JPS59206425A - 光架橋性組成物 - Google Patents

光架橋性組成物

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JPS59206425A
JPS59206425A JP8505384A JP8505384A JPS59206425A JP S59206425 A JPS59206425 A JP S59206425A JP 8505384 A JP8505384 A JP 8505384A JP 8505384 A JP8505384 A JP 8505384A JP S59206425 A JPS59206425 A JP S59206425A
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エドワ−ド・ア−ビング
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Ciba Geigy AG
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    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • GPHYSICS
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    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本艶明は、光架橋性材料と電子受答体とからなる組成物
ならびにそれらの架橋方法、該光架橋性組成物を画は形
成に使用する方法、および光架橋性材料を表面被覆剤お
よび接層剤として、および強化複合材料、印刷回路およ
び印刷板の頌造に使用する方法に関する。
環付加反応によって架橋する光架橋性材料は、よく仰ら
れておシそしていくつかは市販されている。この方法で
架橋する材料は、カルコンならびにマレイン酸およびジ
メチルマレイン酸のイミドを含有している。これらは、
グリーン(Green)、スターク(5tark)およ
びンアーイル(Zahir)による“光架橋性樹脂系(
Pho−tocrosslinkable Re5in
 Systems)”。
JoMacro、Sci、Revs、Macro、Oh
em、、 021(2)第219〜284貞(1981
〜82年)に詳述されている。かかる材料は、産業界に
てうまく使用されているにもかかわらず、いくつかの目
的のためには架橋が少し遅く、架橋が起きる速度を促進
する方法が望まれている。
本発明者らは、上記目的がある種の芳香族およびキノン
性有機電子受容体を光架橋性材料に添加することによっ
て達成することができることを見出した。
特開昭54−95688号(1979年)(ダーヴエン
トOPIアブスラクト第65588B号)には、 (5) エチレン性不飽和化合物と、 (B)  (i)式: Y−OH=OHOO川、Y−O
H=OHOO−p−0、H4−XXY−OH=OHOO
OH=OH−p−C;、H,−人y−co−p−o、)
(4−x、 Y−OH(OH)00Ph、 Y−OH=
OH8O,夙Y−OHOまだは次式: (式中、R1およびR2はアルキル基を表わし:R”は
アルキル基、アルコキシ基、アリール基またアリールオ
キシ基を表わし;XはH1アルコキシ基、アルキルカル
ボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキル(カ
ルボニル)アミン基、アルキル(カルボニル)チオ基、
アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールオキシ基、アルアルキル基、カルボキシル基、アミ
ン基、アミノスルホニル基、チオシアノ基、メルカプト
基、PO3H,スルホ基、ヒドロキシル基またはノ・口
塞を表わし、そしてYはR” fL”N −p −0,
H,−を表わす。)で表わされる化合物;および(1j
)次式: A−0,H,0NXNo−p −0,)(、
−C1(=OHOO−p −0,H,−E、 G−0,
H,−0H=O(ON )I。
もしくはG−0,H,−0H=0(ON)000R4(
式中、AはHXON、ホルミル基、カルボキシル基、ジ
