JPS59219241A - 芳香族化合物のオキシヨウ素化法 - Google Patents
芳香族化合物のオキシヨウ素化法Info
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- JPS59219241A JPS59219241A JP58094098A JP9409883A JPS59219241A JP S59219241 A JPS59219241 A JP S59219241A JP 58094098 A JP58094098 A JP 58094098A JP 9409883 A JP9409883 A JP 9409883A JP S59219241 A JPS59219241 A JP S59219241A
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- benzene
- reaction
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- oxyiodination
- monoiodobenzene
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明ハ、ベンゼン、モノヨードベンゼン又はその両者
をオキシヨウ素化法に関するものである。
をオキシヨウ素化法に関するものである。
さらに詳しくは、ベンゼン、モノヨードベンゼン又はそ
の両者を、ヨウ素、ヨウ化水素又はその両者と酸素を用
いてオキシヨウ素化する際に、触媒として、シリカ/ア
ルミナ比が10以上で、カチオンとしてプロトン、Ib
族、yb族、■b111c。
の両者を、ヨウ素、ヨウ化水素又はその両者と酸素を用
いてオキシヨウ素化する際に、触媒として、シリカ/ア
ルミナ比が10以上で、カチオンとしてプロトン、Ib
族、yb族、■b111c。
■族の金属イオンの少くとも一種を含む結晶性アルミノ
クリケートを用いる小を特徴とするベンゼン、モノヨー
ドベンゼン又はその両者のオキシヨウ素化法に関するも
のである。
クリケートを用いる小を特徴とするベンゼン、モノヨー
ドベンゼン又はその両者のオキシヨウ素化法に関するも
のである。
ヨードベンゼン類は、各種アミン類の中間原料として有
用なものであシ、特に、ノぞ2シヨートベンゼンは、ア
ラミド系繊維の原料である。eラフエニレンジアミンの
中間原料として有用なものである。
用なものであシ、特に、ノぞ2シヨートベンゼンは、ア
ラミド系繊維の原料である。eラフエニレンジアミンの
中間原料として有用なものである。
この/ぞラジョードベンゼンは、現在、ベンゼン又はヨ
ードベンゼンを、酸触媒の存在下、液相でヨワ素化する
事によって製造されている。しかしながらこの方法では
、ショートベンゼン中のノソラ体の割合は、80〜90
%であシ、必ずオルソ体が混入するとい9欠点と、反応
によって原料のヨウ素の半分がヨウ化水素になるため、
ヨウ素基準で50%でしかショートベンゼンが得られな
いという欠点がおった。又、ベンゼン又はヨードベンゼ
ンを液相において、酸触媒と酸化融媒を用いて、ヨウ素
と酸素から酸化的に・ショートベンゼンにする方法4提
案されているがこの方法もノξう体の割合は80〜90
%で、オルソ体の混入という欠点を有している。
ードベンゼンを、酸触媒の存在下、液相でヨワ素化する
事によって製造されている。しかしながらこの方法では
、ショートベンゼン中のノソラ体の割合は、80〜90
%であシ、必ずオルソ体が混入するとい9欠点と、反応
によって原料のヨウ素の半分がヨウ化水素になるため、
ヨウ素基準で50%でしかショートベンゼンが得られな
いという欠点がおった。又、ベンゼン又はヨードベンゼ
ンを液相において、酸触媒と酸化融媒を用いて、ヨウ素
と酸素から酸化的に・ショートベンゼンにする方法4提
案されているがこの方法もノξう体の割合は80〜90
%で、オルソ体の混入という欠点を有している。
そこで、本発明者らは、これらの問題を解決すべく鋭意
検討を重ねた結果、シリカ/アルミナ比が10以上で、
カチオンとして、プロトン、Ib族、■b族、■b族、
■b族、■族の金属イオンの少くとも一種を含む結晶性
アルミノシリケートを触媒として用いる場合にノクラジ
ョードベンー1シンが高収率で得られる事を見い出し本
発明を完成するに至った。
検討を重ねた結果、シリカ/アルミナ比が10以上で、
カチオンとして、プロトン、Ib族、■b族、■b族、
■b族、■族の金属イオンの少くとも一種を含む結晶性
アルミノシリケートを触媒として用いる場合にノクラジ
ョードベンー1シンが高収率で得られる事を見い出し本
発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、ベンゼン、モノヨードベンゼン又
はその両者をヨウ素、ヨウ化水素又はその両者と酸素を
用いてオキンヨウ素化する際に、触媒としてシリカ/ア
