JPS59227108A

JPS59227108A - 磁気記録用媒体

Info

Publication number: JPS59227108A
Application number: JP58100836A
Authority: JP
Inventors: Masahiko Naoe; 直江　正彦; Hajime Shinohara; 篠原　肇
Original assignee: Hitachi Metals Ltd
Current assignee: Proterial Ltd
Priority date: 1983-06-08
Filing date: 1983-06-08
Publication date: 1984-12-20

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は磁気記録用媒体に関するものであり、特に磁性
薄膜からなる磁気記録用媒体に係るものである。

最近の磁気記録技術においては、記録密度のより一層の
高密度化が強く要求されている。高密度記録を達成する
ために、記録用媒体には、■磁性膜がきわめて薄くでき
ること、■磁気特性が優れること、特に保磁力Ｈａが大
きいこと、■化学的あるいは熱的に安定であること、な
どの特性が要求される。

従来、このような要求に対応する材料として１１−、Ｆ
ｅ２Ｏ２あるいは０ｏ−７Ｆｅ、０３などの鉄酸化物材
料が用いられてきた。しかし、従来の成膜技術では、こ
れら材料を用いた膜の厚さおよびＨａの値には限界があ
った。

近年かかる問題点を改善するものとして、全組薄膜によ
る記録用媒体が開発研究されており、面内磁気記録用媒
体としてＣｏ−Ｐ合金薄膜が、また、垂直磁気記録用媒
体としてＯｏ　−Ｏｒ合金薄膜が検討されてきている。

しかし、これら公知の金属薄膜材料は、その製造方法が
複雑であり高品質のものが得にくいこと、その特性が必
ずしも満足するものではないこと、などの問題点がある
。

例えば、０ｏ−ｏｒ合金薄膜ではキュリ一温度が低いこ
と、薄膜の結晶組織を詳細に検討すると必ずしも均一な
組成とならず組成の一部が析出していること、そしてこ
れがノイズの原因となること、および薄膜に亀裂が生じ
易く不安定であること等の問題がある。

これら合金薄膜の問題点を解決したものとして為昭和５
７年秋の応用磁気学会で提案されたｐｔ　−００合金薄
膜がある。このＰｔ−０ｏ磁性簿膜はキュリ一温度が高
いため熱安定性が良く、また酬化し難く化学的な安定性
も良く、さらには保磁力’Ｈａも比較的大きい、などの
優れた特長がある。

しかし）現在１当該技術分野で要求されている程度の高
密度記録を達成するためには、上記従来のＰｔ−０ｅ合
金薄膜の保磁力Ｈａの大きさの程度では必ずしも満足で
きるものではない。

本発明は・上記従来技術の問題点を見直し、より高密度
記録に適した特性を有する新規な構成の磁気記録用媒体
を提供することを目的とするものである。

上記目的を達成するために、本発明は、原子比で、ｐｔ
４〜１５％、　Ｏｏ　７７．０〜９５．５　％、　Ｓｍ
０．５〜８％からなる組成の合金薄膜を磁気記録用媒体
として実現したことを特徴とするものである。

すなわち、本発明社、公知のＰｔ−０ｅ系合金薄膜にお
いて、Ｓｍを所定量添加することにより１従来技術から
は予測できない程度のＨＯの大幅な改良をしたことを特
長とするものであるＯ以下、本発明を、比較例および実
施例に基づいて詳細に説明する。

比較例原子比でＰｔ　９％、０ｅ９１％の組成のターゲット材
料を使用し、Ａｒ分圧２）ｍＴＯｒｒ、基板温度２９０
°Ｃの作成条件で、スパッター法によりｐｔ　−００合
金薄膜を作成した。得られた膜厚は３０００λであった
。この薄膜の組成分析をした結果、原子比でｐｔ　９．
３　　％、００９０．７　　％であった。

また１その保磁力Ｈａは５１０　０ｓ　　、４＋ｒＭＳ
Ｏ値は葛、ＩＫＧ　であった。

実施例原子比で、ｐｔ　ｅ％、００９１％である比較例と同じ
組成比の０ｏ−Ｐｔ合金に権々の垣のＳｍを加えたター
ゲット材料を用いて、スパッター法によりａｏ　−Ｐｔ
−８ｍ合金薄膜を製造した。製造条件状上記比較例と同
じである。得られた合金薄膜の膜厚は約３００ＯＡであ
った。また、磁気特性を測定した結果１その保磁力Ｈａ
は、５１１１を０．５−含むとＨａ　５４０　０＠　　
、１．０　　％で５６０　０ｍ。

３．０　　％で５７００ｅ　、　５．０　％で５６０　
ｏｓ　。

８．０　　％で５５０　０ｓとなり辺、０　％含むとＨ
ａは２３０　　Ｃ１と急激に低下することがわかった。

したがって、Ｓｍの含有量は０．５〜８％の範囲とする
ことが好ましい。

実施例２実施例１と同様の製造条件として、５ｆｆＩを３ｙｉ。

千襲一定としてｐｔおよび００の比を変化させたターゲ
ット材料を用い、スパッター法により合金薄膜を作成し
てその特性を測定した。その結果、ｐｔの含有量が、原
子比で、３％でＨａ　２７０　０ｓ。

４％で４１００ｓ、　５％で５０５０ｅであり、また、
重量比で９．３　　％で５５Ｑ　ｏｅ　　、　Ｌ２％で
１２６００ｓ、１５％で１５５００ｅとなった。

以上の結果からＰｔ−００％膜にＳｍを添加することに
より、保磁力Ｈａは大幅に改善されその含有量は０．５
　原子％から８原子％が最もよく、また〜このＥ１ｍ含
有量の範囲では、ｐｔ含有量が４原子％から認原子％の
範囲で特に良い特性を示すことがわかった。

以上述べたことから明らかなように、本発明の効果は、
原子比で、Ｐｔ　４〜１５％ｓ　００７７．０〜％、５
％、Ｓｍ０．５〜８％の組成範囲が最も良い特性を示す
。さらにこの物質は化学的にも安定していることが確認
された。

代理人　弁理士　本　　間　　　　崇

Claims

【特許請求の範囲】１、原子比で、Ｐｔ４〜１５％、　Ｏｏ　７７、Ｏ〜９
５．５％、　Ｓｍ　０．５〜８％からなることを特徴と
する磁気記録用媒体。２、特許請求の範囲第１項記載のものにおいて１上記媒
体が対向スパッター法を用いて作製された薄膜状である
ことを特徴とする磁気記録用媒体。３、特許請求の範囲第２項記載のものにおいて、上記ス
パッター法を実施するに際し、原子比で、Ｐｔ４〜１５
％、　Ｏｏ　７７、Ｏ〜９＋、　５　　％、ａｍ　Ｑ。５〜８％の組゛成からなるターゲット材料を用いたこと
を特徴とする磁気記録用媒体。