JPS5924146B2 - ４−ベンゾイルピラゾ−ル誘導体の製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 （式中、Ｒ１は低級アルキル基、低級アルケニル基また
は低級アルコキシカルボニルメチル基を示し、Ｒ２は低
級アルキル基を示し、Ｘはハロゲン原子またはニトロ基
を示し、ｎは１ないし３の整数を示す。

）を有する４−ベンゾイル−５−ヒドロキシピラゾール
誘導体の製法に関するものである。本発明の方法によつ
て得られる前記一般式（１）で示される化合物は、除草
剤または除草剤合成の中間体として有用である。

前記一般式（）の化合物は次に示すような互変異性とし
て存在することができる。

（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘおよびｎは前述したものと同じ
）前記一般式（１）において、好適にはＲ１はメチル、
エチル、ｎ−プロピルまたはイソプロピルのような炭素
数１ないし３個を有する直鎖状または分枝鎖状の低級ア
ルキル基；アリル、１−メチル−２−プロペニル、２−
メチル−２−プロペニルまたは２−ブテニルのような炭
素数３ないし４個を有する直鎖状または分枝鎖状の低級
アルケニル基またはメトキシカルボニルメチル、エトキ
シカルボニルメチル、ｎ−プロポキシカルボニルメチル
またはイソプロポキシカルボニルメチルのようなアルコ
キシ部分が直鎖状または分枝鎖状の炭素数１ないし３個
である低級アルコキシカルボニルメチル基を示す。

Ｒ２はＲ１に例示したと同様の炭素数１ないし３個を有
する直鎖状または分枝鎖状の低級アルキル基を示し、Ｘ
は塩素、臭素、弗素または沃素のようなハロゲン原子ま
たはニトロ基を示す。特に好適な化合物はＲ１がメチル
基またはアリル基であり、Ｒ２がメチル基であり、Ｘｎ
が２・４−ジクロロまたは２−クロロ−４ニトロである
化合物である。従来、４−ベンゾイルピラゾール誘導体
の製法に関しては、生石灰またはトリエチルアミンを懸
濁させたジオキサン、ピリジン、ジメチルホルムアミド
またはベンゾール中で熱時１・３−ジメチルピラゾロン
とベンゾイルクロライドを反応させることにより、１・
３−ジメチルピラゾロンの４位をベンゾイル化して１・
３−ジメチル−４（２−クロロベンゾイル）−５−ヒド
ロキシピラゾールおよび１・３−ジメチル−４−（４−
ニトロベンゾイル）−５−ヒドロキシピラゾールを得る
方法（Ａ法）、ヒミャ ヘテロチイクリーチエスキフ
サエテイニエニイ７９９、（１９７２）；１・３−ジメ
チル−５−ピラゾロンおよびベンズアミジン塩酸塩を２
２０゜Ｃに加熱して得られる１・３−ジメチル−４−ベ
ンズイミドイルピラゾールを力性ソーダと煮沸して１・
３−ジメチル−４ベンゾイル−５−ヒドロキシピラゾー
ルを得る方法（Ｂ法）、ベリヒテ（Ｂｅｒ．）見ｊ、３
３２（１９７３）の２法が知られているが、Ａ法では目
的とする化合物の収率は最も良い生石灰を懸濁させたジ
オキサン中でも７０〜７５％であつて、かつ遊離の安息
香酸が副産物として生成し易く、そのため精製が困難で
ある。

またＢ法では反応温度が高く、収率も６０％以下と低い
欠点がある。本発明者等は４−ベンゾイルピラゾール誘
導体の製法につき、工業的に有利な方法を得べく前記Ｂ
法を詳細に検討した結果、ベンズアミジン塩酸塩の代り
に遊離のベンズアミジンを用いることにより、経済性、
合成し易さ等に関し著しく改善された方法を見い出して
本発明を完成した。本発明の方法によれば前記一般式（
１）を有する化合物は次のようにして製造することがで
きる。

