JPS5936329A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5936329A JPS5936329A JP57145009A JP14500982A JPS5936329A JP S5936329 A JPS5936329 A JP S5936329A JP 57145009 A JP57145009 A JP 57145009A JP 14500982 A JP14500982 A JP 14500982A JP S5936329 A JPS5936329 A JP S5936329A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- source
- evaporation source
- magnetic recording
- substrate
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は例えば垂直磁気記録に適した磁気記録媒体の製
造方法に関する。
造方法に関する。
従来例の構成とその問題点
記録波長の短い磁気記録を行なう際には、垂直磁気記録
が有効である。垂直磁気記録用記録媒体としては、磁化
容易方向が膜面に垂直となる様な記録媒体がある。この
様な特性をもつ記録媒体の一つとして磁性膜がＣＯとＣ
ｒを主成分とした記録媒体が用いられる（以下この膜を
Ｃｏ−Ｃｒ膜と呼ぶ）。
が有効である。垂直磁気記録用記録媒体としては、磁化
容易方向が膜面に垂直となる様な記録媒体がある。この
様な特性をもつ記録媒体の一つとして磁性膜がＣＯとＣ
ｒを主成分とした記録媒体が用いられる（以下この膜を
Ｃｏ−Ｃｒ膜と呼ぶ）。
Ｃｏ−Ｃｒはスパッタリング法、真空蒸着法のいずれの
方法によっても作製できる。特に後者の方法は膜の形成
速度を数１０００人／秒にすることが可能であり高い生
産性を持つ。第１図は真空蒸着法でＣｏ −Ｃｒ １ｌ
Ｉ（Ｉ”長尺の基板」−に作製する方法の例を示し、排
気系１２によって高真空に排気された真空槽１１中にお
いて、巻出系３から回転方向１３にそって巻出された基
板１はキャン２に沿って移動し、マスク８の開口部で電
子銃１０から電子ビーム９を入射されているＣｏＣｒ合
金蒸発源５によってＣｏ−Ｃｒ膜を真空蒸着されて巻取
系４Ｖζ巻取られる。一方、第２図に示す様に蒸発源を
Ｃｒ蒸発源６及びＣＯ蒸発源７の２つの蒸発源から構成
してＣｏ−Ｃｒ膜全全長尺基板上に作製することも可能
である。以下第１図の様に蒸発源をＣｏＣｒ合金蒸発源
とする力広ヲー源蒸着法、第２図の様に蒸発源をＣＯ蒸
発源とＣｒ蒸発源とから構成する方法全二源蒸着法と呼
ぶ。
方法によっても作製できる。特に後者の方法は膜の形成
速度を数１０００人／秒にすることが可能であり高い生
産性を持つ。第１図は真空蒸着法でＣｏ −Ｃｒ １ｌ
Ｉ（Ｉ”長尺の基板」−に作製する方法の例を示し、排
気系１２によって高真空に排気された真空槽１１中にお
いて、巻出系３から回転方向１３にそって巻出された基
板１はキャン２に沿って移動し、マスク８の開口部で電
子銃１０から電子ビーム９を入射されているＣｏＣｒ合
金蒸発源５によってＣｏ−Ｃｒ膜を真空蒸着されて巻取
系４Ｖζ巻取られる。一方、第２図に示す様に蒸発源を
Ｃｒ蒸発源６及びＣＯ蒸発源７の２つの蒸発源から構成
してＣｏ−Ｃｒ膜全全長尺基板上に作製することも可能
である。以下第１図の様に蒸発源をＣｏＣｒ合金蒸発源
とする力広ヲー源蒸着法、第２図の様に蒸発源をＣＯ蒸
発源とＣｒ蒸発源とから構成する方法全二源蒸着法と呼
ぶ。
一源誓着法ではＣＯとＣｒの蒸気圧の差が大きい為に蒸
