JPS59211036A - 光重合可能な画像形成用組成物 - Google Patents
光重合可能な画像形成用組成物Info
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- JPS59211036A JPS59211036A JP8562583A JP8562583A JPS59211036A JP S59211036 A JPS59211036 A JP S59211036A JP 8562583 A JP8562583 A JP 8562583A JP 8562583 A JP8562583 A JP 8562583A JP S59211036 A JPS59211036 A JP S59211036A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
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- G—PHYSICS
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- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光重合可能な画像形成用組成物に関する０
従来より、高分子材料からなるバインダー、光重合性を
有するモノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤など
からなる組成物を基材面に塗布したものに、陰画等を通
して光を当て、光が当たった部分を重合ないし架橋させ
て溶剤に対し、不溶化させ、光が当たってない部分を溶
出させることにより基材上に画像を形成し５ることが知
られており、この原理は版材やプリント配線板の製造に
応用されている。
有するモノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤など
からなる組成物を基材面に塗布したものに、陰画等を通
して光を当て、光が当たった部分を重合ないし架橋させ
て溶剤に対し、不溶化させ、光が当たってない部分を溶
出させることにより基材上に画像を形成し５ることが知
られており、この原理は版材やプリント配線板の製造に
応用されている。
又、上記組成物に例えばロイコ染料等の光発色剤を加え
ておき、光が当たった部分と当たらなかった部分とを明
確に判別できる様にし、それによって多重露光等を可能
にすることも知られている。
ておき、光が当たった部分と当たらなかった部分とを明
確に判別できる様にし、それによって多重露光等を可能
にすることも知られている。
例えば、特公昭４８−３８４０３号公報により開示され
たものでは、エチレン系モノマーにイミダゾリルニを体
及びＰ−アミノフェニルケトンを加わえた組成物に、ロ
イコ染料を混合しているが、光源として一般に用いられ
る高圧水銀灯などの紫外線光源を用いて、組成物中に光
重合ないしは架橋と同時に染料の発色を行なわせる場合
は、染料の存在により、光重合ないしは架橋速度が低下
し、そのため露光時間を長くしなければならなくなる欠
点を生じる。
たものでは、エチレン系モノマーにイミダゾリルニを体
及びＰ−アミノフェニルケトンを加わえた組成物に、ロ
イコ染料を混合しているが、光源として一般に用いられ
る高圧水銀灯などの紫外線光源を用いて、組成物中に光
重合ないしは架橋と同時に染料の発色を行なわせる場合
は、染料の存在により、光重合ないしは架橋速度が低下
し、そのため露光時間を長くしなければならなくなる欠
点を生じる。
これは、光重合開始剤などに吸収される光エネルギーが
光重合ないしは架橋と、染料の発色の両方に分割して使
用されることに起因するものと推測される。
光重合ないしは架橋と、染料の発色の両方に分割して使
用されることに起因するものと推測される。
本発明は上記の如き従来の欠点を解消し、染料の発色の
ために感度が低下して露光時間が長くなることのない、
感光性が良好にして、作業性に優れ、多重露光にも適し
た画像形成用組成物を提供することを目的としてなされ
たものである０ 即ち、本発明の要旨は高分子材料からなるバインダー、
光重合性を有する七ツマ−もしくはオリゴマー、光重合
開始剤、還元型染料及び前記光重合開始剤とは異なる光
吸収波長域を有する第■ｂ族オニクム塩型光活性化剤を
含有することを特徴とする光重合可能な画像形成用組成
物に存する。
ために感度が低下して露光時間が長くなることのない、
感光性が良好にして、作業性に優れ、多重露光にも適し
た画像形成用組成物を提供することを目的としてなされ
たものである０ 即ち、本発明の要旨は高分子材料からなるバインダー、