アルキルアミン基またはアルコキシ基を表わし;Eには
H,ハロ基、アルキル基、ヒドロキシル基またはONを
表わし;GはHlONまたはジアルキルアミノ基を表わ
し;そしてR,4はアルキル基、アリール基またはアル
キル基を表わす。)で表わされる化合物、またはモノシ
アノナフタレンまたは1.l−ジシアノ−2−ナフチル
エテン、からなる2成分開始剤系と、 からなる光重合性組成物が記載されている。
公開公報に開示されている光重合性化合物(6)は、ア
クリレートおよびメタクリレートだけである。開始剤(
i>用に開示されているカルコンは、ただ一つのカルコ
ン基を有することから光架橋性でない。従って公開公報
によれば、非架橋性カルコン(i)とシアン化合物(1
1)との混合物を、アクリレートおよびメタクリレート
の光重合を開始するのに使用する方法が開示されている
。しかしシアン化合物が、光架橋性カルコンまたはマレ
イミドの架橋を促進するのに使用することができるとい
う示唆はなかった。
従って本発明は、 (a)次式: %式% (式中、Arは一価、二価、または三価の芳香族炭素環
式または複素環式基を表わし、そして Rは水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、ま
たは結合した炭素原子と示したカルボニル基とが一緒に
なって5員、6員または7買戻素項式または複素環式基
を形成する基を表わす。)で表わされ、示したカルボニ
ル基全介して炭素原子に結合する基すなわちカルコン様
基か、あるいは次式: で表わされる基すなわち環状イミド基のいずれかを含有
する不飽和光架橋性材料と、(b)有効量の次式: O [11V (式中、Ar1は炭素原子数1ないし4のアルキル基、
ハロゲン原子、およびニトロ基から選択された工ないし
4個の基によって置換されることができる(2m十m)
価の炭素環式芳香族基を表わし、 nはOまたは1ないし4の数を表わし、mは0,1また
は2の数を表わすが、mが2の数を表わすときnはOの
数を表わし、mが1の数を表わすときnはitたは2の
数を表わし、そしてmがOの数を表わすときnは2.3
または4の数を衆わし、 示した酸無水物のカルボニル基は芳香族環の隣接炭素原
子に結合しており、そしてpは0,2.または4の数を
表わすが(n+p)の合計は4の数を表わす。)で表わ
される有機電子受容体とからなる光架橋性組成物を提供
することを目的とする。
本発明の他の目的は、上記(a)および(b)からなる
組成物を作シ、そしてこの組成物が架橋し架橋生成物が
得られるまで化学線にさらすことからなる光架橋生成物
の合成方法を提供することにある。
芳香族基Ar”は好ましくは単環式基または縮合多環式
基を表わすか、あるいはそれぞれ単環−酸基または縮合
多環式基であってもよい2個のアリーレン基が共有結合
にょシ、酸素原子により、またはカルボニル基、スルホ
ニル基もしくは炭素原子数1ないし6のアルキレン基に
ょシ結合したジアリーレン基を表わす。また好ましくは
、基A r ”は未置換基である。
弐■で表わされる好ましい電子受容体は、kr”かへ/
ゼン項、ナフタレン環、ジフェニレン基、またはベンゾ
フェノン基を表わすものでめる。式■で表わされる好ま
しい電子受容体は、pが2またば4の数を表わすもので
ある。
とりわけ好ましい、本発明に従って使用することができ
る電子受容体は、2,3−ジクロル−5,6−ジシアツ
ベンゾキノン、1.2−11,3−およびl、 4−シ
フアノベンゼン、8.4.3’。
4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ピロ
メリット酸二無水物、クロラニルすなわち2、8.5.
6−チトラクロルベンゾキノン、および1.2.4.5
−テトラシアノベンゼンである。
光架橋性組成物の製造技術でよく知られているように、
光架橋性樹脂が吸収するのと本質的に同一振動数で化学
線を吸収しない成分を選択する必要がある。それゆえ電
子受容体が、この点において特に使用カルコンまたは環
状イミドと相溶性であることを確実にする必要があるが
、相溶性材料を選択することは、経験を持った配合者の
日常の技術範囲内である。
とりわけ好筐しい光架橋性材料は、式IにおいてArが
炭素原子数6ないし10の一価または二価の単環式また