着時間の経過に伴って蒸発源のＣｒ成分が減少し、従っ
て長尺のＣｏ−Ｃｒ膜を作製すると膜は］７だいにＣｒ
成分の少ない組成を持つ様になる。一方、二源蒸着法で
はＣＯ蒸発源及びＣｒ蒸発源の温度を独立に制御できる
だめ、長尺にわたって組成安定な膜の作製に有利である
。
着時間の経過に伴って蒸発源のＣｒ成分が減少し、従っ
て長尺のＣｏ−Ｃｒ膜を作製すると膜は］７だいにＣｒ
成分の少ない組成を持つ様になる。一方、二源蒸着法で
はＣＯ蒸発源及びＣｒ蒸発源の温度を独立に制御できる
だめ、長尺にわたって組成安定な膜の作製に有利である
。
（〜かじなからＣｒが昇華性金属であるため、−源蒸着
法ＶＣよってＣｏ−Ｃｒ膜全全作し７ようとすると第３
図に示す様に、蒸着開始時Ｖこ・・−ス１６内のＣｒ表
面１８の形状が平らであっても、電子ビーム９によ−）
てＣｒ１７の表面が掘り下げられ時間経過後のＣｒ表面
１９は凹凸となる。これに伴い蒸着開始時のＣｔ蒸気分
布曲線２０は時間経過後のＣｒ蒸気分イＶｉｔｉｌｌ線
２１の様に変化し、基板」二に析出する膜の組成変動を
引き起こす。垂直磁気記録媒体として十分な配録再生特
性を持たせる為にはＣｏ−Ｃｒ膜の組成変動を長尺膜全
長にわたって±１％以内に押さえなければならない。今
Ｃｏ −Ｃｒ ＩＩＫの組成をＣｏ−Ｃｒ垂直膜として
一般的な重量組成Ｃｒ ２０ＣＯｓ。
法ＶＣよってＣｏ−Ｃｒ膜全全作し７ようとすると第３
図に示す様に、蒸着開始時Ｖこ・・−ス１６内のＣｒ表
面１８の形状が平らであっても、電子ビーム９によ−）
てＣｒ１７の表面が掘り下げられ時間経過後のＣｒ表面
１９は凹凸となる。これに伴い蒸着開始時のＣｔ蒸気分
布曲線２０は時間経過後のＣｒ蒸気分イＶｉｔｉｌｌ線
２１の様に変化し、基板」二に析出する膜の組成変動を
引き起こす。垂直磁気記録媒体として十分な配録再生特
性を持たせる為にはＣｏ−Ｃｒ膜の組成変動を長尺膜全
長にわたって±１％以内に押さえなければならない。今
Ｃｏ −Ｃｒ ＩＩＫの組成をＣｏ−Ｃｒ垂直膜として
一般的な重量組成Ｃｒ ２０ＣＯｓ。
とすると、組成変動を±１係とずＺ）為にはＣｒの析出
速度の変動１ｄ、Ｃｏ −Ｃｒ長尺膜全長にわ／３−っ
て±５チ以内程度と１゛る必要かある。
速度の変動１ｄ、Ｃｏ −Ｃｒ長尺膜全長にわ／３−っ
て±５チ以内程度と１゛る必要かある。
発明の目的
本発明は真空蒸着によりＣＯとＣｒを主成分とする例オ
ーば垂直記録用強磁性膜を形成する際、長尺にわたって
組成が均一な強磁性膜か容易に得られるようにすること
を目的とする。
ーば垂直記録用強磁性膜を形成する際、長尺にわたって
組成が均一な強磁性膜か容易に得られるようにすること
を目的とする。
発明の構成
本発明は一源蒸着法あるいは二蒜着法しこよりＣ。
とＣｒの蒸発源を電子ビーム照射し加熱して蒸気を発生
させ、移動中の基板」二にＣｏどＣｒ′ｌ（！ｌ−主成
分とする例えば垂直記録用の強磁性膜を形成する際、Ｃ
ｏＣｘ 合金あるいはＣｒ単独の蒸発源Ｖこ粒状のＣｒ
を連続的に追加投入すなわち補給するものである。
させ、移動中の基板」二にＣｏどＣｒ′ｌ（！ｌ−主成
分とする例えば垂直記録用の強磁性膜を形成する際、Ｃ
ｏＣｘ 合金あるいはＣｒ単独の蒸発源Ｖこ粒状のＣｒ
を連続的に追加投入すなわち補給するものである。
実施例の説明
本発明によると、−源蒸Ｎ法ＶＣおいては、粒状Ｃｒを
連続投入することにより、蒸発源の組成を一定シこ保つ
ことが「１丁能であり、従って長尺基板−にに組成一定
のＣｏ−Ｃｒ膜を作製することができる。
連続投入することにより、蒸発源の組成を一定シこ保つ
ことが「１丁能であり、従って長尺基板−にに組成一定
のＣｏ−Ｃｒ膜を作製することができる。