ルミナ比が10以上で、カチオンとしてプロトン、Ib
族、■b族、Vlb族、■b族、■族の金属イオンの少
くとも一種を含む結晶性アルミ/シリケートを用いる事
を特徴とするベンゼン、モノヨードベンゼン又はその両
者のオキシヨウ素化法である。
はその両者をヨウ素、ヨウ化水素又はその両者と酸素を
用いてオキンヨウ素化する際に、触媒としてシリカ/ア
ルミナ比が10以上で、カチオンとしてプロトン、Ib
族、■b族、Vlb族、■b族、■族の金属イオンの少
くとも一種を含む結晶性アルミ/シリケートを用いる事
を特徴とするベンゼン、モノヨードベンゼン又はその両
者のオキシヨウ素化法である。
本発明の特徴は、ショートベンゼン中の・ぞう体の割合
が、98%以上と非常に高い事である。この事は、本発
明に用いる結晶性アルミノシIJケートがパラショート
ベンゼンに文tしてIト常に筒いノ杉状選択性を有する
ためと考えられる。
が、98%以上と非常に高い事である。この事は、本発
明に用いる結晶性アルミノシIJケートがパラショート
ベンゼンに文tしてIト常に筒いノ杉状選択性を有する
ためと考えられる。
本発明に用いられる71ツ力/アルミナ比力E10以上
の結晶性アルミノシ1)ケートとは、X線回折図におい
て、表1の回折、Rターンを有″j−るAZ−1と呼ば
れるゼオライト(%許出願昭57−228283参照)
モーピルオイル社の開発したZ8M−s(08Pこれら
の中でも特KAZ−1、Z8M−5、Z8M−11力五
好ましい。これらの結晶性アルミノ71)ケートはゾロ
トン、Ib族、yb族、■b族、■b族、■族の金属イ
オンの少くとも一種のカチオンでイオン交換し7て触媒
として用いらiする。これらカチオンの具体例としては
、プロトン又は、Ou + Ag + vt ”Re
、Fe 、Co 、Ni 、Ru 、Rh 、Pd 、
Os 、 Ir 、Pt等の金属イオンがあげられる。
の結晶性アルミノシ1)ケートとは、X線回折図におい
て、表1の回折、Rターンを有″j−るAZ−1と呼ば
れるゼオライト(%許出願昭57−228283参照)
モーピルオイル社の開発したZ8M−s(08Pこれら
の中でも特KAZ−1、Z8M−5、Z8M−11力五
好ましい。これらの結晶性アルミノ71)ケートはゾロ
トン、Ib族、yb族、■b族、■b族、■族の金属イ
オンの少くとも一種のカチオンでイオン交換し7て触媒
として用いらiする。これらカチオンの具体例としては
、プロトン又は、Ou + Ag + vt ”Re
、Fe 、Co 、Ni 、Ru 、Rh 、Pd 、
Os 、 Ir 、Pt等の金属イオンがあげられる。
特にOuイオンを含む触媒が好ましい。またこれらのカ
チオンは結晶性アルミノシリケートのイオン交換容量の
1〜100%、好ましくは10〜100%の範囲で含ま
れる。
チオンは結晶性アルミノシリケートのイオン交換容量の
1〜100%、好ましくは10〜100%の範囲で含ま
れる。
本発明におけるヨウ素化剤としてはヨウ素、ヨウ化水素
が用いられる。
が用いられる。
本発明における原料のベンゼン類/h又はHlのモル比
は、0.01〜50の範囲、好ま1− <は0.1〜1
0の範囲で行なわれる。、また酸素は、ベンゼン類の爆
発範囲に応じて安全な濃度が選ばれる。これらの原料ガ
スは、そのまま導入しても、不活性ガスで希釈導入し7
てもよい。
は、0.01〜50の範囲、好ま1− <は0.1〜1
0の範囲で行なわれる。、また酸素は、ベンゼン類の爆
発範囲に応じて安全な濃度が選ばれる。これらの原料ガ
スは、そのまま導入しても、不活性ガスで希釈導入し7
てもよい。
本発明における反応温度は、一般的に200〜400℃
、好ましくは200〜300℃の温度範囲で行なわれる
。
、好ましくは200〜300℃の温度範囲で行なわれる
。
本発明は、常圧または加圧で行なわれ、反応方式は固定
床、流動床等を用いた流通反応方式が好ましい。
床、流動床等を用いた流通反応方式が好ましい。
次に、本発明を実施例を用いて説明する。
実施例1
シリカゲル(30wt%8i02)、硫酸アルミニウム
(A/ 鵞(80a )s ・18 H2O) * N
a OH* 1 v 8−ジアミノー4−アミノメチ
ルオクタン及び水から特許出願昭57−228283号
の実施例に従ってゼオライ) AZ−1を合成した。得
られたAZ−1のシリカ/アルミナ比は50であった。
(A/ 鵞(80a )s ・18 H2O) * N
a OH* 1 v 8−ジアミノー4−アミノメチ
ルオクタン及び水から特許出願昭57−228283号
の実施例に従ってゼオライ) AZ−1を合成した。得
られたAZ−1のシリカ/アルミナ比は50であった。
このAZ−1を10wt%0uO1z水溶液中で、60
′c。
′c。
24時間イオン交換を行β、ベンゼンのオキシヨウ素化
反応の触媒に用いた。
反応の触媒に用いた。
反応条件は、1. : 0@H6:0.= 1 : 8
: 0.5 、5V=2000 hr−”、反応温度
: 250tl:、常圧固定床流通反応で行った。
