JPS59214247A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS59214247A JPS59214247A JP58087685A JP8768583A JPS59214247A JP S59214247 A JPS59214247 A JP S59214247A JP 58087685 A JP58087685 A JP 58087685A JP 8768583 A JP8768583 A JP 8768583A JP S59214247 A JPS59214247 A JP S59214247A
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- plated layer
- plating layer
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- Die Bonding (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置に関するものである。
従来、半導体装置の製造にお−・て半導体ベレットをリ
ードフレームやヘッダの如き基板上に取り付ける場合、
半田付けを用いることが提案されている。
ードフレームやヘッダの如き基板上に取り付ける場合、
半田付けを用いることが提案されている。
その場合、基板1の上に取り付けられる半導体ペレット
2の裏面には、第1図に示すように、チタン(Ti )
層3.ニッケル(Ni )層4.金(または銀)層5を
蒸着している。一方、基板1のベレット取付用のタブ6
上には、ニッケルめっき層7よりなる下地めっき層を介
して半田との濡れ性の良い銀(Ag)めっき層8を施こ
し、その上に半田箔(または半田ディスク)9を介して
前記半導体ペレット2を加熱溶着させている。
2の裏面には、第1図に示すように、チタン(Ti )
層3.ニッケル(Ni )層4.金(または銀)層5を
蒸着している。一方、基板1のベレット取付用のタブ6
上には、ニッケルめっき層7よりなる下地めっき層を介
して半田との濡れ性の良い銀(Ag)めっき層8を施こ
し、その上に半田箔(または半田ディスク)9を介して
前記半導体ペレット2を加熱溶着させている。
しかしながら、この従来構造においては、タブ6上に高
価な銀めっき層8を形成しているので、ペレット付けに
要するコストが非常に高くつくという重大な欠点がある
。
価な銀めっき層8を形成しているので、ペレット付けに
要するコストが非常に高くつくという重大な欠点がある
。
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を解消し、低コス
トでペレット付けでき、しかもペレット付は性能も良好
な半導体装置を提供することにある。
トでペレット付けでき、しかもペレット付は性能も良好
な半導体装置を提供することにある。
この目的を達成するため、本発明による半導体装置は、
基板のベレット取付部上に下地めっき層を介して錫めっ
き層を形成したことを特徴とする。
基板のベレット取付部上に下地めっき層を介して錫めっ
き層を形成したことを特徴とする。
以下、本発明を図面に示す実施例にしたがって詳細に説
明する。
明する。
第2図は本発明による半導体装置の一資施例を示すベレ
ット取付部の部分断面図である。
ット取付部の部分断面図である。
本実施例において、銅系または鉄系の金属のリードフレ
ーム11よりなる基板上に取り付けられる半導体ペレッ
ト12はシリコン(8i ) テ形t。
ーム11よりなる基板上に取り付けられる半導体ペレッ
ト12はシリコン(8i ) テ形t。
されている。この半導体ペレット12の裏面(ボンディ
ング面)側には、シリコンとの接着性の良いチタン層1
3.ニッケル層14.および金(または銀)層15の各
蒸着層が順次裏面処理層として形成されている。
ング面)側には、シリコンとの接着性の良いチタン層1
3.ニッケル層14.および金(または銀)層15の各
蒸着層が順次裏面処理層として形成されている。
また、前記リードフレーム11のペレット取付部である
タブ16の上には、該リードフレーム11の銅材料等の
ペレット方向への拡散を防止するためのニッケルめっき
層17が下地めっき層として施こされている。このニッ
ケルめっき層17の上には、半田との濡れ性の良い錫(
Sn)層18が形成されている。
タブ16の上には、該リードフレーム11の銅材料等の
ペレット方向への拡散を防止するためのニッケルめっき
層17が下地めっき層として施こされている。このニッ
ケルめっき層17の上には、半田との濡れ性の良い錫(
Sn)層18が形成されている。
したがって、本実施例における半導体装置を製造する場
合、まず、リードフレーム11のタブ16上にニッケル
めっき層17を施こし、またそのニッケルめっき層17
の上に錫めっき層18を形成する。一方、半導体ベレッ
ト12の裏面側には、チタン層13.ニッケル層14.
および金(または銀)層15を順次形成しておくう その後、リードフレーム11を図示しないヒートブロッ
クの上に載せ、かつ前記錫めっき層18の上に半田箔(
または半田ディスク)19を置いた状態で窒素ガスの如
き不活性ガス雰囲気中において加熱を行うと、半田箔1
9が溶融され、錫めっき層18と共に溶融合金層を形成
する。
合、まず、リードフレーム11のタブ16上にニッケル
めっき層17を施こし、またそのニッケルめっき層17
の上に錫めっき層18を形成する。一方、半導体ベレッ
ト12の裏面側には、チタン層13.ニッケル層14.