光重合性を有する七ツマ−もしくはオリゴマー、光重合
開始剤、還元型染料及び前記光重合開始剤とは異なる光
吸収波長域を有する第■ｂ族オニクム塩型光活性化剤を
含有することを特徴とする光重合可能な画像形成用組成
物に存する。
本発明に用いられるバインダーは、高分子材料からなる
もので、従来より画像形成用組成物のバインダーとして
用いられていたものはいずれも使用可能であり、例えば
溶剤現像型では溶剤に良俗であることが重要である。具
体的には、アセチルセルロース、アセチルフチルセルロ
ース、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸、メタ
クリル酸−メタクリル酸メチル共重合体等が挙げられる
。
もので、従来より画像形成用組成物のバインダーとして
用いられていたものはいずれも使用可能であり、例えば
溶剤現像型では溶剤に良俗であることが重要である。具
体的には、アセチルセルロース、アセチルフチルセルロ
ース、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸、メタ
クリル酸−メタクリル酸メチル共重合体等が挙げられる
。
本発明に用いられる光重合性を有するモノマーもしくは
オリゴマーとは、光重合開始剤の存在下において、元の
照射により活性化され、重合を開始するものを指し、常
圧で１００℃以上の沸点を有し、エチレン系末端基を少
なくとも１個有しているものが好適に用いられる。具体
的には、ペンタエリスリトールアクリレート（クリレー
ト）トリエチレングリコールシアクリ杉 レート（又はメタクリレート）、ポリメチレンタフリレ
ート）等が、あるいはこれらが更にオリゴマー化したも
のが挙げられる。
オリゴマーとは、光重合開始剤の存在下において、元の
照射により活性化され、重合を開始するものを指し、常
圧で１００℃以上の沸点を有し、エチレン系末端基を少
なくとも１個有しているものが好適に用いられる。具体
的には、ペンタエリスリトールアクリレート（クリレー
ト）トリエチレングリコールシアクリ杉 レート（又はメタクリレート）、ポリメチレンタフリレ
ート）等が、あるいはこれらが更にオリゴマー化したも
のが挙げられる。
これらの光重合性を有するモノマーもしくは、オリゴマ
ーは、光重合によりバインダーにからみついて不溶化し
たり、感光基を有するバインダー高分子材料と重合ある
いは架橋反応することで強固な画像形成する。
ーは、光重合によりバインダーにからみついて不溶化し
たり、感光基を有するバインダー高分子材料と重合ある
いは架橋反応することで強固な画像形成する。
本発明に用いられる光重合開始剤は、従来から用いられ
る開始剤が使用できるが、内でもフェニルケトン系の光
重合開始剤が好適である。
る開始剤が使用できるが、内でもフェニルケトン系の光
重合開始剤が好適である。
光重合開始剤の具体例としては、ベンゾフェノン、（入
ｍａｘ＝３３０ｎｍ）（入ｍａｗは光吸収スペクトルの
最高ピークの波長を示す）、Ｐ、Ｐ’−ビス （ジメチ
ルアミノ）ベンゾフェノン （以下ミヒラーケトンとい
う） （入ｍａｘ−３７０ｎｍ）などのＰ−アミノフェ
ニルケトン、ベンゾイン、ベンツ゛インメチルエーテル
、ペンツインエチルエーテル、ペンツインエチルエーテ
ル、ベンツインイソプロビルエーテル、ペン５− ジルアンスラキノン、２−メチル−アンスラキノン、２
−エチル−アンスラキノン、２−ｔｅｒｔブチル−アン
スラキノン、２−アミノアンスラキノン等が挙げられ、
多くは３２０〜３７０ｎｍの波長の元エネルギーを吸収
して、重合開始剤として作用する。
ｍａｘ＝３３０ｎｍ）（入ｍａｗは光吸収スペクトルの
最高ピークの波長を示す）、Ｐ、Ｐ’−ビス （ジメチ
ルアミノ）ベンゾフェノン （以下ミヒラーケトンとい
う） （入ｍａｘ−３７０ｎｍ）などのＰ−アミノフェ
ニルケトン、ベンゾイン、ベンツ゛インメチルエーテル
、ペンツインエチルエーテル、ペンツインエチルエーテ
ル、ベンツインイソプロビルエーテル、ペン５− ジルアンスラキノン、２−メチル−アンスラキノン、２
−エチル−アンスラキノン、２−ｔｅｒｔブチル−アン
スラキノン、２−アミノアンスラキノン等が挙げられ、
多くは３２０〜３７０ｎｍの波長の元エネルギーを吸収
して、重合開始剤として作用する。
又、これらの光重合開始剤は２種以上を混合して用いる
こともでき、例えばベンゾフェノンとミヒラーケトンの
混合物は吸収する元の波長がずれており、照射光による
重合開始効率が改良されて、露光時間がよυ短縮される
ので好適である。
こともでき、例えばベンゾフェノンとミヒラーケトンの
混合物は吸収する元の波長がずれており、照射光による
