JPS59184157A - トリス(ジアルキルアミノ)スルホニウムビフルオライド化合物 - Google Patents

トリス(ジアルキルアミノ)スルホニウムビフルオライド化合物

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JPS59184157A
JPS59184157A JP59065298A JP6529884A JPS59184157A JP S59184157 A JPS59184157 A JP S59184157A JP 59065298 A JP59065298 A JP 59065298A JP 6529884 A JP6529884 A JP 6529884A JP S59184157 A JPS59184157 A JP S59184157A
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tris
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sulfonium
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JP59065298A
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ウイリアム・ブラウン・フア−ンハム
ウイリアム・ジヨゼフ・ミドルトン
ドツトセビ・ヤオ・ソガ−
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EIDP Inc
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EI Du Pont de Nemours and Co
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F4/00Polymerisation catalysts

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Catalysts (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は重合触媒として有用なある種のトリス(ジアル
キルアミノ)スルホニウム化合物およびこれら化合物の
製造法に関する。
米国特許第5.940.402号明細書は、一般式全方
するトリス(ジアルキルアミノ)スルホニウム塩の一群
を開示している。
前記式において、R基は1〜20個の炭素原子含有する
アルキル基であって、各アルキル基は少くとも2個のα
−水素原子を有しておシ、そしてXは(OH3)5Si
F2 、C,L %Br 、工、ON%Neo。
N08%NO2またはN3でありうる。この特許はまた
四弗化硫黄(SF4) k少くとも5モル当量の選ばれ
たジアルキルアミノトリメチルシシンと反応させること
による式 %式% のジフルオロトリメチルシリケート塩の製造法を開示し
ている。この特許は更に前n己ジフルオロトリメチルシ
リヶート塩を適当な塩素放出性化合物例えばα−クロロ
トルエンと反応さ゛せることによるXがOLであるスル
ホニウムクロリド塩の製法を開示している。最後にこの
特許はスルホニウムクロリドを適当な試楽例えば臭化ナ
トリウム、シアン化ナトリウム、チオシアン酸ナトリウ
ム、亜硝酸ナトリウム、アジ化ナトリウムまたはシアン
酸ナトリウムと反応させることによる残余の塩の製造法
を記載している。
I)urrant氏等編[Introduction 
to AavancedInorganic Ohem
istryJ第926〜927頁(1970年)は弗化
水素酸(HF)の溶液を金属水酸化物または水酸化アン
モニウムで部分中和することによるアンモニウム、アル
キルアンモニウムおよびアルカリ金属化合物の本邦化物
の製造法を開示している。この参照文献によれば、アル
カリ金属弗化物はHFを吸収して本邦化物を形成する。
KF+HF’→KHF2 更にこの文献には弗化アンモニウム(NH4F)は加熱
することによ9重弗化アンモニウムに変換できることを
開示している。すなわち 2NH4F −+ NH4HF2+lJJしかしながら
「Thermochimica Ac、taJ第47巻
第216〜216頁(1981)は弗化アンモニウムの