ま／杜二源蒸Ｈ法においては、Ｃｒの蒸発源に粒状Ｃｒ
を連続投入することにより、Ｃｒ蒸発源の表面Ｖこ電子
ビーノ、による凹凸が生じるのを防ぎ、Ｃｒの蒸気分布
の形を一定Ｖこ保つことか可能でありこれを用いて長尺
基板上に組成一定のＣｏ−Ｃｒ膜全全作製ることかでき
る。
を連続投入することにより、Ｃｒ蒸発源の表面Ｖこ電子
ビーノ、による凹凸が生じるのを防ぎ、Ｃｒの蒸気分布
の形を一定Ｖこ保つことか可能でありこれを用いて長尺
基板上に組成一定のＣｏ−Ｃｒ膜全全作製ることかでき
る。
そして追加するＣｒの形状は、追加投入時にＣｒの蒸気
分布の形にＩジえる影響を小さくするために粒状が最も
好ましいことが実験の結果明らかとなった。寸た粒径に
ついては、粒径が小さいもの程熱容量が小さく、追加投
入された粒状Ｃｒが周囲のＣｒの温度に影響を及ぼさな
いことが確認された。
分布の形にＩジえる影響を小さくするために粒状が最も
好ましいことが実験の結果明らかとなった。寸た粒径に
ついては、粒径が小さいもの程熱容量が小さく、追加投
入された粒状Ｃｒが周囲のＣｒの温度に影響を及ぼさな
いことが確認された。
一方、粒径をあまり小さくしすぎると、電子ビームの衝
撃によって粒状Ｃｒが飛散する度合が大きくなり、基板
に熱損傷を内える等、好ましくないびが実験の結果分っ
た。したがって、追加投入するＣｒの粒径には最適範囲
が存在する。この最適粒径を吟味するために実験したと
ころ、平均粒（’Ｊ ４ ｍｍ。
撃によって粒状Ｃｒが飛散する度合が大きくなり、基板
に熱損傷を内える等、好ましくないびが実験の結果分っ
た。したがって、追加投入するＣｒの粒径には最適範囲
が存在する。この最適粒径を吟味するために実験したと
ころ、平均粒（’Ｊ ４ ｍｍ。
標準偏差２ｍｍ程度＆することが好ましいことが分った
。第４図は横軸に粒径、縦軸に蒸発源の真上４Ｃｍに位
置させた基板上でのＣｒの析出速度の変動率を、平均析
出速度６００八／秒の場合ＶＣついて示しだものである
。第４図から分る様に追加投入Ｃｒ粒径４ｗｎ±２ ｍ
ｍの範囲では析出変動率は±０．５係以内に押さえるこ
とが可能であった。まだ、追加投入Ｃｒ粒径２ｍｍ未満
では電子ビーム衝撃Ｖこよる粒状Ｃｒの飛散の度合が大
きずぎて基板に熱損傷が起きた。
。第４図は横軸に粒径、縦軸に蒸発源の真上４Ｃｍに位
置させた基板上でのＣｒの析出速度の変動率を、平均析
出速度６００八／秒の場合ＶＣついて示しだものである
。第４図から分る様に追加投入Ｃｒ粒径４ｗｎ±２ ｍ
ｍの範囲では析出変動率は±０．５係以内に押さえるこ
とが可能であった。まだ、追加投入Ｃｒ粒径２ｍｍ未満
では電子ビーム衝撃Ｖこよる粒状Ｃｒの飛散の度合が大
きずぎて基板に熱損傷が起きた。
次に本発明より具体的な実施例を説明する。第６図は一
源蒸着法を用いた連続巻取真空蒸着において、Ｃｒ０劾
（１投入を行なった例を示す。
源蒸着法を用いた連続巻取真空蒸着において、Ｃｒ０劾
（１投入を行なった例を示す。
図に示すように、巻出系３から巻出されプこ基板１はキ
ャン２に沿って移動し、マスク８の開１−ｊ部でＣｒ追
加投入装＠１４によって粒状Ｃｒ１５の追加投入を受り
ているＣｏＣｒ合金蒸発源ＳによってＣｏ−Ｃｒ膜を真
空蒸着されて巻取系４ｖこ巻取られる。
ャン２に沿って移動し、マスク８の開１−ｊ部でＣｒ追
加投入装＠１４によって粒状Ｃｒ１５の追加投入を受り
ているＣｏＣｒ合金蒸発源ＳによってＣｏ−Ｃｒ膜を真
空蒸着されて巻取系４ｖこ巻取られる。
第６図は二階蒸着法を用いた連続真空蒸着においてＣｒ
の追加投入を行な）だ例を示す。
の追加投入を行な）だ例を示す。
なお、Ｃｒの追加投入量があ１り多いと、温度」ニガに