は二環式芳香族炭化水素基または炭素原子数4ないし9
の単環または二環式芳香族複素環式基を表わし、そして
Rが水素原子を表わす基を持つものか、あるいは式■に
おいてエチレン性炭素原子が直接水素原子またはハロゲ
ン原子に結合するか、あるいは炭素原子数1ないし4の
アルキル基、シアノ丞、またはフェニル基に結合してい
る基を持つものである。式■で表わされる環状イミドは
、好ましくはマレイミド構造例えばα−7エニルマレイ
ミドまだはジメチルマレイミドの部分である。
これらのカルコン様基およびマレイミド基のすべては、
側基として存在することができるか、あるいはこれらが
少なくとも二価であるとき、ポリマー主鎖の部分を構成
することかでさる。
適するマレイミドは、通常、側基にマレイミド単位を持
つポリマーでらる。そのようなポリマーは、例えばα−
アリールマレイン酸無水物をスチレンとp−アミノスチ
レンとのコポリマーと反応させることにょシ合成した側
基にα−アリールマレイミド単位を有する材料;例えば
メチルビニルエーテルマレイン酸無水物コポリマーeN
−(ヒドロキシシクロアルキル)ジメチルマレイミドと
処理することによりあるいはN−(ヒドロキシアルキル
)ジメチルマレイミドのアクリレートまたはメタクリレ
ートのポリマー化あるいはコポリマー化によって合成し
たジメチルマレイミド単位を有する材料;そしてN−ク
ロルメチルマレイミドとポリスチレンとの反応生成物を
包含する。他の適するマレイミド含有材料は、マレイミ
ド、ホルムアルデヒドおよびトルエンの反応生成物、な
らびにエポキシド樹脂と種々のα−アリールマレイミド
誘導体との反応生成物を包含する。
側基のカルコン様基は、種々の公知方法例えハポリビニ
ルアセトフエノンとベンズアルデヒドとの縮合により、
ポリスチレンと塩化シンナモイルとのフリーデルクラフ
ト反応によって、p−イソシアナトベンザルアセトフェ
ノンをポリビニルアルコールへ付加することにより、あ
るいはスチレン−マレイン酸無水物コポリマーを4−メ
トギシー4’−(2−ヒドロキシエトキシ)カルコンと
反応させることによシボリマー鎖に導入することができ
る。
カルコン様基は、水酸基置換ベンズアルデヒド例えばp
−ヒドロキシベンズアルデヒドと種々のケトン例えばア
セトンまたはシクロペンタノンとの縮合により感光性、
カルコン様基含有ビスフェノールを与え、このビスフェ
ノールをエポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステ
ル、ポリスルホンまたはポリホスホネートの形成に使用
することによシポリマー主鎖中に形成させることができ
る。
これら光架橋性材料の合成は、上記したグリーン、スタ
ークおよびンアーイルによる文献に記載されている。も
ちろんこれら材料は、平均分子当りマレイミド基または
カルコン基を1個より多く含有する。
1個以上のマレイミド基およびアクリレート基またはメ
タクリレート基を有する化合物は、アクリル材料用の゛
光重合開始剤の共存下本発明組成物中に直接使用するこ
とができる。アクリル基を介しての化合物の光重合化は
、結果としてマレイミド基を含有するポリマーを生成し
、そのポリマーはついでマレイミド基を介して架橋する
。このタイプの適する化合物は、N−(ヒドロキシアル
キル)ジメチルマレイミドのアクリレートおよびメタク
リレートである。適するアクリル材料用の光重合用開始
剤は、有機過酸化物およびヒドロペルオキシド、α−7
10ゲンー置換アセトフエノン、ベンゾインおよヒソの
アルキルエーテル、q−メチルベンゾイン、ベンゾフェ
ノン、ベンジルケタール、特ニベンジルジメチルケター
ル、置換チオキサントン例えば2−クロルチオキサント
ンおよび2−イングロビルテオキサントン、およびアン
トラキノンを包含する。
好ましい光架橋性材料は、平均して1個より多い式■で
表わされる基を有するエポキシド樹脂、特に多価フェノ
ールのポリグリシジルエーテルまたはジグリシジルヒダ
ントインを式■で表わされる基を有するビスフェノール
と前駆させることによシ作った材料、とりわけビスフェ
ノールAC2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニ
ル)プロパン〕のシフリンシルエーテルまたは1,8−
