JPS5938062A - 印刷版の製版方法 - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は印刷版の製版方法に関−[るものであり、更に
詳しくはマスター刷版の画像情報を支持体上に転写して
複数の印刷版を作成′1″る、新開、複製印刷版の製版
方法に関するものである。
詳しくはマスター刷版の画像情報を支持体上に転写して
複数の印刷版を作成′1″る、新開、複製印刷版の製版
方法に関するものである。
従来、印刷版には種、4のものが知られており。
そむぞれの特徴に合わせて使用さオビいるが、一般には
原稿と感光性印刷版とを密着して謂光し、次いで化学的
な現偉処理を施し、画儂部以外を溶出除去しそ製版する
方−がとられて(・る。しかしながらこのような方法で
は合理化や公害防止面かし錫なく、特に新聞印刷の如く
同一画像情報の印刷を複数の印−1機により並行して行
なう場合、するいは印刷版の耐刷力の関係から複数の・
印刷版を用いて多数枚の印刷物を得るような場合には同
−画像情報め複製印刷版を多数枚必要とするととKなり
、これらを迅速K、且つ公害的に有利な方□法で提供す
る方法として、例えば日本公開特許公報−5Ei−46
973号明−書、同昭53−100005号明細書−記
載されているようにマスター刷版の画像情報を支持体上
に転写して得る方法が提案されている。これらの記載に
よれば、例えばアルミニウム板、アルフィト板またはク
ロムメッキ板あるいはそれらの円筒などの支持体上に、
例えばブランケットシリンダーな用いてオフセット方式
でマスター刷版の画像情報を転写する方法でt)す、そ
の転写方法としては紫外線照射、加熱処理などにより硬
化し、硬化後インキ受容性を有′1−る物質、例えば紫
外線硬化インキ、熱硬化インキなどな使用し、マスター
刷版としては印字紙平版、描画平版、写真平版、静電転
写平版などの各種平版、活字組版、凸版、凹版などが使
用され、転写後、紫外線、赤外線による露光硬化または
加熱硬化な施し画像部を補強した後印刷tc供している
。
原稿と感光性印刷版とを密着して謂光し、次いで化学的
な現偉処理を施し、画儂部以外を溶出除去しそ製版する
方−がとられて(・る。しかしながらこのような方法で
は合理化や公害防止面かし錫なく、特に新聞印刷の如く
同一画像情報の印刷を複数の印−1機により並行して行
なう場合、するいは印刷版の耐刷力の関係から複数の・
印刷版を用いて多数枚の印刷物を得るような場合には同
−画像情報め複製印刷版を多数枚必要とするととKなり
、これらを迅速K、且つ公害的に有利な方□法で提供す
る方法として、例えば日本公開特許公報−5Ei−46
973号明−書、同昭53−100005号明細書−記
載されているようにマスター刷版の画像情報を支持体上
に転写して得る方法が提案されている。これらの記載に
よれば、例えばアルミニウム板、アルフィト板またはク
ロムメッキ板あるいはそれらの円筒などの支持体上に、
例えばブランケットシリンダーな用いてオフセット方式
でマスター刷版の画像情報を転写する方法でt)す、そ
の転写方法としては紫外線照射、加熱処理などにより硬
化し、硬化後インキ受容性を有′1−る物質、例えば紫
外線硬化インキ、熱硬化インキなどな使用し、マスター
刷版としては印字紙平版、描画平版、写真平版、静電転
写平版などの各種平版、活字組版、凸版、凹版などが使
用され、転写後、紫外線、赤外線による露光硬化または
加熱硬化な施し画像部を補強した後印刷tc供している
。
しかしながら、このような製版方法は迅速、且つ公害的
に有利な方法ではあるが、得られた複製印刷版t1被転
写体でk)る支持体の種類k]るいはその表面状態によ
っては次の欠点を有する。
