
| JPH0781706A (ja) * | 1993-09-16 | 1995-03-28 | Nippon Filing Co Ltd | 図書保管管理装置 |
| WO2017202134A1 (zh) * | 2016-05-25 | 2017-11-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法 |
-
1983
- 1983-03-31 JP JP58055534A patent/JPS59181550A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01230246A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-09-13 | Tel Sagami Ltd | 半導体ウェハの移し換え方法及び半導体ウェハの移し換え装置並びに半導体ウェハの熱処理ボート |
| JPH0342429A (ja) * | 1989-07-08 | 1991-02-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の収納・取り出し管理システム |
| JPH0420401A (ja) * | 1990-05-15 | 1992-01-24 | Daifuku Co Ltd | 自動倉庫 |
| JPH04268667A (ja) * | 1991-02-25 | 1992-09-24 | Hitachi Ltd | 生産管理システム |
| JPH0781706A (ja) * | 1993-09-16 | 1995-03-28 | Nippon Filing Co Ltd | 図書保管管理装置 |
| WO2017202134A1 (zh) * | 2016-05-25 | 2017-11-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法 |
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