ジグリシジル−5,5−ジメチルヒダントインを1.4
−ビス(8−(4−ヒドロキシフェニル)−8−オキノ
ー1−プロペニル〕ベンゼンと前駆させることにより得
たものである。
他の好ましい光架橋性材料は、N−(2−メタクリロイ
ルオキシエチル)−2,8−ジメチルマレイミドまたは
そのアクリロイルオキシ同族体(これ用の光重合開始剤
と一緒に)、これら化合物のホモポリマーおよびビニル
モノマー例工ばエチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート、アクリル酸、メタクリル酸およびスチレンとめコ
ポリマーである。
架橋材料は、公知方法により稀釈、アルカリ水溶液中に
可溶または分散せしめることができる。
例えば、酸性様は、付加重合性モノマーから架橋材料を
製造する際のコモノマー性出発原料としてのアクリル酸
またはメタクリル酸の便用により、分子中に柩り込ませ
ることができる。
本発明組成物中に存在する有機電子受容体(b)の量は
、促進効果を与えるのに十分で必る限シ臨界はない。そ
の量は、使用者の要求および光架橋性材料(a)のおよ
び電子受容体(b)の性質に応じて、変化させることが
できる。一般に光架橋性材料の重量から計算して電子受
容体が0.1〜6重量%存在し、0.4〜4重量%が特
に好ましい。
組成物はまた、カルコンまたはマレイミドの含有材料を
光架橋するための公知の増感剤、例えばビス(ジアルキ
ルアミノ)ベンゾフェノン例としてミヒラーケトン、な
らびにチオキサントン例として2−クロルチオキサント
ンおよびメチルチオキサントン−1−カルボキシレート
、を含有してもよい。
本発明方法のだめ適する化学勝は、200ないし600
 nmの範囲内の波長を持つ。そのような化学線源は、
炭素アーク、水銀蒸気アーク、リン輻射紫外光を持つケ
イ光灯、アルゴンおよびキセノングロー灯、タングステ
ン灯、および写真投光灯である。こnらのうち水銀蒸気
アーク、特に太陽灯、ケイ元太陽灯、そして金属ノ・ラ
イド灯は最適である。樹脂の露光に必要な時間は、例え
ば使用する個々の樹脂、被膜の厚さ、光源のタイプ、被
膜からの光源の距離を包含する種々の要素に依存するで
あろうが、通常の実験により容易に決定することができ
る。
本発明組成物は、これが化学線に画像形成露光さnると
き、画像形成に使用するのに特に適している。画像形成
露光は、画像を持った透明画を通してまたは画像形成の
ためコンピューターによ)指示された通り動くレーザー
ビームにより達成することができる。
本発明方法によって光架橋した組成物は、印刷板および
印刷回路の製造の際の表面被覆剤として、繊維強化複合
材料の接着剤として、浸漬塗装、フィラメント巻きとし
て、およびシート成形組成物として、公知方法を用いて
使用することができる。
従って本発明は、本発明方法によって作った架橋生成物
からなる表面被覆剤を持った物そして本発明方法によシ
作った架橋生成物によって一緒に結合した表面を持つ吻
を提供することにある。
以下に本発明の実施例を例証する。材料の全ての「部」
および「チ」は、「重量部」2よび「重量%」を示す。
これら実施例で使用する光架橋材料は、次の通り合成し
た。
樹I旨 1 1.4−ビス(3−(4−ヒドロキシフェニル)−3−
、tキソ−1−グロペニル〕ヘンゼン(29,6F)、
1.3−ジグリシジル−5,5−ジメチルヒダントイン
(24,9r) 、テトラエテルアンモニウムプロミド
(0,042)、オヨヒ2−エトイゾエチルアセテー)
 (70,Of’)を含む混合物を調整した。この混合
物を150℃で2時間加熱すると、そのエポキシド含量
(固体存在量から計算比)が0.33当量/ Kgに減
少した。100℃まで冷却し、そして/クロヘキサノン
(70,01)を加えた。生成物すなわち主ポリマー主
鎖中にカルコン様基を有する前駆樹脂の溶液を、以ドで
樹脂Iとする。
樹脂■ 2.2−ビス(4−グリシジルオキシフエニ/I/)グ
ロパ/(26,4F)、1.4−ビス(1−(4−ヒド
ロキシフェニル)−8−オキ7−1−プロペニル)ベン
ゼン(22,2f) 、テトラエテルアンモニウムプロ
ミド(0,2t)、および2−エトキシエチルアセデー
ト(48,6f )を含む混合物をA製した。この混合
物を140℃で3時間加熱すると、そのエポキシド含量