熱分解の研究を記載し、そして次の反応すなわち 2NH4F−+NH4HF2+NH5 の存在を支持する証拠を見出すことができないと結論し
ている。
「J、Am、Ohem、Soc、J第96巻第7625
頁(1974)はテトラエテルアンモニウムフルオライ
ドヲ熱分解させてtテトラヒドロアンモニウムビフルオ
ライドおよびその他の生成物を生成させる方法を開示し
ている。重水素含有テトラエチルアンモニウムビフルオ
ライドはビフルオライドを重水素富化した水に溶解させ
、そして過剰の水金蒸発させることによって製造される
「工sve日t、Akad、Nauk、5ssR,Se
r、Khim、j第10巻第2238貞(1981)(
英文版)はジメチルホルムアミド中でのジフルオロメチ
ルアミンのジメチルアミンとの反応により製造されたイ
、t ン性ヒフ ルオラ()−((OJ)2N:120
HeHF2e k開示している。
ビフルオライド塩例えばアルカリ金属ビフルオライドま
たはアンモニウムビフルオライドは、ある種の重合反応
を含む反応に有用な触媒であることが知られている。米
国特許i 4,874,036号明細書は、アルカリ金
属ビフルオライド触媒の存在下におけるマレイン単量体
と選ばれたアルキル置換スチレンとの共重合によるポリ
無水物の製造法を開示している。
本発明によれば、式 %式% 〔式中、各R基は個々に1〜20個の炭素原子を含有し
そしてそれぞれ少くとも2個のα−水素原子を含有する
アルキル基であるか、またはR1とR2、R3とR4、
およびR5とR6は個々の組合せで一緒になって+0H
2−)4または+OH2+2□7j2(ただしYは水素
またはメチルである)でありうる〕の化合物が提供され
る。本発明の好ましい化合物はR基がメチルまたはエチ
ル基であるものである。
更に、前記式の化合物の製造のための5種の方法が提供
される。
本発明は、式 のトリス(ジアルキルアミノ)スルホニウムビフルオラ
イドの製造のための5つの方法を提供するものである。
本発明においては「アルキル」とは少くとも2個のα−
水累を有する分枝鎖状および直鎖状アルキル基を包含す
る。また、R基が個々の組となっている場合には、ジア
ルキレン基+OH2+4および(OH2+20HY(−
OH2+2C式中YはHまたはOH5である)も包含さ
れる。コス)?考慮すれば、好ましい本発明の化合物は
R基がメチルまたはエチルであるものでおる。
本発明の化合物の例としては、 トリス(ジメチルアミノ)スルホニウムビフルオライド
、 トリス(ジエチルアミノ)スルホニウムビフルオライド
、 トリス(メチルエチルアミン)スルホニウムビフルオラ
イド、 トリス(n−プロピルアミン)スルホニウムビフルオラ
イド、 トリス(ジ−n−プロピルアミン)スルホニウムビフル
オライド、 ビス(ジ−n−プロピルアミノ)(ジメチルアミノ)ス
ルホニウムビフルオライド、ビス(ジメチルアミノ)(
N−オクタデシル−N−メチルアミン)スルホニウムビ
フルオライド、 トリス(ピペリジノ)スルホニウムビフルオライド。
トリス(ピロリジノ)スルホニウムビフルオライド、 ビス(ジメチルアミノ)ビロリジノスルホニウムビフル
オライド、 ビス(ピロリジノ)(ジメチルアミノ)スルホニウムビ
フルオライド、 トリス(N−メチル−N−オクタデシルアミノ)スルホ
ニウムビフルオライド、 トリス(4−メチルピペリジノ)スルホニウムビフルオ
ライド、および ビス(ジメチルアミノ)(ジエチルアミン)スルホニウ
ムビフルオライド があげられる。
以下に述べる方法1〜3で出発物質として使用される場
合、トリス(ジアルキルアミノ)スルホニウムジフルオ
ロ・メチルシリケートは米国特許第5.940.402
号明細tK開示の方法によシ製造することができる。
1、トリス(ジアルキルアミノ)スルホニウムジフルオ
ロトリメチルシリケートの加水分解 本発明のビフルオライド製造のための好ましい方法によ
れば、式 %式% フルオロトリメチルシリケートを適当な溶媒に溶解させ
、そして約り0℃〜約80℃、好ましくは約り0℃〜約
40℃の温度で少くとも0.5の水/シリケートモル比
で水と反応させる。よシ大量の水は反応に悪影響を与え
ることはないが、しかし生成物の乾燥に必要とされるエ
ネルギー金増大させる。適当な溶媒としてはアセトニト
リル、ベンゾニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチル
エチレンクリコール、ジエチルエーテルおよびある種の