: 0.5 、5V=2000 hr−”、反応温度
: 250tl:、常圧固定床流通反応で行った。
反工6開始後2〜3時間の成績は、ベンゼン転化率=t
S%、ヨウ素化ぺ/ゼン選択率=96%、ヨウ素化ベン
ゼン中の生成物の分布は次の通シであった。
S%、ヨウ素化ぺ/ゼン選択率=96%、ヨウ素化ベン
ゼン中の生成物の分布は次の通シであった。
実施例2
実施例1と同じ触媒を用いて、モノヨード4ンゼンのオ
キシヨウ素化反応を行った。
キシヨウ素化反応を行った。
反応条件は、I、 : 0@H5L : O,=1 :
4 : 0.6.8v= 5000 hr ’、反応
温度=280℃、常圧固定床流通反応で行った。
4 : 0.6.8v= 5000 hr ’、反応
温度=280℃、常圧固定床流通反応で行った。
反応開始後3〜4時間の成績は、モノヨードベンゼン転
化率=45%、ジョーPベンゼン選択率=95%、ショ
ートベンゼン中のAう体の割合=100%であった。
化率=45%、ジョーPベンゼン選択率=95%、ショ
ートベンゼン中のAう体の割合=100%であった。
比較例
Y型ゼオライトを10wt%0uO42水溶液中で60
℃、30時間イオン交換してモノヨードベンゼンのオキ
シヨウ素化を、実施例2と同じ条件で行った。
℃、30時間イオン交換してモノヨードベンゼンのオキ
シヨウ素化を、実施例2と同じ条件で行った。
反応開始後3〜4時間の成績は、モノヨードベンゼン転
化率=40%、ショートベンゼン選択率=90%、ショ
ートベンゼン中のノe2体の割合90%、オルソ体の割
合10%であった。
化率=40%、ショートベンゼン選択率=90%、ショ
ートベンゼン中のノe2体の割合90%、オルソ体の割
合10%であった。
実施例3
Qbrandケイ酸塩水溶液(Na20 : 8.9w
t%、Sing:28.9wt%)、硫酸アルミニウム
(Alt (80<)s ’18H10)、 f ド
ラフロビルアンモニウムブロマイド及び水から、USP
3702886号に従ツーCZSM−5を合成した。
t%、Sing:28.9wt%)、硫酸アルミニウム
(Alt (80<)s ’18H10)、 f ド
ラフロビルアンモニウムブロマイド及び水から、USP
3702886号に従ツーCZSM−5を合成した。
得られた78M−5のシリカ/アルミナ比は45であっ
た。
た。
この78M−5を、20 wt % 0u014水溶液
中で室温で24時間イオン交換してモノヨード(ンゼン
のオキシヨウ素化反応の触媒として用いた。
中で室温で24時間イオン交換してモノヨード(ンゼン
のオキシヨウ素化反応の触媒として用いた。
反応条件は、ItIt: UsHsl : 馬=1 :
1 : 1.8v=3000 hr−”、反応温度=
260℃、常圧固定床流通反応で行った。
1 : 1.8v=3000 hr−”、反応温度=
260℃、常圧固定床流通反応で行った。
反応開始後% 4〜5時間の成績は、モノヨードベンセ
ン転化率=4g%、ショートベンゼン選択率=95%、
ショートベンゼン中の)eう体の割合=98%であった
。
ン転化率=4g%、ショートベンゼン選択率=95%、
ショートベンゼン中の)eう体の割合=98%であった
。
実施例4
シ17カゲk (30wi 9/、 8i02)、硫酸
アルミニウム(A/鵞(80a)s ・18 HtO)
、Na0Hs オクタメチレンdアミン及び水から特
開昭54−52699号の実施例に従いZSM−11を
合成した。得られたZSM−11のシリカ/アルミナ比
は30であった。
アルミニウム(A/鵞(80a)s ・18 HtO)
、Na0Hs オクタメチレンdアミン及び水から特
開昭54−52699号の実施例に従いZSM−11を
合成した。得られたZSM−11のシリカ/アルミナ比
は30であった。
この78M−11を、20wt%0uOj’2水溶液中
で60℃、24時間イオン交換してベンゼンのオキシヨ
ウ素化反応の触媒として用いた。
で60℃、24時間イオン交換してベンゼンのオキシヨ
ウ素化反応の触媒として用いた。
反応条件は、I!: (3,H@:O,=1 : 4
: 0.5、8v=3000 hr−’、反応温度:2
30℃、常圧固定床流通反応で行った。
: 0.5、8v=3000 hr−’、反応温度:2
30℃、常圧固定床流通反応で行った。
反応開始後、2〜3時間の成績は、ベンゼン転化率=3
0%、ヨウ素化ベンゼン選択率=95%、ヨウ素化ベン
ゼン中の生成物の分布は次の通シであった。
0%、ヨウ素化ベンゼン選択率=95%、ヨウ素化ベン
ゼン中の生成物の分布は次の通シであった。
実施例5
シリカゲル(aowt%8i0i)、硫酸アルミニウム
(Alz (SO4)3・18 H2O)、NaOH1
1,8−、,77ミ/−4−アミノメチルオクタン及び
水から特許出願昭57−228283号の実施例に従っ
てゼオライ) AZ−1を合成した。得られたAZ−1
のシリカ/アルミナ比は60であった。
(Alz (SO4)3・18 H2O)、NaOH1