が固体存在量から計算して0.45当景/KIIまで減
少した。100℃まで冷却し、そしてシクロヘキサノン
(64,0?)を加えた。生成物すなわち主ポリマー主
鎖中にカルコン様基を含む前駆樹脂溶液を、以下樹脂■
とする。
樹脂■ この樹脂■は、当モル量のN−(2−ヒドロキジエチル
)−2,8−ジメチルマレイミドとメククリロイルクロ
リドとを、若干過剰量の酸受容体としてのトリエチルア
ミンの共存下で反応させることによって調製したN−[
:2−(メタクリロイルオキシ)エチル)−2,8−ジ
メチルマレイミドを示す。
樹脂■ メチルメタクリレート(10r)、樹脂■(82,5F
 )、メタクリル酸(7゜5r)、アゾビス(インブチ
ロニトリル)(0,ir )、エチルメチルケトン(1
0,Of)、および2−メトキシエタノール(10(1
)を含む混合物を調製した。この混合物を攪拌し、65
℃で24時間加熱した。力ロ熱の間に171/2時間後
そして21時間後に、アゾビス(インブチロニトリル)
(0’、 IP)を更に加えた。生成物は、光架橋性ジ
メチルマレイミド基および側基にカルボン酸基を有する
コポリマーの溶液である。
希釈剤I 市販の工具素化p−クレシルグリシジルエーテル(エポ
キシド含量2.76当量/Kq)250fに2,6−ジ
ー第三ブチル−4−メチルフェノール(0,5S’ )
およびテトラメチルアンモニウムクロリド1グを加えた
。この溶液を攪拌しながら100℃に加熱し、そしてメ
タクリル酸(59,82)を、混合物の温度が105℃
を超えない速さで1時間かけて加えた。100℃での加
熱を、エポキシド含量が無視してよいほどに低い値に減
少するまで続けた。生成物は、芳香族環が工具素化され
た3−(メタクリロイルオキシ)−2=ヒドロキシグロ
ビルp−メチルフェニルエーテルの混合物からなる清澄
で粘稠な液体である。
光硬化反応の促進は、スタッファ−21段階感度ガイド
(S touffer 215tep 5ensiti
vi−ty guidら)を使用して試験した。これは
、透明色から黒色までの21等段階の範、囲にある透明
度からなる。光架橋性被膜は、このガイドによシ与えら
れた期間照射される。ついで未架橋材料を適当な溶媒中
で洗浄して取去った。残った画像で示す段階の数は、架
橋が露光期間中に生じた程度の指示を与える。架橋の促
進は、画像中に同一条件下で照射した不促進化混合物に
起こすより一層大きな数の段階を起こさせる。
不促進混合物(X)を用いて得た段階の数を測シ、そし
てこれを促進混合−吻(y)を用いて得た段階の数と比
較すれば、生じた光架橋量で増、IJII スるパーセ
ンテージは、次式:から計算することができる。
実施例I 樹l]旨Iを銅−被覆ラミネートにスピン−コーティン
グすることにより塗布しそして乾燥して、はぼ10μm
厚の層を残した。これを、75cm離れた5000ワツ
トの金属ハライド灯により3分間、スタッファ−21ス
テツプ感度ガイドを通して照射した。未架橋材料をシク
ロヘキサン中で洗浄してラミネートから取り去ると、6
段階の画像が残った。
2.3−ジクロル−5,6−ジンアツペンゾキノンを1
%、樹脂■中に配付して、笑験を繰返した。lO段階の
画家がラミネート上に残り、67チの架橋増加を示した
実施例2 樹脂■を銅−被覆ラミネートにスピン−コーティングす
ることによp塗布し、そして乾燥して、はぼ12μm厚
の被膜を残した。これを実施例1で述べたように照射し
、そしてシクロヘキサノン中で現像すると、ラミネート
上に3段階の画像が残った。ビロメリント酸二無水物を
1条、樹脂中に配合したとき、9段階の画像が残シ、2
00チの架橋増を示しだ。
実施例3 1.2−ジシアノベンゼンを樹脂中に1チ配合して、実
施例2を繰返した。9段階の画像がラミネート上に残り
、200qbの架橋増であった。
実施例4 クロラニルを1チ、樹脂中に配合して、実施例2を繰返
した。8段階の画像が167%の架橋増でラミネート上
に残った。
実施例5 樹脂■(45部)、希釈剤I(45部)、べ/ジルジメ
チルケタール(8fl)、および2−クロルチオキサン
トン(2部)を含む混合物を作った。この混合物を銅−
被覆ラミネート上にスピン−コーティングにより被覆し
、ついで20部離れた中圧水銀灯(sow/c!n)ド