重合開始効率が改良されて、露光時間がよυ短縮される
ので好適である。
次に、本発明においては、還元型染料及び第ｖｔｂ族オ
ニクム塩型元活性化剤の組合わせが、元発色剤として用
いられる。該元活性化剤は前記光重合開始剤とは異なる
光吸収波長域を有するものとなされる。
ニクム塩型元活性化剤の組合わせが、元発色剤として用
いられる。該元活性化剤は前記光重合開始剤とは異なる
光吸収波長域を有するものとなされる。
即ち、本発明における還元型染料は第ｖｔｂ族オニウム
塩型元活性化剤により酸化されて着色型となるものであ
り、具体的には、メチルカプリ６− ルプル−（無色−り、）ルエンブルー （無色−紫）、
フェニルアントラニル酸（無色→赤紫）やラクトン型又
はラクタム型のトリアリールメタン系染料あるいはラク
トン型又はラクタム型のフルオラン系染料、更に具体的
にはクリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリ
ーンラクトン、ローダミンラクタム、次の構造式■。
塩型元活性化剤により酸化されて着色型となるものであ
り、具体的には、メチルカプリ６− ルプル−（無色−り、）ルエンブルー （無色−紫）、
フェニルアントラニル酸（無色→赤紫）やラクトン型又
はラクタム型のトリアリールメタン系染料あるいはラク
トン型又はラクタム型のフルオラン系染料、更に具体的
にはクリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリ
ーンラクトン、ローダミンラクタム、次の構造式■。
■で示されるものが挙げられる。
本発明において使用される、第■ｂ族オニウム塩型光活
性化剤は、次に示す一般式の化合物を指す。
性化剤は、次に示す一般式の化合物を指す。
（式中Ｒ，，Ｒ２，Ｒ３はアリール基、■ｂは硫黄、セ
レン、テルルから選ばれる周期律表第Ｖｌ ｂ族元素、
Ｍは遷移全開、希土類元素、ランクメイド類元素、アク
チノイド類元素及びＢ、Ｐ、Ａｓ等の半金属から選ばれ
る元素、Ｘはハロゲンでありｎは１〜６の整数を示す。
レン、テルルから選ばれる周期律表第Ｖｌ ｂ族元素、
Ｍは遷移全開、希土類元素、ランクメイド類元素、アク
チノイド類元素及びＢ、Ｐ、Ａｓ等の半金属から選ばれ
る元素、Ｘはハロゲンでありｎは１〜６の整数を示す。
）
式中の錯陰イオンとしては、ＢＦ、、 ＰＦ６．ＳｂＦ
。
。
Ｆｅｅ／−、ＳｎＣ／６−、ＳｂＣ／６ミ旧Ｃ１５−、
Ａ ｔ Ｆ６−３． Ｇ ａ Ｅｔ４−などがある。
Ａ ｔ Ｆ６−３． Ｇ ａ Ｅｔ４−などがある。
これらの第■ｂ族オニワム塩元活性化剤の具体例として
は、次のものが挙げられる。即ち、トリフェニルスルホ
ニクムへキサフルオロアーセネート （入ｍａｘ＝２９
８ ｎｍ）（入ｍａｘは光吸収スペクトルの最高ピーク
の波長を示す）、トリス（４−ト）キクフェニル）スル
ホニタムへキサフルオロアーセネート（入ｍａｘ＝２８
０ｎｍ）、ジフェニル−２，５−ジメチルフェニルスル
ホニクムへキサフルオロアーセネート （入ｍａｘ＝３
０７ ｎｍ） 、）リス（４−メチルフェニル）スルホ
ニウムフルオロボーレイト（入ｍａｘ＝２７８ｎｍ）、
あるいは 等である。
は、次のものが挙げられる。即ち、トリフェニルスルホ
ニクムへキサフルオロアーセネート （入ｍａｘ＝２９
８ ｎｍ）（入ｍａｘは光吸収スペクトルの最高ピーク
の波長を示す）、トリス（４−ト）キクフェニル）スル
ホニタムへキサフルオロアーセネート（入ｍａｘ＝２８
０ｎｍ）、ジフェニル−２，５−ジメチルフェニルスル
ホニクムへキサフルオロアーセネート （入ｍａｘ＝３
０７ ｎｍ） 、）リス（４−メチルフェニル）スルホ
ニウムフルオロボーレイト（入ｍａｘ＝２７８ｎｍ）、
あるいは 等である。
これらの第■ｂ族オニクム塩は、前記した光重合開始剤
と異なる光吸収波長域を有するものが選択して使用され
るが、両者の光吸収波長域の差は一般に１吸収スペクト
ルの最高のピークを示す波長の差で約２０ｎｍ以上彦す
れる。但し、上記元活性剤及び光重合開始剤の吸収スペ
クトルのＭ焉のピークの差が１０ ｎｍでもよく、逆に
分布が共に広い場合は例えば５０ ｎｍ以上必要である
から、両者は、吸収スペクトルのピークの波長及び分布
を考慮して、前元重合開始剤−９＝ に主として吸収されて利用される波長の元が、上記元活
性化剤を活性化して酸化剤として働かせ、前記還元型染
料の発色にも利用されて組成物の重合硬化を実質的に阻
害することの彦い波長域の差があるものとなされるので
ある。
と異なる光吸収波長域を有するものが選択して使用され
るが、両者の光吸収波長域の差は一般に１吸収スペクト
ルの最高のピークを示す波長の差で約２０ｎｍ以上彦す