時間がかかり、蒸発速度の変動か大きくなる。
時間がかかり、蒸発速度の変動か大きくなる。
出力１０ＫＷの電子ヒーム装置をＩｔ−］いてＣｒを蒸
発させた場合、追加投入量か５ ｙＡｎＩ７１の時蒸発
源の真−） ４ ｃｍ、 Ｋ位置させた基板上でのＣｒ
の析出速度は±０．５係の変動となり、追加投入量が５
０ｙ ／ｍｉｎの時はＣｒの析出速度は±１０％の変動
をもつことか実験の結果分った。
発させた場合、追加投入量か５ ｙＡｎＩ７１の時蒸発
源の真−） ４ ｃｍ、 Ｋ位置させた基板上でのＣｒ
の析出速度は±０．５係の変動となり、追加投入量が５
０ｙ ／ｍｉｎの時はＣｒの析出速度は±１０％の変動
をもつことか実験の結果分った。
以」二の様しこ、本発明に従ってＯｒ全追加投入しつつ
連続巻取真空蒸ＨによりＣｏ−Ｃｒ膜を作製した結果、
長尺にわたって組成が均一な嘆か得られることが分っ／
仁。−源蒸着法の場合、Ｃｒを追加投入すると同時に電
子ビーム出力を制御することＶこより、長さ約１６０ｍ
の基板」二Ｖこ組成変動±ｉ、ｏ係のＣｏ−Ｃｒ膜が得
られた。また二階蒸着法の場合、Ｃｒｆ、Ｈ追加投入す
ると同時に、Ｃｏの蒸発源の電子ビーム出力を制御する
ことにより、長さ約２００ ｙｎの基板」−に組成変動
±ｏ、９％のＣｏ−Ｃｒ膜が得られた。
連続巻取真空蒸ＨによりＣｏ−Ｃｒ膜を作製した結果、
長尺にわたって組成が均一な嘆か得られることが分っ／
仁。−源蒸着法の場合、Ｃｒを追加投入すると同時に電
子ビーム出力を制御することＶこより、長さ約１６０ｍ
の基板」二Ｖこ組成変動±ｉ、ｏ係のＣｏ−Ｃｒ膜が得
られた。また二階蒸着法の場合、Ｃｒｆ、Ｈ追加投入す
ると同時に、Ｃｏの蒸発源の電子ビーム出力を制御する
ことにより、長さ約２００ ｙｎの基板」−に組成変動
±ｏ、９％のＣｏ−Ｃｒ膜が得られた。
発明の効果
本発明は、以上の説明から明らかなように、長尺Ｖこわ
たり組成が均一なＣｏ−Ｃｒ強磁性膜を容易に得るもの
で、したかって品質の安定した磁気記録媒体を量産する
上で極めて有用である。
たり組成が均一なＣｏ−Ｃｒ強磁性膜を容易に得るもの
で、したかって品質の安定した磁気記録媒体を量産する
上で極めて有用である。
第１図、第２図は従来の磁気記録媒体の製造方法を説明
するだめの図、第３図は従来の磁気記録媒体の製造方法
の二階蒸着法におけるＣｒ蒸発源の状態を示す図、第４
図は本発明の作Ｉ■Ｊを一説明するためのもので、追加
投入するＣｒの粒径と基板上でのＣｒの析出量変動半値
＋ｉＪとの関係を示す図、第５図、第６図は本発明によ
−る磁気記録媒体の製造方法を説明するだめの図である
。 １・・・・・基板、２ ・・キャン、３・・ 巻出系、
４・・・・巻取系、５・・・ＣｏＣｒ合金蒸発源、６
・・・Ｃｒ蒸発源、７・・・・・Ｃｏ蒸発源、８・・
マスク、９・・電子ビーム、１０ ・・・電子銃、１１
・真空槽、１２ ・・・排気系、１４・・・・Ｃｒ追
加投入装置、１５・・・・・・粒状Ｃｒ、１６・・・・
・ノ・−ス。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 ＷＪ３図 第４図 １３２− 第５図
するだめの図、第３図は従来の磁気記録媒体の製造方法
の二階蒸着法におけるＣｒ蒸発源の状態を示す図、第４
図は本発明の作Ｉ■Ｊを一説明するためのもので、追加
投入するＣｒの粒径と基板上でのＣｒの析出量変動半値
＋ｉＪとの関係を示す図、第５図、第６図は本発明によ
−る磁気記録媒体の製造方法を説明するだめの図である
。 １・・・・・基板、２ ・・キャン、３・・ 巻出系、
４・・・・巻取系、５・・・ＣｏＣｒ合金蒸発源、６
・・・Ｃｒ蒸発源、７・・・・・Ｃｏ蒸発源、８・・