で10秒間照射した。これにより30μm厚の不粘着被
覆を得た。
この被膜を、75cm離れた5000ワツトの金属ハラ
イド灯を用いて感度ガイドを通して10分間照射した。
未架橋材料をクロロホルム中で洗浄により取去ると、5
段階の画像がラミネート上に残った。
1.2−ジシアノベンゼンを2部混合、吻中に配合して
、実験を繰返した。架橋域60饅で8段階の画像を得た
実施例6 樹脂IV (100部)をメチルチオキサントン−1−
カルボキシレート(1,6部)と混合し、そしてスピン
−コーティングによシ銅−被覆うミネート上に塗布適用
した。ラミネート全50℃で5分間乾燥し、5μm厚の
被膜を残した。これを実施例1で述べた感度ガイドを通
して2分間照射した。未架橋材料を1チの炭酸ナトリウ
ム水溶液中で洗浄することによって取去って、8段階の
画像を得た。
■、2−ジノアノベンゼンを混合1勿中に0.4チ配合
して実験を繰返し、10段階の画像を得、これは25チ
の架橋域を示した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)  (a)次式: %式% (式中、Ar1″i−価、二価、または三価の芳香族炭
    素環式または複素環式基を表わし、そして Rは水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、ま
    たは結合した炭素原子と示したカルボニル基とが一緒に
    なって5員、6員または7員炭素環式または複素環式基
    を形成する基を表わす。)で表わされ、示したカルボニ
    ル基を介して炭素原子に結合する基か、あるいは次式: %式% で表わされる基のいずれかを含有する不飽和光架橋性材
    料と、 (b)有効量の次式: ) %式% (式中、Ar’、は炭素原子数1ないし4のアルキル基
    、ハロゲン原子、およびニトロ基から選択されfclな
    いし4個の基によって置換されることができる(2m+
    n)価の炭素環式芳香族基を表わし、 nは0または1ないし4の数を表わし、mは0,1また
    は2の数を表わすが mが2の数を表わすときnは0の数を表わし、mが1の
    数を表わすときnは1または2の数を表わし、そしてm
    が0の数を表わすときは2.8または4の数を表わし、 示した改無水物のカルボニル基は芳香族環の隣接炭素原
    子に結合しており、そしてpは0,2.または4の数を
    表わすが、(n+p )の合計は4の数を表わす。)で
    表わされる有機電子受容体とからなる光架橋性組成物。 (2)電子受容体が弐■で表わされるものを表わし、そ
    してA r ”が単項式基または縮合多環式基を表わす
    か、あるいは2個のアリーレン基がそれ自体それぞれ単
    環式まだは縮合多環式基を表わし、そして共有結合によ
    シ、酸素原子ニよシ、またはカルボニル基、スルホニル
    基または炭素原子数1ないし6のアルキレン基によシ結
    合したジアリーレン基を表わす特許請求の範囲第1項記
    載の組成物。 (8)  Ar’がベンゼン環、ナフタレン環、ジフェ
    ニレン基、またはヘンシフエノン基を表わす特許請求の
    範囲第2項記載の組成物。 (4)電子受容体が1.2−11.8−まだは1,4−
    ジシアノベンゼン、1.2.4.5−テトラシアノベン
    ゼン、ピロメリット酸二無水物、3゜4、8’ 、 4
    ’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2.8
    −ジクロル−5,6−ジシアノベンゼンノンまたはクロ
    ラニルを表わす特許請求の範囲第1項記載の組成物。 (5)光架橋性材料の重量から計算して、0.1ないし
    6重量%の電子受容体を含有する特許請求の範囲第1項
    ないし第4項のいずれか1項記載の組成物。 (6)光架橋性材料が式IにおいてArが炭素原子数6
    ないしlOの一価または二価の単環式または二環式芳香
    族炭化水素基または炭素原子数4ないし9の単環式また
    は二環式芳香族複素環式基を表わし、そして几が水素原
    子を辰わす基か、あるいは式■においてエチレン性炭素