れる。但し、上記元活性剤及び光重合開始剤の吸収スペ
クトルのＭ焉のピークの差が１０ ｎｍでもよく、逆に
分布が共に広い場合は例えば５０ ｎｍ以上必要である
から、両者は、吸収スペクトルのピークの波長及び分布
を考慮して、前元重合開始剤−９＝ に主として吸収されて利用される波長の元が、上記元活
性化剤を活性化して酸化剤として働かせ、前記還元型染
料の発色にも利用されて組成物の重合硬化を実質的に阻
害することの彦い波長域の差があるものとなされるので
ある。
尚、上記の第■ｂ族オニウム塩の製造については、 Ｊ
、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、９１，１４５ （１９
６９年）やＪ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、、３５．Ａ８，２３
３２ （１９７０年）によって詳細に説明されている
。
、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、９１，１４５ （１９
６９年）やＪ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、、３５．Ａ８，２３
３２ （１９７０年）によって詳細に説明されている
。
本発明で用いられる第■ｂ族オニウム塩型元活性化剤は
、還元型染料に対する他の元活性化剤とは異なり、気泡
が発生したシ、室温で長期間保存した時ＫＰＭしたりす
る恐れがなく、長期の品質安定性に優れている。
、還元型染料に対する他の元活性化剤とは異なり、気泡
が発生したシ、室温で長期間保存した時ＫＰＭしたりす
る恐れがなく、長期の品質安定性に優れている。
本発明組成物を薄い銅箔を張りつけた銅張積層板等に核
層して用いるに際して、その密着性を改善するために密
着促進剤を混合してもよい。
層して用いるに際して、その密着性を改善するために密
着促進剤を混合してもよい。
又、熱重合禁止剤、可塑剤、難燃化剤等を必要に応じて
加わえることができる。
加わえることができる。
本発明組成物を得るには、上記した高分子材−１〇−
料から々るバインダー、光重合性モノマーもしくはオリ
ゴマー、光重合開始剤、還元型染料及び前記光重合開始
剤とは異なる光吸収波長域を有する第■ｂ属オニウム塩
型元活性化剤、更に必要があれば密着促進剤等を加わえ
合わせて均一４混合すれば良いのであるが、通常は合成
樹脂等の基材表面に薄膜を形成して用いられるので、メ
チルエテルケトンその他の適宜な溶剤に混合して基材等
に塗布することが可能な粘度を有し、溶剤の揮発により
乾燥させることができる液状組成物とすることが好まし
い。
ゴマー、光重合開始剤、還元型染料及び前記光重合開始
剤とは異なる光吸収波長域を有する第■ｂ属オニウム塩
型元活性化剤、更に必要があれば密着促進剤等を加わえ
合わせて均一４混合すれば良いのであるが、通常は合成
樹脂等の基材表面に薄膜を形成して用いられるので、メ
チルエテルケトンその他の適宜な溶剤に混合して基材等
に塗布することが可能な粘度を有し、溶剤の揮発により
乾燥させることができる液状組成物とすることが好まし
い。
又、上記組成物の成分の量的関係としては、高分子材料
からなるバインダー１００重量部に対し、光重合性を有
するモノマーもしくはオリゴマーが１０〜３００重菫部
、光重合開始剤が０．１〜２０重蓋部、還元性染料が０
．０１〜１０重量部、第Ｖｌｂ族オニウム塩元活性化剤
が０００１〜２重景部を用いるのがよい。
からなるバインダー１００重量部に対し、光重合性を有
するモノマーもしくはオリゴマーが１０〜３００重菫部
、光重合開始剤が０．１〜２０重蓋部、還元性染料が０
．０１〜１０重量部、第Ｖｌｂ族オニウム塩元活性化剤
が０００１〜２重景部を用いるのがよい。
本発明組成物はレリーフ印刷版の作成やフォトレジスト
の用途の用途に用いられることができ、通常は透明なノ
ート状の基材上に本発明組成物を溶剤に溶かした溶液を
塗布し、乾燥させて必要であればその上に保護膜を形成
する。
の用途の用途に用いられることができ、通常は透明なノ
ート状の基材上に本発明組成物を溶剤に溶かした溶液を
塗布し、乾燥させて必要であればその上に保護膜を形成
する。
そして、これをフォトレジスト像等の画像を形成すべき
部材、例えば薄い銅箔を張りつけた銅張積層板の表面に
対し、必要であれば保護膜を除去して、熱融着等によっ
て積層し、その上からネガフィルム等を通じて活性光を
照射して露光部分を感光させ、その後必要であれば透明
なノート状の基材を剥離し、未旙元部分を溶剤等により
除去して現像を行い、以後表面の未保換部分（溶剤によ
り本発明組成物の除去された部分）をエツチング、また