に有利な方法ではあるが、得られた複製印刷版t1被転
写体でk)る支持体の種類k]るいはその表面状態によ
っては次の欠点を有する。
(1)支持体表面の硬度が不十分な場合には多数枚の印
刷により非画線部表面あるいは画線部表面が損傷し、そ
の結果として印刷中圧非画線部に汚れを生ずるか、画線
部にインキ着肉不良を生ずる。
刷により非画線部表面あるいは画線部表面が損傷し、そ
の結果として印刷中圧非画線部に汚れを生ずるか、画線
部にインキ着肉不良を生ずる。
(2)支持体表面の親水性、保水性が不十分な場合忙は
印刷中に汚れを生ずるか、湿し水のrlJの狭い刷り難
い印刷となる。
印刷中に汚れを生ずるか、湿し水のrlJの狭い刷り難
い印刷となる。
(3)支持体表面とインキ受容性物質との接着性が不十
分な場合には印刷中の画像部の損傷が大きく、多数枚の
印刷に耐えられない。
分な場合には印刷中の画像部の損傷が大きく、多数枚の
印刷に耐えられない。
(4)支持体の折り曲げ強度あるいは引張り強度が不十
分な場合には印刷中にくわえ切れ、あを満足するものは
あっても、その全てな満足するものはなく、従って上記
した欠点の何れかを有しているのが現状である。
分な場合には印刷中にくわえ切れ、あを満足するものは
あっても、その全てな満足するものはなく、従って上記
した欠点の何れかを有しているのが現状である。
例えば、この領域で最も有効に用いられている了ルミニ
ウム板あるいはアルマイト板をもってしても十分な親水
性、保水性、接着性を与えるためには実質上砂目立て処
理(グレイニング)を行なわねばならず、その砂目が深
い、あるいは粗い場合には画像の微小再現性、解像性が
劣り、鮮明な画像の印刷物が得られず、逆圧砂目が浅い
場合には実用的に十分な保水性が得られないため印刷中
に汚れを生ずるか、湿し水の調節中の狭い、新開・刷り
難い印刷版であり、また、インキ受容性物質の接着性が
不十分なために一数枚の印刷に耐えられない他、一般に
アルミニラ−材は折り曲げ強度が小さいたぬ、特にオフ
セット輪転機の如き高速回転の印刷機で印刷する場合に
はくわえ切れ、版切れを生ずることがある。
ウム板あるいはアルマイト板をもってしても十分な親水
性、保水性、接着性を与えるためには実質上砂目立て処
理(グレイニング)を行なわねばならず、その砂目が深
い、あるいは粗い場合には画像の微小再現性、解像性が
劣り、鮮明な画像の印刷物が得られず、逆圧砂目が浅い
場合には実用的に十分な保水性が得られないため印刷中
に汚れを生ずるか、湿し水の調節中の狭い、新開・刷り
難い印刷版であり、また、インキ受容性物質の接着性が
不十分なために一数枚の印刷に耐えられない他、一般に
アルミニラ−材は折り曲げ強度が小さいたぬ、特にオフ
セット輪転機の如き高速回転の印刷機で印刷する場合に
はくわえ切れ、版切れを生ずることがある。
また、通常のクロムメッキ板を使用する場合に社、一般
には表面形状が単純で;トるため圧検水性、インキ受容
性物質との接着性などが不十分である。
には表面形状が単純で;トるため圧検水性、インキ受容
性物質との接着性などが不十分である。
本発明はこれらの欠点を排除−fることを目的とし、マ
スター刷版の画像情報を支持体上に転写して複製印刷版
を作成する方法に於いて、その複製印刷版の耐刷ツバ親
水性、保水性、折り曲げ強度、引張り強度において優れ
、従って画像良好なる印刷物を多数枚、安定して印刷し
得る複製印刷版の製版方法を提供することKある。
スター刷版の画像情報を支持体上に転写して複製印刷版
を作成する方法に於いて、その複製印刷版の耐刷ツバ親
水性、保水性、折り曲げ強度、引張り強度において優れ
、従って画像良好なる印刷物を多数枚、安定して印刷し