    原子が直接それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素原子
    数1ないし4のアルキル基、シアノ基またはフェニル基
    と結合している基のいずれかを含有する特許請求の範囲
    第1項ないし第5項のいずれか1項記載の組成物。 (7)光架橋性材料がマレイミド構造の部分を表わす式
    ■で衣わされる基を含有する特許請求の範囲第6項記載
    の組成物。 (8)光架橋性材料が平均して1個より多い式■で表わ
    される基を有するエポキシド樹脂、N−(2−アクリロ
    イルオキシエチル) −2,8−ジメチルマレイミド、
    N−(2−メタクリロイルオキシエチル) −2,8−
    ジメチルマレイミド、そのアクリロイルオキシまたはメ
    タクリロイルオキシ化合物のホモポリマーまたはビニル
    モノマーとのコポリマーを表わす特許請求の範V!A第
    6項または第7項記載の組成物。 (9)  (a)次式: %式% (式中、Arは一画、二価、または三価の芳香族炭素環
    式または複素環式基を表わし、そして Rは水素原子、炭素原子数1ないし4のアJレキル基、
    または結合した炭素原子と示したカルボニル基とが一緒
    になって5負、6員または7買戻素環式または塩素環式
    基を形成する基を表わす。)で表わされる、示したカル
    ボニル基を介して炭素原子に結合する基か1、ちるいは
    次式: で表わされる基のいずれかを含有する不飽オロ元架橋性
    材料と、 (b) !動量の次式: (式中、ArIは炭素原子数1ないし4の°アルキル基
    、ハロゲン原子、およびニトロ基から選択された工ない
    し4個の基によって置換されることができる(2m+n
    )価の炭素環式芳香族基を表わし、 nはOまたは工ないし4の数を表わし、mは0,1また
    は2の数を表わすが、mが2の故を表わすとき・、nは
    0の数を表わし、mが1の故を表わすときnは1または
    2の数を表わし、そしてmが0の数を表わすときnは2
    .3または4の数を表わし、 示した酸無水物のカルボニル基は芳香族環の隣接炭素原
    子に結合しており、そしてpは0,2.または4の故を
    表わすが、(n+p)の合計は4の数を表わす。)で表
    わされる有機電子受容体とからなる5Y=架橋性組成物
    を作り、この組成物が架橋するまで化学線にさらすこと
    からなる光架橋生成物の製造方法。 (10)化学線が200〜600nmの範囲の波長を持
    つ特許請求の範囲第9項記載の方法。 (11)  (a)次式: %式% (式中、Arは一価、二価、または三価の芳香族炭素環
    式または複素環式基を表わし、そして Rは水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、ま
    だは結合した炭素原子と示したカルボニル基とが一緒に
    なって5負、6員または7買戻素項式まだは複素環式基
    を形成する基を表わす。)で表わされ、示したカルボニ
    ル基を介して炭素原子に結合する基が、あるいは次式二 で表わされる基のいずれかを含有する不飽和光架橋性材
    料と、 (b)有効量の次式: %式% (式中、Ar1は炭素原子数1ないし4のアルキル基、
    ハロゲン原子、およびニトロ基から選択された1ないし
    4個の基によって置換されることができる(2m+n)
    価の炭素環式芳香族基を表わし、 nは0または1ないし4の数を表わし、mはO,Itた
    は2の数を表わすが、mが2の数を表わすとき;nは0
    の数を表わし、mが1の数を表わすときnは1または2
    の数を表わし、そしてmが0の数を表わすときnは2.
    3または4の数を表わし、 示した酸無水物のカルボニル基は芳香族環の隣接炭素原
    子に結合しており、そしてpは0,2.または4の数を
    表わすが、(n+p)の合計は4の数を表わす。)で表
    わされる有機電子受容体とからなる光架橋性組成物を画
    像形成に使用する方法。
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