は金−メッキ処理等を行うやり方で使用される。
部材、例えば薄い銅箔を張りつけた銅張積層板の表面に
対し、必要であれば保護膜を除去して、熱融着等によっ
て積層し、その上からネガフィルム等を通じて活性光を
照射して露光部分を感光させ、その後必要であれば透明
なノート状の基材を剥離し、未旙元部分を溶剤等により
除去して現像を行い、以後表面の未保換部分（溶剤によ
り本発明組成物の除去された部分）をエツチング、また
は金−メッキ処理等を行うやり方で使用される。
そして本発明組成物は、その中に含まれる第■ｂ族オニ
クム塩型元活性化剤が還元型染料を光活性化酸化するこ
とにより、露光部分が発色するので、露光過程での露光
部分と非露光部分の判別が容易であり、多重露光する場
合や露光状態を確認する場合に非常に便利である。
クム塩型元活性化剤が還元型染料を光活性化酸化するこ
とにより、露光部分が発色するので、露光過程での露光
部分と非露光部分の判別が容易であり、多重露光する場
合や露光状態を確認する場合に非常に便利である。
更に、本発明組成物における還元型染料及び第■ｂ族オ
ニウム塩屋光活性化剤の組合わせの光発色剤は、露光後
短時間で着色像が消えたりすることなく、着色安定性に
優れ作業性が改善されるのである。
ニウム塩屋光活性化剤の組合わせの光発色剤は、露光後
短時間で着色像が消えたりすることなく、着色安定性に
優れ作業性が改善されるのである。
又、従来においてロイコ染料系の発色剤が用いられた場
合には、照射光のエネルギーが組成物の重合ないし架橋
と発色の両方に分割されるためと推測されるが、組成物
の重合硬化反応速度が低下し、よシ長時間の露光を要し
ていたのに比べて、本発明組成物においてはこの様な欠
点がなく、短時間の露光で十分であり、露光作業性にも
優れているのである。
合には、照射光のエネルギーが組成物の重合ないし架橋
と発色の両方に分割されるためと推測されるが、組成物
の重合硬化反応速度が低下し、よシ長時間の露光を要し
ていたのに比べて、本発明組成物においてはこの様な欠
点がなく、短時間の露光で十分であり、露光作業性にも
優れているのである。
〔実施例１］
ポリメチルメタクリレート（Ｈｗ 二ｚ、。ｘｔｏ’）
６０ Ｆトリメチロールプロパントリアクリレート
３３ｙベンゾフエノン
３．５ｙミヒラーケトン １
．５ｙクリスタルバイオレツト２クトン １．Ｑ
ｙトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアーセネイ
ト ０．１ｙ１３− 以上の化合物をメチルエチルケトンに溶解し、全址を３
００Ｆとした溶液をポリエチレンテレフタレートフィル
ム支持体に乾燥後の厚みが５０μｍになるように塗布し
、被膜を乾燥した後、これを１１５℃の温度で銅が被覆
されたガラス繊維強化エボキノ樹脂板に上記被膜が銅面
と接するように積層した。
６０ Ｆトリメチロールプロパントリアクリレート
３３ｙベンゾフエノン
３．５ｙミヒラーケトン １
．５ｙクリスタルバイオレツト２クトン １．Ｑ
ｙトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアーセネイ
ト ０．１ｙ１３− 以上の化合物をメチルエチルケトンに溶解し、全址を３
００Ｆとした溶液をポリエチレンテレフタレートフィル
ム支持体に乾燥後の厚みが５０μｍになるように塗布し
、被膜を乾燥した後、これを１１５℃の温度で銅が被覆
されたガラス繊維強化エボキノ樹脂板に上記被膜が銅面
と接するように積層した。
次に、上記の感光積層板を４００Ｗ高圧水銀灯から１ｍ
の所において、テスト用陰画（２Ｖ−階段露光ステップ
ガイド＝陰画が透明な状態から次第に濃くなされｆ丁ず
つ２１階段に磯くなｑ ｈ −ｃ イル＞ ＠Ｆｌｌ〔
ｌＨ’＋ｃＸ・ｉ、［９！ｉＦ−ｅＭ、’＋＝ ！ｔＬ
Ｊ及びこれと重ならない様に並べて置かれたプリント配
線回路用陰画を介して、真空枠中で９０ミリジユール（
ｍｊ）／ｃｄの露光を行った。露光時間は２０秒であっ
た０ 露光後、ポリエチレンテレフタレートフィルム支持体を
剥離し、露光層を１．１．１−ト’）クロロエタン中に
浸漬して現像しく未露光部分を除去）乾燥した。テスト
用陰画による画像にお１４− いては、９階段画像が銅が被覆されたガラス繊維強化エ
ボキ／樹脂板に残シ、又、プリント配線用画像における
解像力は５０μｍであった。
の所において、テスト用陰画（２Ｖ−階段露光ステップ
ガイド＝陰画が透明な状態から次第に濃くなされｆ丁ず
つ２１階段に磯くなｑ ｈ −ｃ イル＞ ＠Ｆｌｌ〔
ｌＨ’＋ｃＸ・ｉ、［９！ｉＦ−ｅＭ、’＋＝ ！ｔＬ
Ｊ及びこれと重ならない様に並べて置かれたプリント配
線回路用陰画を介して、真空枠中で９０ミリジユール（
