JPS5930142B2 - 樹脂薄膜の形成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、樹脂薄膜の形成方法に関する。

薄膜型の磁気記録媒体すなわち蒸着磁気テープの防錆効
果および走行性を改善する目的で、磁性層表面に有機物
質の膜を形成する必要がある。

この有機物質の膜である非磁性層を磁性層表面に形成す
ると、磁気記録再生の際に隙間となつて変換効率が低下
する。このため、磁性層表面に形成する有機物質の非磁
性層は、電磁変換特性のためには薄いほどよい。通常使
用して問題のない薄膜の層は、１０００λ以下である。
ところが、現在一般に使用されている塗工機で均一に塗
布できる最低膜厚は５μ程度である。

そして塗布方法は、グラビア式のコーテング機械が一般
に使用されている。したがつて無溶剤または高濃度溶液
を用いて１０００λ以下の均一で緻密な膜を形成するこ
とは難しかつた。本発明は、従来からのこのような問題
点に対処してなされたものであり、塗工した樹脂成分は
本来飛散させないという塗工の常識を破り、樹脂自体を
定量的に飛散させた後に硬化するという形成方法に関す
るもので、１０００λ以下の均一で緻密な膜を容易に形
成できるものである。

以下本発明を実施するために使用する装置の一実施例に
ついて第１図の図面とともに説明する。

図において、１は塗布されるプラスチックフィルム等の
基板であり、もちろん表面に磁性層が形成されていても
よい。２はその基板１の表面に紫外線照射により硬化す
る低分子液状樹脂を塗工する塗工部であり、通常のグラ
ビア式の塗工機を使用した例を示している。

３は熱風炉であり、塗工した樹脂を定量的に飛散蒸発さ
せる炉である。

この熱風炉３は塗工された基板１の両面から温度調節さ
れた清浄空気が風量を調整しながら送込まれるように配
置され、循環した熱風はファンで排気されるようになつ
ている。４は熱風を送り込むためのファンであり、風量
の変化は１％以下に調整されている。

５は加熱ヒーターであり、±０．５℃以下に調整される
制御装置を持つている。

６はフィルターであり、熱風の炉内への導入は流速が基
板１の面で一定になる構造に配置されている。

７は排気のためのファンである。

また８は裏面の熱風の送込口であり、９は排気口である
。そして塗布面と裏面の熱風は、温度、流速が別々に制
御されるようになつている。緻密な膜を得るためには両
面の熱風の温度を数度の差を持つて安定に設定すること
が必要であり、均一な膜厚を得るには流速および風量の
制御が大切である。１０は硬化のための紫外線ランプで
あり、緻密な膜を得るためには、紫外線量を弱い所から
順次強くなるように傾斜を持たせる方が鳥い。

なお、１１は基板１の送出部、１２は塗布された基板１
の巻取部である。このような装置により樹脂塗工量の２
０〜９０％を定量的に飛散させたのち硬化させることが
できる。そして本発明に使用する低分子液状樹脂として
は、通常の紫外線硬化型塗料が使用できるが、特に、有
効なものは、１気圧での沸点が３００℃以下のモノマー
を主成分とするもので、ラジカル重合形であれば、シク
ロヘキシメタクリエート、ｔ−ブチルスチレン、ジブチ
ルマレート等の単官能アクリレート類、１・４−ブタジ
オールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート等の
多官能アクリレート類の単体あるいは混合体を主成分と
し、これにベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフ
エノン等の光増感剤、その他の塗料用添加剤等を加えた
ものがあり、イオン重合型であれば、ピニルシクロヘキ
センジオキサイド、シンクロペンタンエッジオキシド、
ジペンテンジオキシド、３−４エポキシシクロヘキシル
メチル一３−４エポキシシクロヘキサン、カルボオキシ
レート等の脂環式エポキシ類とアクリルグリシジルエー
テル、フエニルグリシジルエーテル等の他のエポキシ類
と、紫外線照射により分解してルイス酸を生じる硬化触
媒、例えばＰ−ニトロベンゼンジアゾニウムヘキサフロ
ロホスフェート、２・４−ジクロロベンゼンジアゾニウ
ムテトラフルオロボレート等と、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等の安定剤とからなる組成物に必要に応じ
て多種塗料用添加剤を加えたものがある。

しかし、これらに限定されるものではなく、温風で容易
に飛散蒸発し紫外線照射で固化する性質の液体であれば
使用できる。また、これらの樹脂は単体だけでなく、溶
剤との混合系でも使用できる。

この場合、溶剤よりかなり蒸気圧の低い樹脂成分を定量
的に飛散させるため硬化時に溶剤の残存はなく、硬化は
完全に行われる。次に実施例での効果について記す。

緻密性についての評価は磁気テープの防錆効果で評価し
た。第２図は、上下の熱風炉の温度差を変えた時のもの
で、Ａは塗布面１３０℃、裏面１３０℃、Ｂは塗布面１
３０℃、裏面１００℃の時のもので、膜厚は１０００λ
で一定になるように制御して作成したものを、温度５０
℃、湿度９０％の環境に放置した時のものである。この
時使用した樹脂は、エポキシ樹脂である。Ａ，Ｂの間で
明らかに有意差が認められる。また、第３図は、紫外線
の照射過程で照射量に傾斜を設けたもので、Ｃは傾斜を
設けないもの、Ｄは２本の発光源の前半を％の量にした
時のものである。Ｄのものがより緻密な膜が形成されて
いると考えられる。第２図の実験の際は紫外線は傾斜を
設けて照射し、第３図の実験の際は熱風の温度差を最適
の条件に設定して行つた。塗布膜厚の制御については、
第４図に示す。

同図において横軸は熱風温度、縦軸は紫外線照射後の塗
布膜の厚みである。塗工時のウエツトの量で５μ塗布し
、速度８０ｍ／Ｔｆｓｔで１０ｍの乾燥炉を通した時の
例で、熱風と風量によつて制御されていることがわかる
。風量Ｅと風量Ｆは、１：２の関係にある。実施例での
量は、風量Ｅが５ＴｒＩ／―、風量Ｆが１０ｍ３／―の
時のものである。この時、すなわち紫外線を照射した後
の幅方向の膜厚の均一性は０．１μで、１０％以内の膜
厚の変化であつた。

以上のように本発明によれば、基板の上に非常に薄い膜
、すなわち１０００λ以下の膜を作ることができるもの
であり、例えば薄膜型の磁気記録媒体に適用した場合に
は防錆および走行性の改善が図れるのであり、その産業
性は大なるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による樹脂薄膜の形成方法を実施するた
めに使用する装置の一実施例の概略構成図、第２図、第
３図は本発明を磁気記録媒体に適用した際の錆発生時間
を示す図、第４図は熱風温度に対する塗布厚みの図であ
る。 １・・・・・・基板、２・・・・・・塗工部、３・・・
・・・熱風炉、４・・・・・・フアン、５・・・・・・
加熱ヒーター、６・・・・・・フイルタ一、７・・・・
・・フアン、１０・・・・・・紫外線ランプ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 紫外線照射により固化しうる低分子液状樹脂を基板
   上に塗工し、樹脂薄膜を形成する方法において、前記基
   板上に前記液状樹脂を塗工した直後に前記液状樹脂の一
   部を熱風によつて飛散させ、その後紫外線を照射させて
   前記基板上の液状樹脂を硬化させることを特徴とする樹
   脂薄膜の形成方法。