1,8−、,77ミ/−4−アミノメチルオクタン及び
水から特許出願昭57−228283号の実施例に従っ
てゼオライ) AZ−1を合成した。得られたAZ−1
のシリカ/アルミナ比は60であった。
このAZ−1を10wt%NH4cl水溶液中で、60
℃、24時間イオン交換して濾過、洗浄後400’C8
時間空気焼成して、プロトン型のAZ−1を得た。
℃、24時間イオン交換して濾過、洗浄後400’C8
時間空気焼成して、プロトン型のAZ−1を得た。
これを触媒に用いて4ンゼンのオキシヨウ素化反応を行
った。
った。
反応条件は、実施何重と同じで行った。
反応開始後2〜3時間の成績はベンセン転化率=10%
、ヨウ素化ベンゼン選ツ〈率=96%、ヨウ素化ベンゼ
ン中の生成物の分布は次の辿シであった。
、ヨウ素化ベンゼン選ツ〈率=96%、ヨウ素化ベンゼ
ン中の生成物の分布は次の辿シであった。
実施例6
実施例1で得られたAZ−1を各種金属カチオンで交換
シてモノヨードベンゼンのオキシヨウ素化反応を行った
。
シてモノヨードベンゼンのオキシヨウ素化反応を行った
。
反応条件は、実施例2と同じである。
反応開始後、3〜4時間の成績を次の表に示す。
、手続補正書(自発)
昭和59年4月70日
特許庁長官 若 杉 和 夫 殿
1、事件の表示 昭和58年特許願第 94098
号a 発明の名称 芳香族化合物のオキシヨウ素化法 a 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区堂島浜1丁目2番6号4、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄 & 補正の内容 別紙の通り 特許請求の範囲 (1) ベンゼン、モノヨードベンゼン又はその両者
ヲヨウ素、ヨウ化水素又はその両者と酸素を用いてオキ
シヨウ素化する際に、触媒としてシリカ/アルミナ比が
10以上でカチオンとして、プロトン、lb族、vb族
、■b族、■b族、■族の金属イオンの少くとも一種を
含む結晶性アルミノシリケートを用いる事を特徴とする
ベンゼン、モノヨードヘンセン又はその両者のオキシヨ
ウ素化法(2)前記結晶性アルミノシリケートがX線回
折図において1表1の回折パターンを有する事’c %
徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法 ただし、X線回折分析に用いるX線はCu Kα線であ
る。
号a 発明の名称 芳香族化合物のオキシヨウ素化法 a 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区堂島浜1丁目2番6号4、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄 & 補正の内容 別紙の通り 特許請求の範囲 (1) ベンゼン、モノヨードベンゼン又はその両者
ヲヨウ素、ヨウ化水素又はその両者と酸素を用いてオキ
シヨウ素化する際に、触媒としてシリカ/アルミナ比が
10以上でカチオンとして、プロトン、lb族、vb族
、■b族、■b族、■族の金属イオンの少くとも一種を
含む結晶性アルミノシリケートを用いる事を特徴とする
ベンゼン、モノヨードヘンセン又はその両者のオキシヨ
ウ素化法(2)前記結晶性アルミノシリケートがX線回
折図において1表1の回折パターンを有する事’c %
徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法 ただし、X線回折分析に用いるX線はCu Kα線であ
る。
(3)前記結晶性アルミノシリケートが、Z8M−sZ
SN−11である事を特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の方法
SN−11である事を特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の方法
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (i)!、”kンゼン、モノヨードベンゼン又はその両
者をヨウ素、ヨウ化水素又はその両者と酸素を用いてオ
キシヨウ素化する際に、触媒としてシリカ/アルミナ比
が10以上でカチオンとして、プロトン、′Ib族、y
b族、■b族、■b族、■族の金属イオンの少くとも一
種を含む結晶性アルミノシリケートを用いる事を特徴と
するベンゼン、モノヨードベンゼン又はその両者のオキ
7ヨウ素化法(2) 前記結晶性アルミノシリケート
がX線回折図において、表1の回折/(’ターンを有す
る事を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法以下
余白 ただし、X線回折分析に用いるX線はOu Ka線でお
る。 (3) 前記結晶性アルミノシリケートが、Z8M−