炭化水素例えはペンタン鷺ヘキサン、トルエンおよびキ
シレンがあげられる。前記のものの中でアセトニトリル
が最゛も便利であシそして好ましい。反応圧は臨界的で
はないがしかし大気圧が好ましい。場合により生成物を
テトラヒドロフランから再結晶させることができる。
HF2−@イオン中に存在する水素のいくらかまたは全
部が重水素で置換されている本発明のビフルオライドは
、前記の方法において重水素富化水の使用によって製造
することができる。これら化合物は有用な分析試薬であ
る。
2、トリス(ジアルキルアミノ)スルホニウムジフルオ
ロトリメチルシリケートの加メタノール分解 本発明のビフルオライド製造のための第2の方法は、式 %式% フルオロトリメチルシリケートをモル過剰のメタノール
中に溶解させることを包含する@得られる溶液を蒸留容
器中でこの溶液を約64〜70℃の温度に加熱させるこ
とにより還流させ、得られる蒸留物を凝縮させ、そして
凝縮蒸留物を容器に戻す。この段階を約5分〜約5時間
、好ましくは約20〜約60分の間実施させることがで
きる。還流段階の完了後、本発明のビフルオライドは還
流溶液を蒸発乾固させ、そして得られた残渣を果めるこ
とKよって回収することができる。
5、トリス(ジアルキルアミノ)スルホニウムジフルオ
ロトリメチルシリケートの熱分解本発明のビフルオライ
ド製造のための第3の方法においては、式 %式% フルオロトリメチルシリケートを大気圧まには大気圧以
下の圧で約り0℃〜約200℃の間の温度に加熱す−る
ことにより熱分解せしめる。好ましくは熱分解は約85
〜約120℃の間の温度でそして好ましくは約0.01
3〜約2.7 kPaの減圧で実施される。得られる固
体残渣は本発明のビフルオライドを含有している。
4、 ジアルキルアミノトリアルキルシランとsp4と
の反応 本発明のビフルオライド塩の製造の第4の方法は、各ア
ルキル基が2〜6個の炭素原子を含有しているクロロト
リアルキルシランを適当な不活性溶媒例えばジエチルエ
ーテル、メチレンクロリド、クロロホルム、フルオロト
リクロロメタン、テトラヒドロフランまたはジオキサン
中でジアルキルアミンと反応させることKよって選ばれ
たジアルキルアミノトリアルキルシランを製造すること
を包含する。得られるジアルキルアミノトリアルキルシ
ランを約2.5:1〜約6二1、好ましくは約3=1の
モル比で約−100℃〜約0℃の温度に冷却させた適当
な溶媒中の四弗化硫黄の溶液に加える。得られる反応混
合物を約り℃〜約50℃の温度で約3時間〜約2週間の
間攪拌またはその他の手段で混合する。好ましくは反応
は約6時間〜約48時間実施例 あるいはまた、ジアルキル置換基R1〜R6が異ってい
る本発明の化合物は、ジアルキルアミノトリアルキルシ
ランすなわち(R’R2N) 5iR5、(R”RAM
)81R3および(R5R’N)8iR3を約2.5〜
約6、好ましくは約3のジアルキルアミノトリアルキル
シラン/ SF4モル比で8F4と反応させることによ
シ製造できる。
この反応に適当な溶媒としてはアセトニトリル、ベンゾ
ニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルエチレングリ
コール、エーテル例えIdジエチルエーテルおよび炭化
水素例えばはンタン、ヘキサン、トルエンおよびキシレ
ンがあケラレる。前記の中でジエチルエーテルが最も便
利であシそして従って好ましい。この方法に対する適当
なジアルキルアミノトリアルキルシランはRが02〜6
アルキルでありそしてR1が前記定義のR1−R6であ
る式(R/ )2NSiR3の化合物である。この方法
に対する好ましい出発物質はジアルキルアミノトリエチ
ルシランである。
5、 ビス(ジアルキルアミノ)硫黄ジフルオライドと
ジアルキルアミンとの反応 本発明のビフルオライド塩製造のための第5の方法は、
式 %式%) のビス(ジアルキルアミノ)硫黄ジフルオライドを大約
等モル量の選ばれたジアルキルアミンR5R6NHと適
当な溶媒中で反応させることを包含する。適当な溶媒と
してはアセトニトリル、ベンゾニトリル、テトラヒドロ
フラン、ジメチルエチレングリコール、ジエチルエーテ
ルおよびある種の炭化水素例えばペンタン、ヘキサン、
トルエンおよびキシレンがあげられる。これらの中でジ
エチルエーテルが便利であυかつ安価でアシそして従っ
て好ましい。前記式の中でR1−R6は前記定義のとお
9である。
この方法によnば、選ばnたジアルキルアミンヲ徐々に