ｍｊ）／ｃｄの露光を行った。露光時間は２０秒であっ
た０ 露光後、ポリエチレンテレフタレートフィルム支持体を
剥離し、露光層を１．１．１−ト’）クロロエタン中に
浸漬して現像しく未露光部分を除去）乾燥した。テスト
用陰画による画像にお１４− いては、９階段画像が銅が被覆されたガラス繊維強化エ
ボキ／樹脂板に残シ、又、プリント配線用画像における
解像力は５０μｍであった。
又、上記現像前、未露光部分は無色であり、露光部分は
明瞭に紫色に着色され、発色吸光度０．５コントラスト
が鮮明で露光検査を行うのに十分であった。更に、この
露光後−昼夜放置し、翌日現像後エツチングを行い、更
に脱膜してプリント回路を形成したが、脱膜に至る迄露
光部分は明瞭な発色が残っており、現像、エツチング、
脱膜の状態の検査を行うのに便利であった。
明瞭に紫色に着色され、発色吸光度０．５コントラスト
が鮮明で露光検査を行うのに十分であった。更に、この
露光後−昼夜放置し、翌日現像後エツチングを行い、更
に脱膜してプリント回路を形成したが、脱膜に至る迄露
光部分は明瞭な発色が残っており、現像、エツチング、
脱膜の状態の検査を行うのに便利であった。
〔実施例２〕
還元型染料としてクリスタルバイオレットラクトンの代
りにローダミンラクタム、第ｙｌｂ族オニウム塩型元活
性化剤として、トリフェニルスルホニクムへキサフルオ
ロアーセネイトの代りニ、ジフェニル２．５−シメチル
フェニルスルフオニクムヘキサフルオロアーセネイトを
用いること以外は実施例１と同様にして、テスト用陰画
、プリント配線用陰画の現像、プリント配線の形成を行
った。
りにローダミンラクタム、第ｙｌｂ族オニウム塩型元活
性化剤として、トリフェニルスルホニクムへキサフルオ
ロアーセネイトの代りニ、ジフェニル２．５−シメチル
フェニルスルフオニクムヘキサフルオロアーセネイトを
用いること以外は実施例１と同様にして、テスト用陰画
、プリント配線用陰画の現像、プリント配線の形成を行
った。
その結果は、露光部分の硬化の程度、解像力、発色の程
度がいずれも実施例１と同様であることが認められた。
度がいずれも実施例１と同様であることが認められた。
〔比較例１〜４］
下表に示される組成物を用いて、実施例１と同様に露光
、現像、プリント回路の形成を行った。
、現像、プリント回路の形成を行った。
結果は下表に示す通りであった。
犀丁斤θ
トキシフェニルイミダゾリルニ量体
注２）実施例１と同様に、テスト用陰画における画像で
光重合で残った階段数を表示 性３）比較例３．４は２００μｍより大きく解像力が悪
いことを示す
光重合で残った階段数を表示 性３）比較例３．４は２００μｍより大きく解像力が悪
いことを示す
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｌ 高分子材料からなるバインダー、光重合性を有する
モノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤、還元型染
料及び前記光重合開始剤とは異なる光吸収波長域を有す
る第１ｂ族オニクム塩型光活性化剤を含有することを特
徴とする光重合可能な画像形成用組成物 ２、第■ｂ族オニクム塩がトリアリルスルホニクム塩で
ある特許請求の範囲第１項記載の光重合可能な画像形成
用組成物
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8562583A JPS59211036A (ja) | 1983-05-16 | 1983-05-16 | 光重合可能な画像形成用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8562583A JPS59211036A (ja) | 1983-05-16 | 1983-05-16 | 光重合可能な画像形成用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59211036A true JPS59211036A (ja) | 1984-11-29 |
Family