即ち一般式（式中、Ｒ１およびＲ２は前述したものと同
意義を有する。

）を有する５−ヒドロキシピラゾール誘導体を一般式（
式中、Ｘおよびｎは前述したものと同意義を有する。

）を有するベンズアミジン誘導体と不活性溶剤中で加熱
して一般式（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘおよびｎは前述した
ものと同意義を有する。

）を有する４−ベンズイミドイル一５−ヒドロキシピラ
ゾール誘導体を製造し、次いでこれを加水分解すること
によつて得ることができる。上記の反応を化学式で示す
と次のとおりである。

（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘおよびｎは前述したものと同意
義を有する。）次に各工程毎に詳細に説明する。

第一工程は前記一般式（）を有する化合物を製造する工
程であり、前記一般式（）を有する化合物を前記一般式
（）を有する化合物と加熱させることによつて達成され
る。

反応は無溶剤でも行なわれるが、反応を円滑に行なうに
は溶剤を使用する方が好ましい。反応に使用される溶剤
としては本反応に不活性な溶剤であれば特に限定はなく
、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族
炭化水素類；エタノール、イソプロパノール、ブタノー
ル等のアルコール類；クロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ンのような芳香族ハロゲン炭化水素類；ニトロベンゼン
のような芳香族ニトロ化合物類；アニソール、ジメチル
ホルムアミド等があげられるが、通常芳香族炭化水素類
、特にトルエン、キシレンが好適に使用される。反応温
度は通常１００〜１８０℃、好適には約１４０〜１６０
℃で行なわれる。反応に要する時間は通常３〜４時間程
度である。また前記一般式（）を有する化合物に対する
前記一般式（）または（）を有する化合物のモル比は１
〜１５が好ましい。反応終了後、第一工程の目的化合物
は常法によつて反応混合物から採取される。例えば反応
混合物をろ過して不溶物をろ取し、適当な溶剤例えばベ
ンゼンで抽出し、抽出液を水洗し適当な乾燥剤で乾燥後
溶液より溶剤を留去するか、または反応混合物より減圧
下に溶剤を留去し、残留物を適当な溶剤例えばクロロホ
ルムで抽出し、抽出液を水洗し適当な乾燥剤で乾燥後溶
液より溶剤を留去することによつて得ることができる。
このものは更に再結晶法等の常法によつて精製しその純
品を得ることができる。なお式（）の原料化合物はベリ
ヒテ（Ｂｅｒ．）４３．２１０６（１９１０）に記載の
方法に準じて製造される。

また式（）の原料化合物はベリヒテ（Ｂｅｒ．）１７、
１４３６（１８８４）に記載の方法に準じて製造される
。上記の如くして得られた前記一般式（）または（）を
有する化合物を加水分解する第二工程は、前記一般式（
Ｖ）を有する化合物を塩基と接触させることによつて達
成される。

使用される塩基としては、通常の加水分解に使用される
塩基が特に限定なく使用され、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、水酸化バリウムのようなアルカリ金
属およびアルカリ土類金属の水酸化物；炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸カルシウムのようなアルカリ金属
およびアルカリ土類金属の炭酸塩等の好適に使用される
。反応は溶剤として水を使用すれば他の溶剤は特に必要
ではない。反応温度は特に現定はないが、通常は約１０
０℃で好適に行なわれる。反応に要する時間は約１〜３
時間である。反応終了後、この本発明の方法の目的化合
物（１）は常法によつて反応混合物から採取される。

例えば反応混合物を希塩酸で中和し、生成物をろ取し真
空乾燥するか、または反応混合物を希塩酸で中和し、適
当な溶剤例えばベンゼンで抽出し、抽出液を水洗し適当
な乾燥剤で乾燥後溶液より溶剤を留去することによつて
得ることができる。このものは更に再結晶法等の常法に
よつて精製しその純品を得ることができる。本発明の方
法によつて得られる前記一般式（１）を有する化合物の
うち、代表的な化合物を以下に記載する。