約−30℃〜約10℃の温度でビス(ジアルキルアミン
)硫黄ジフルオライドの攪拌溶液に加え、そして得られ
た混合物を約り0℃〜約50℃の間の温度まで加温させ
る。攪拌をこの温度で少くとも約6時間、好ましくは約
15〜約24時間つづける。濾過により回収しうる得ら
れる沈殿生成物は本発明のビフルオライド塩である。
以下の実施例は本発明の化合物および方法を更に説明す
るために与えられている。実施例中においては特記され
ていない限9はすべての係は重量基準でありそして温度
は℃である。
例  1 トリス(ジメチルアミノ)スルホニウムジフルオロトリ
メチルシリケートの加水分解によるトリス(ジメチルア
ミノ)スルホニウムビフルオライドの製造 2((OH3)2N)3BΦF’2Si(CH3)3e
 + R20−+2[(C!H5)2N:13SeHF
’2e + [(OHs)3si)20トリス(ジメチ
ルアミノ)スルホニウムジフルオロトリメチルシリケー
ト11.22f (40,7ミリモル)全常温でアルゴ
ン下に10−の蒸留アセトニトリルに溶解させた。
0、6 d (35ミリモル)の水を加えると油性物質
の迅速な形成が観察された。アセトニトリルを蒸発させ
、そして得られた固体生成物を約100ゴのテトラヒド
ロフラン中で一晩攪拌させた。得られた結晶性生成物を
アルゴン下に濾過により回収し、そして約25℃および
約0.lmmHg圧で3日間乾燥させた。生成物はa2
0fの重量であり、これは997%の回収率を表わした
。これは143.5〜145°の融点を示した。
19F’NMRおよび元素分析はこの構造が((OH3
)2N)319HFhT6ることl[L、た。19F 
NMR(CD、ON 、 OC):δ−145,8(ダ
ブレット1.rHF=120H2)。C6H1912N
58としての元素分析値は次のとおりであった。
計算値: 35.47 9.42 18.6B  2Q
、66 15.77実測値: 35.45 9.56 
17.52 20.99 16.1527.5f(10
0ミリモル)のトリス(ジメチルアミノ)スルホニウム
ジフルオロトリメチルシリケートおよび1.0d(55
ミリモル)の水を使用して実質的に前記の反応ヲくりか
えした。
アセトニトリルの蒸発後に得られる固体生成物(m、p
、147°〜148℃)はテトラヒドロフランで処理さ
れなかった。トリス(ジメチルアミノ)ス/I/ホニウ
ムビフルオライドが定量的収率で得られそしてその構造
は19FNMRおよび元素分析によυ確証された。
例  2 トリス(ジメチルアミノ)スルホニウムジフルオロトリ
メチルシリケートのメタノール分解によるトリス(ジメ
チルアミノ)スルホニウムビフルオライドの製造 [(OHM)2N)38”’(OH3)3SiF’e 
+ 0H30H−* 〔(OHs〕2N)ss■HF2
e + (OH3)3SiOOH5トリス(ジメチルア
ミノ)スルホニウムジフルオロトリメチルシリケート1
6.52 f (59,9ミリモル)の100rdのメ
タノール中の溶液を60分間還流させそして次いで減圧
下に蒸発乾固させて残存シロップを残留させた。この残
存シロップ中で大形結晶が徐々に形成された。これをフ
ィルター上に集め、そしてジエチルエーテルで洗った。
大形の透明結晶の形態で1.88r(15,4%)のビ
フルオライドが得られた。
m、p、 110〜116°、19F NMR(CD3
ON)δ−14a 4ppm006H19N3SF2と
しての分析結果は次のとおりである。計算値:F1a、
69、実測値:F17.99゜例  3 トリス(ジメチルアミノ)スルホニウムジフルオロトリ
メチルシリケートの熱分解によるトリス(ジメチルアミ
ノ)スルホニウムビフルオライドの製造 (:(C!H3)2N)5Se(OH4)BS’lF2
” 2[(OH3)2N]5SΦHF2e+ (OH5
)3SiFトリス(ジメチルアミノ)スルホニウムジフ
ルオロトリメチルシリケート25F(91ミリモル)試
料をフラスコ中で約96″に加熱した。
得られた溶融試料を含有するこのフラスコを1 mmH
gまで減圧にしそして蒸留された揮発成分をドライアイ
ス冷却されたトラップに集めた。
約96°に保持されている間に溶融試料は固化した。約
96°に1時間置いた後、固化した物質を含有するフラ
スコを冷却し、そして冷却した固化試料をチップ化させ
て白色吸湿性粉末9471を生成させた。m、p、13
9°〜141” 、 1HNMR(CD3ON)δ2.