ID=13864015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8562583A Pending JPS59211036A (ja) | 1983-05-16 | 1983-05-16 | 光重合可能な画像形成用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59211036A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63261352A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-10-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH01298348A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| EP1251400A3 (en) * | 2001-04-20 | 2005-02-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | A photopolymerizable element for use as a flexographic printing plate and a process for preparing the plate from the element |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS542720A (en) * | 1977-06-08 | 1979-01-10 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Forming method of photopolymerized image |
| JPS54147829A (en) * | 1978-05-09 | 1979-11-19 | Dynachem Corp | Carbonyl halogenide as activator of phototropism composition |
| JPS5513780A (en) * | 1978-05-09 | 1980-01-30 | Dynachem Corp | Fluoran coupler containing phototropic photosensitive composition |
-
1983
- 1983-05-16 JP JP8562583A patent/JPS59211036A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS542720A (en) * | 1977-06-08 | 1979-01-10 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Forming method of photopolymerized image |
| JPS54147829A (en) * | 1978-05-09 | 1979-11-19 | Dynachem Corp | Carbonyl halogenide as activator of phototropism composition |
| JPS5513780A (en) * | 1978-05-09 | 1980-01-30 | Dynachem Corp | Fluoran coupler containing phototropic photosensitive composition |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63261352A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-10-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH01298348A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| EP1251400A3 (en) * | 2001-04-20 | 2005-02-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | A photopolymerizable element for use as a flexographic printing plate and a process for preparing the plate from the element |
| US7754412B2 (en) | 2001-04-20 | 2010-07-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing a flexographic printing plate from a photopolymerizable element |
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