４１・３−ジメチル−４−（２・４−ジクロロベンゾイ
ル）−５−ヒドロキシピラゾール融点 １６１〜１６３
℃ ２１・３−ジメチル−４−（４−ニトロベンゾイル）−
５−ヒドロキシピラゾール融点 ２３４〜２３５゜Ｃ ３１−アリル−３−メチル−４−（２・４−ジクロロベ
ンゾイル）−５−ヒドロキシピラゾーノレ融点 １６１
〜１６３℃ ４１−エトキシカルボニルメチル−３−メチル４−（２
・４−ジクロロベンゾイル）−５ヒドロキシピラゾール 融点 １３９〜１４２℃ 次に実施例をあげて本発明の方法を更に具体的に説明す
る。

実施例 １ １・３−ジメチル−４−（２・４−ジクロロベンゾイル
）−５−ヒドロキシピラゾール１・３−ジメチル−５−
ヒドロキシピラゾール１１．２７、２・４−ジクロロベ
ンズアミジン２４．７７およびキシレン５０ｍ１の混合
物を油浴上で４時間加熱還流する。

放冷後、反応混合物より不溶物をろ取し、ベンゼンで洗
浄する。ろ液および洗浄液を合わせて水洗し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥する。抽出液より溶剤を減圧下で留去
し、得られる残留物をｎ−ヘキサンで洗浄すると１・３
−ジメチル−４−（２・４−ジクロロベンズイミドイル
）−５−ヒドロキシピラゾールの粗結晶２１．８７が得
られる（収率７７％）。融点１９２〜１９５℃（ベンゼ
ンより再結晶）元素分析値（％） Ｃｌ２ＨｌｌＣＮ３
Ｃｌ２として計算値 Ｃ．５Ｏ．７３；Ｈ．３．９Ｏ；
Ｎ．ｌ４．７９；Ｃｌ．２４．９５ 実験値 Ｃ．４９．３７；Ｈ．３．７ｌ；Ｎ．ｌ３４Ｏ
；Ｃｌ．２４．２３ ｌ・３−ジメチル−４−（２・４−ジクロロベンズイミ
ドイル）−５−ヒドロキシピラゾール５７を５％水酸化
ナトリウム水溶液１００ｍ１と共に３時間加熱還流する
。

（アンモニアガスの発生を伴つて完全に溶解する。）放
冷後、反応混合物を６Ｎ塩酸溶液で中和し、次いでベン
ゼン２００ｍ１で抽出を行なう。抽出液を水洗し無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、抽出液より溶剤を留去すると薄
桃色粉末の目的化合物４．２１ｉ！が得られる。収率８
７％融点１６１〜１６３℃（メタノールより再結晶）赤
外吸収スペクトル（ＮｕｊＯｌ）ν礪−１ ：３２８０
１３１００１３０００〜２０００１１６３０、１５９５
、１５３０元素分析値（％） Ｃ，２ＨｌＯＯ２Ｎ２Ｃ
ｌ２として計算値 Ｃ．５Ｏ．５５；Ｈ．３．５４；Ｎ
．９．８２；Ｃｌ．２４．８７ 実験値 Ｃ．５Ｏ．ｌ９；Ｈ．３．６６；Ｎ．９．４２
；Ｃｌ．２４７３ なお、公知の方法、即ち１・３−ジメチル−５ヒドロキ
シピラゾールと２・４−ジクロロベンズアミジン塩酸塩
を出発原料とし、２２０℃に加熱後、反応生成物をアル
カリ加水分解したところ（前記Ｂ法による）、１・３−
ジメチル−４（２・４−ジクロロベンゾイル）−５−ヒ
ドロキシピラゾールはまつたく得られなかつた。

実施例 ２ １−エトキシカルボニルメチル−３−メチル４−（２・
４−ジクロロベンゾイル）−５−ヒドロキシピラゾール
１−エトキシカルボニルメチル−３−メチル５−ヒドロ
キシピラゾール９．２ｙ１２・４−ジクロロベンズアミ
ジン９．５７およびキシレン３００ｍ１の混合物を油浴
上で３時間加熱還流する。