91 ppm 、 19F NMR(CD3ON)a−
147,5ppmOC6H19N3SF2としての元素
分析結果は次のとおりであった。
OHN       FS 計算値: 35.45 9.42 20.67 18.
69 15.75実測値: 35.48 9.50 2
2.22 19.14 15.03例  4 四弗化硫黄およびジメチルアミノトリエチルシランから
のトリス(ジメチルアミノ)スルホニEt5S10t+
HN((!H5)2→Fit、!1SiN(OH3)2
→((CH3)2N’)s8ΦHF2e トリエチルクロロシラン75.4tC0,5モル)を1
0〜20・0の500−のジエチルエーテル中のジメチ
ルアミン73d(1,1モル)の溶液に滴加した。沈殿
1’過により除去し、そして得られたろ液を蒸留して6
4.8 fのジメチルアミノトリエチルシランを無色液
体(b、p、88°(46m))として得た。47.8
f(0,3モル)のシラン試料’に一70’に冷却され
た100−のエーテル中の四弗化硫黄5d(0,09モ
ル)の溶液に滴加した。得られた混合物を約23″まで
加温させそして1週間攪拌した。得られた白色固体沈殿
をフィルター上に集め、エーテルで洗いそして窒素下に
乾燥させると6.81のトリス(ジメチルアミノ)スル
ホニウムビフルオライドが無色結晶とシテ得られた。m
、p、 117〜120”−191”NMR(CD3O
N)δ−150,4ppm 、 1HNMR(CD3O
N)δ+2.95 ppm 006H19N38F2と
しての元素分析結果は次のようであった。
計算値: 35.45 9.42 18.69実側値:
 38.38 9.68 1a40例  5 ビス(ジメチルアミノ)(N−オクタデシル−N−メチ
ルアミン)スルホニウムビフルオライド150−のジエ
チルエーテル中の2a4f(0,1モル)のN−メチル
−N−オクタデシルアミンの溶液を約4″に冷却した1
00ゴのジエチルエーテル中の15.8F(0,1モル
)のビス(ジメチルアミノ)硫黄ジフルオライドの攪拌
溶液に滴加した。得られた混合物を約26°に加温し、
そして約20時間攪拌した。白色固体沈殿が生成した。
そしてこれ會フィルター上に集め、そして追加のジエチ
ルエーテルで洗った。37.91 tの本邦化物が白色
ワックス様結晶として得られた。m、p、66°、19
F NMR(OD3C!N)δ−153,1ppm(非
常にブロード、HF1)、’HNMR(CD3ON)δ
1.28 ppm(s s 34H)、0.90 pp
m(m 、 3H)、2.87 ppm(s、15H)
。023H53F2N5Bとしての分析結果は次のよう
であった。計算値:?a60、実測値CIF δ86゜
例  6 〔(1−メトキシ−2−メチル−1−プロはニル)オキ
シフ−トリメチルシラン) (MTS)によシ開始され
そしてトリス(ジメチルアミノ)スルホニウムビフルオ
ライドにより触媒されたメチルメタクリレートの重合 実質的には前記例1に記載と同様の方法によって製造さ
れたトリス(ジメチルアミノ)スルホニウムビフルオラ
イド20 t (0,1ミリモル)を60ゴのテトラヒ
ドロフランKIs濁させた。
2.0−(10ミリモル)の〔1−メトキシ−2−メチ
ル−1−プロペニル〕オキシ〕−トリメチルシラン(M
TS) i得られた懸濁液にアルゴン雰囲気下に加えた
。この時点で10.67!(98ミリモル)のメチルメ
タクリレートを攪拌しつつ徐々に約20分間かけて加え
た。この期間の間に得られた混合物の温度は約21°の
最初の温度から約46.2°のピーク温度に上昇するこ
とが観察された。混合物の温度が約21″に戻るまで攪
拌をつづけ、そして5#+7!のメタノールをこの混合
物に加えて得ら扛たリビングポリマーを冷却させた。1
1.59の重合体が揮発成分の蒸発後に回収された。
ゲル透過クロマトグラフィー分析による分子量はMn8
05、MW969、多分散fU 1.20であった。
本発明の実施に対して意図されている最良の様式は例1
により示される。
本発明のトリス(ジアルキルアミノ)スルホニウムビフ
ルオライドは重合触媒として有用性を有している。%に
本発明の化合物は珪素を錫またはゲルマニウムを含有す
るおる梱の開始剤の存在下での選ばれたα、β−不飽和
化合物例尺はアクリレートおよびメタクリレート単量体