5Z8N−11である事を特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58094098A JPS59219241A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 芳香族化合物のオキシヨウ素化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58094098A JPS59219241A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 芳香族化合物のオキシヨウ素化法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59219241A true JPS59219241A (ja) | 1984-12-10 |
Family
ID=14100967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58094098A Pending JPS59219241A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | 芳香族化合物のオキシヨウ素化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59219241A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6191142A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-09 | モンテデイペ・ソチエタ・ペル・アツイオニ | ヨードベンゼンの合成方法 |
| JPS61106527A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-24 | モンテデイペ・ソチエタ・ペル・アツイオニ | ヨードベンゼンの合成方法 |
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| US4788355A (en) * | 1987-10-16 | 1988-11-29 | Eastman Kodak Company | Oxyiodination catalyst |
| US4788356A (en) * | 1987-10-16 | 1988-11-29 | Eastman Kodak Company | Novel method for oxyiodination product partial purification |
| US4810826A (en) * | 1988-03-17 | 1989-03-07 | Eastman Kodak Company | Liquid-phase process for the oxyiodination of naphthalene |
| WO2004069772A1 (ja) * | 2003-02-10 | 2004-08-19 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | ヨウ素化合物の製造方法および高純度5-ヨード-2-メチル安息香酸の製造方法 |
| WO2005003073A1 (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 5-ヨード-2-メチル安息香酸の製造方法 |
| WO2008082082A1 (en) | 2006-12-29 | 2008-07-10 | Sk Chemicals Co., Ltd. | Method of preparing mono-iodo benzene through transiodination |
| WO2010077026A2 (ko) | 2008-12-31 | 2010-07-08 | 에스케이케미칼주식회사 | 양이온 교환 제올라이트 촉매 및 이를 이용한 트랜스 요오드화 반응을 통한 모노-요오드 벤젠의 제조 방법 |
-
1983
- 1983-05-30 JP JP58094098A patent/JPS59219241A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS61106527A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-24 | モンテデイペ・ソチエタ・ペル・アツイオニ | ヨードベンゼンの合成方法 |
| EP0183579A1 (en) * | 1984-10-16 | 1986-06-04 | MONTEDIPE S.r.l. | Method for the synthesis of iodobenzene |
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