マスク、９・・電子ビーム、１０ ・・・電子銃、１１
・真空槽、１２ ・・・排気系、１４・・・・Ｃｒ追
加投入装置、１５・・・・・・粒状Ｃｒ、１６・・・・
・ノ・−ス。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 ＷＪ３図 第４図 １３２− 第５図
Claims (3)
- （１） ＣｏとＣｒの蒸発源を電子ビーム照射により
加熱して蒸気を発生させ移動中の基板上にＣｏとＣｒを
主成分とする強磁性膜を形成するとともに、前記Ｃｒの
蒸発源には粒状のＣｒを連続的に補給することを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。 - （２）粒状のＣｒの平均粒径が２〜６市の範囲にあるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒
体の製造方法。 - （３）強磁性膜が膜面に垂直な方向に磁化容易な垂直磁
化膜からなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57145009A JPS5936329A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57145009A JPS5936329A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5936329A true JPS5936329A (ja) | 1984-02-28 |
Family
ID=15375332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57145009A Pending JPS5936329A (ja) | 1982-08-20 | 1982-08-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5936329A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61283029A (ja) * | 1985-06-07 | 1986-12-13 | Tdk Corp | 磁気記録媒体製造用磁性合金材料および磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS62217466A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-24 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスクの傷位置確認方式 |
-
1982
- 1982-08-20 JP JP57145009A patent/JPS5936329A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61283029A (ja) * | 1985-06-07 | 1986-12-13 | Tdk Corp | 磁気記録媒体製造用磁性合金材料および磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS62217466A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-24 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスクの傷位置確認方式 |
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