放冷後、反応混合物より減圧下に溶剤を留去し、残留物
にクロロホルム５００ｍ１を加えて抽出を行なう。抽出
液を水で３回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽
出液より溶剤を留去する。得られる残留物に熱エタノー
ル５０ｍ１を加えて溶解し、次いで熱水７００ｍ１を加
えて氷冷下に放置し、析出する結晶をろ取し真空乾燥す
ると融点１９４〜１９５℃を有する黄色針状晶の１−エ
トキシカルボニルメチル−３−メチル−４−（２・４−
ジクロロベンズイミドイル）−５−ヒドロキシピラゾー
ル１２．５７が得られる。収率７０％元素分析値（％）
Ｃｌ５Ｈｌ５Ｏ３Ｎ３Ｃｌ２として計算値 Ｃ．５Ｏ
．５８；Ｈ．４．２４；Ｎ．ｌｌ．８Ｏ；Ｃｌ．ｌ９．
９ｌ 実験値 Ｃ．５Ｏ．６８；Ｈ．４．２４；Ｎ．ｌｌ．９
Ｏ；Ｃｌ．ｌ９．８７ ｌ−エトキシカルボニルメチル−３−メチル４−（２・
４−ジクロロベンズイミドイル）−５ヒドロキシピラゾ
ール１１ｙを６％水酸化ナトリウム水溶液８５ｍ１と共
に２．５時間加熱還流する。

放冷後、反応混合物に濃塩酸１０ｍ１を加えて酸性とし
、次いで反応混合物より減圧下に溶剤を留去する。残留
物に熱ベンゼン−エタノール（１０：１）を加えて抽出
を行ない（１００ｍ１×２回、５０ｍ１×１回）、抽出
液より溶剤を留去すると褐色の油状物１１．１７が目的
化合物の遊離酸として得られる。次に、ここに得られる
油状物１１．１７、エタノール２００ｍ１１ベンゼン３
００ｍ１およびパラトルエンスルホン酸０．３７の混合
物を３時間加熱還流する。放冷後、反応混合物より減圧
下に溶剤を留去する。残留物をベンゼン３００ｍ１に溶
解し水で洗浄後、溶液より溶剤を留去する。得られる残
留物を少量の熱エタノールに溶解し氷冷すると融点１３
９〜１４２゜Ｃを有する針状晶の目的化合物１０７が得
られる。収率９１％赤外吸収スペクトル（ＮｕｊＯｌ）
ν礪−１ ：３１５０１３１００、２８００〜２０００
１１７６０（−ＣＯＯＣ２Ｈ５）、１６５０（Ｃ−０）
元素分析値（％） Ｃｌ５Ｈｌ４Ｏ４Ｎ２Ｃｌ２として
計算値 Ｃ．５Ｏ．４４；Ｈ．３．９５；Ｎ．７．８４
；Ｃｌ．ｌ９．８５ 実験値 Ｃ．５Ｏ．４５；Ｈ．４．Ｏ６；Ｎ．７．８３
；Ｃｌ．ｌ９．６６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は低級アルキル基、低級アルケニル基ま
   たは低級アルコキシカルボニルメチル基を示し、Ｒ＿２
   は低級アルキル基を示す）を有する５−ヒドロキシピラ
   ゾール誘導体を式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはハロゲン原子またはニトロ基を示し、ｎは
   １ないし３の整数を示す。 ）を有するベンズアミジン誘導体と反応させて式▲数式
   、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘおよびｎは前述したものと
   同意義を有する。 ）を有する４−ベンズイミドイル−５−ヒドロキシピラ
   ゾール誘導体を製造し、次いでこれを加水分解すること
   を特徴とする式▲数式、化学式、表等があります▼（式
   中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘおよびｎは前述したものと同意
   義を有する。 ）を有する４−ベンゾイル−５−ヒドロキシピラゾール
   誘導体の製造法。