の重合および共重合反応において有用な触媒である。
特許出願人  イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース
・アンド・フン/9ニー 第1頁の続き 0発 明 者 ドットセビ・ヤオ・ツガーアメリカ合衆
国プラウエア州 (19810)ウイルミントン・ノー スゲイトロード2506

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)式 %式% 〔式中各R基は個々に1〜20個の炭素原子を含有しそ
    してそれぞれ少くとも2個のα−水素原子を含有するア
    ルキル基であるか、またはR1とR2、R3とR4およ
    びR5とR6は個個の組合せで一緒になって+OH2+
    aまたは+OH2+20HY(−OH2+2 (ただし
    Yは水素またはメチルである)であルうる〕の化合物。 2)各R基がメチルまたはエチルである前記特許請求の
    範囲第1項記載の化合物。 3)すべてのR基がメチルである前記特許請求の範囲第
    2項記載の化合物。 4)すべてのR基がエチルである前記特許請求の範囲第
    2項記載の化合物。 5)式 %式% (式中R1〜R6は前記特許請求の範囲第1項定義のと
    おりである)のシリケートを少くとも0.5の水/シリ
    ケートモル比で水と約り0℃〜約80℃の温度で適当な
    溶媒の存在下に接触させることを包含する前記特許請求
    の範囲第1項記載の化合物の製造法。 6)溶媒がアセトニトリル、ベンゾニトリル、テトラヒ
    ドロフラン、ジエチルエーテル、はンタンーヘキサン、
    トルエンおよびキシレンよりなる群から選ばれる前記特
    許請求の範囲第5項記載の方法。 7)溶媒がアセトニトリルでありそして温度が約り0℃
    〜約40℃である前記特許請求の範囲第6項記載の方法
    。 8)水が重水素で富化されている前記特許請求の範囲第
    5項記載の方法。 9)前記特許請求の範囲第1項記載の化合物を製造する
    にあたり、式 %式% (式中R1〜R6は前記特許請求の範囲第1項定義のと
    おpである)を約64〜70℃の温度で、約5分〜約5
    時間モル過剰のメタノールと接触させること全包含する
    方法。 10)式 %式% (式中R1〜R6は前記特許請求の範囲第1項定義のと
    おりである)の化合物を約り0℃〜約200℃の温度に
    加熱することを包含する前記特許請求の範囲第1項記載
    の化合物の製造法。 11)加熱が約0.013kPa〜約2.7 kPaの
    圧力および約り5℃〜約120℃の温度で実施される前
    記特許請求の範囲第10項記載の方法。 12)化合物(R1R2N)SiR5、(R’R’N)
    SiR3、および(R5R’N)SiR4(式中Rは2
    〜6個の炭素原子を含有するアルキル基であシそしてR
    1−R6は前記特許請求の範囲第1項に定義のとおりで
    ある)よりなる群から選ばれた1種またはそれ以上のジ
    アルキルアミノトリアルキルシラン全適当な溶媒中で約
    −100℃〜約0℃の温[T、約2.5〜約6のジアル
    キルアミノトリアルキルシラン/ sy4のモル比でS
    F4と接触させ、そして得られた混合物を約り℃〜約5
    0℃の温度で約6時間〜約2週間攪拌すること全包含す
    る前記特許請求の範囲第1項記載の化合物の製造法。 16)溶媒がジエチルエーテルであり、Rがエチルであ
    りそしてジアルキルアミノトリアルキルシランのSF4
    に対するモル比が約6である前記特許請求の範囲第12
    項記載の方法。 14)式(RIR2N)(R3R4N)EIF2の化合
    物の人的等モル量を弐R5R6NHの化合物と適当な溶
    媒中で約−30℃〜約10℃の温度で接触させ、そして
    得られた混合物を約り0℃〜約50℃の温度で少くとも
    約6時間の間攪拌することを包含しそして前記式中のR
    1−R6が前記特許請求の範囲第1項に定義のとおシで
    ある前記特許請求の範囲第1項記載の化合物の製造法。
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