および金(または銀)層15を順次形成しておくう その後、リードフレーム11を図示しないヒートブロッ
クの上に載せ、かつ前記錫めっき層18の上に半田箔(
または半田ディスク)19を置いた状態で窒素ガスの如
き不活性ガス雰囲気中において加熱を行うと、半田箔1
9が溶融され、錫めっき層18と共に溶融合金層を形成
する。
したがって、この溶融合金層上に前記裏面処理済みの半
導体ベレット12を載せてスクラブ運動させると、半導
体ベレット12の金(または銀)層15は前記溶融合金
層と融合して一体化し、その後に再び冷却固化すること
により、半導体ベレット12はタブ16上に確実に半田
付けによって固着される。
導体ベレット12を載せてスクラブ運動させると、半導
体ベレット12の金(または銀)層15は前記溶融合金
層と融合して一体化し、その後に再び冷却固化すること
により、半導体ベレット12はタブ16上に確実に半田
付けによって固着される。
ペレット付けの終了後、半導体ベレット12の電極部と
リードフレーム11のインナーリード部とをワイヤ20
(第3図)で結線する。その後、リードフレーム11の
ペレット取付領域をレジン21によりモールド封止する
と、第3図に示す如き半導体装置を得ることができる。
リードフレーム11のインナーリード部とをワイヤ20
(第3図)で結線する。その後、リードフレーム11の
ペレット取付領域をレジン21によりモールド封止する
と、第3図に示す如き半導体装置を得ることができる。
本実施例においては、リードフレーム11のタブ16上
に銀や金のように高価な貴金属ではなくて、安価な錫を
用いるので、ペレット付けのコストを著しく低減させる
ことができ、しかもペレット付けの信頼性を低下させる
こともない。また、錫めっき層18は酸化を生じにくい
上に、薄い層として形成することができる等の利点もあ
る。
に銀や金のように高価な貴金属ではなくて、安価な錫を
用いるので、ペレット付けのコストを著しく低減させる
ことができ、しかもペレット付けの信頼性を低下させる
こともない。また、錫めっき層18は酸化を生じにくい
上に、薄い層として形成することができる等の利点もあ
る。
以上説明したように、本発明によれば、低コストで、信
頼性の高いペレット付けを行うことができる。
頼性の高いペレット付けを行うことができる。
第1図は従来技術を示す部分的分解断面図、第2図は本
発明の半導体装置のペレット取付構造の一例を示す部分
的分解断面図、第3図は本発明による半導体装置の一実
施例を示す断面図である。 11・・・リードフレーム、12・・・半導体ベレット
、13・・・チタン層、14・・・ニッケル層、15・
・・金(または銀)層、16・・・タブ、17・・・ニ
ッケルめっき層、18・・・錫めっき層、19・・・半
田箔(または半田ディスク、2o・・・ワイヤ、21・
・・レジン。 代理人 弁理士 高 橋 明 夫 と二)第 1
図 / 第 2 図 第 3 図 ″ /2
発明の半導体装置のペレット取付構造の一例を示す部分
的分解断面図、第3図は本発明による半導体装置の一実
施例を示す断面図である。 11・・・リードフレーム、12・・・半導体ベレット
、13・・・チタン層、14・・・ニッケル層、15・
・・金(または銀)層、16・・・タブ、17・・・ニ
ッケルめっき層、18・・・錫めっき層、19・・・半
田箔(または半田ディスク、2o・・・ワイヤ、21・
・・レジン。 代理人 弁理士 高 橋 明 夫 と二)第 1
図 / 第 2 図 第 3 図 ″ /2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板のベレット取付部上に下地めっき層を介して錫
めっき層を形成した半導体装置。 2、前記下地めっき層がニッケルめっき層であることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58087685A JPS59214247A (ja) | 1983-05-20 | 1983-05-20 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58087685A JPS59214247A (ja) | 1983-05-20 | 1983-05-20 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59214247A true JPS59214247A (ja) | 1984-12-04 |
Family
ID=13921780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58087685A Pending JPS59214247A (ja) | 1983-05-20 | 1983-05-20 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59214247A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2992553A4 (en) * | 2013-05-03 | 2017-03-08 | Honeywell International Inc. | Lead frame construct for lead-free solder connections |
-
1983
- 1983-05-20 JP JP58087685A patent/JPS59214247A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2992553A4 (en) * | 2013-05-03 | 2017-03-08 | Honeywell International Inc. | Lead frame construct for lead-free solder connections |
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