得る複製印刷版の製版方法を提供することKある。
本発明の別の目的は上記憔能を有−「ると同時に、従来
より安価な複製印刷版の製版方法を提供すること圧ある
。
より安価な複製印刷版の製版方法を提供すること圧ある
。
本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、原板上に形成され
た硬化固着後インキ受容性を有する物質の画像を、オフ
セット印刷法により支持体、ヒに転写する印刷版の製版
方法におい′C1該支持体として下記構成のものを使用
することにJ:り上記目的を達成しうろことを見い出し
た。即ち本発明において使用する支持体は鉄材上にクロ
ムwL着層を有する支持体であって、該電着層の表面1
角のある結晶状物が露出した形状を有し、該市、w層の
表面側部の元素組成はクロム及び酸素から実質的になり
、核部のクロム及び酸素の各元組成比が、該表面から同
−深さにおいて、かつ該表面の各部分において実質的に
均一であることを特徴とする。
た硬化固着後インキ受容性を有する物質の画像を、オフ
セット印刷法により支持体、ヒに転写する印刷版の製版
方法におい′C1該支持体として下記構成のものを使用
することにJ:り上記目的を達成しうろことを見い出し
た。即ち本発明において使用する支持体は鉄材上にクロ
ムwL着層を有する支持体であって、該電着層の表面1
角のある結晶状物が露出した形状を有し、該市、w層の
表面側部の元素組成はクロム及び酸素から実質的になり
、核部のクロム及び酸素の各元組成比が、該表面から同
−深さにおいて、かつ該表面の各部分において実質的に
均一であることを特徴とする。
本発明における鉄相は純鉄の他鉄と仙の元素との合金を
包含する。鉄と合金をつく()仙の元素としては炭素、
マンガン、ニッケル等が挙げ「〕れる。
包含する。鉄と合金をつく()仙の元素としては炭素、
マンガン、ニッケル等が挙げ「〕れる。
合金としては、具体的には炭素鋼(#A素(0,04〜
1.71)と鉄の合金)、炭素鋼より炭素含有率の高い
鋳、鉄、更忙他の元素(例えばマンガン、ニッケル、ク
ロム、コバルト、タングステン、モリブデン)を加えた
特殊鋼(例えばマンガン鋼、ニツクル鋼、クロム鋼、ニ
ッケルークロム鋼)等が挙げられる。−1−記炭素銅と
しては、極軟鋼(炭素0.254以F)、軟鋼(0,2
5〜0.51p )、硬鋼(炭素0.5〜1.0%)、
極硬鋼(炭素1.0係以上)が包含される。
1.71)と鉄の合金)、炭素鋼より炭素含有率の高い
鋳、鉄、更忙他の元素(例えばマンガン、ニッケル、ク
ロム、コバルト、タングステン、モリブデン)を加えた
特殊鋼(例えばマンガン鋼、ニツクル鋼、クロム鋼、ニ
ッケルークロム鋼)等が挙げられる。−1−記炭素銅と
しては、極軟鋼(炭素0.254以F)、軟鋼(0,2
5〜0.51p )、硬鋼(炭素0.5〜1.0%)、
極硬鋼(炭素1.0係以上)が包含される。
又、これらの鉄材忙亜釦、ニッケル、銅、錫等なメッキ
等の手段により積層したものも、本発明の鉄材に包含さ
れる。
等の手段により積層したものも、本発明の鉄材に包含さ
れる。
本発明におけるクロム電着層の角のある結晶状物が露出
した表面形状としては、板状もしくけ、6面体状、例え
ば立方体状の結晶状物、これらの結晶状物の凝集体又は
該結晶状物及び/又は該凝集体の混合物が露出した形状
が好ましい。板状結晶状物としては、多角形、主としc
6角形の板状のものが好ましく、多角形状の面の径は0
.5〜5μmのものが好ましく、厚さは0.01〜0.
8.c+mのものが好ましい。6面体状結晶状物として
は立方体状、特に辺長が0.1〜2μmのものが好まし
い。
した表面形状としては、板状もしくけ、6面体状、例え
ば立方体状の結晶状物、これらの結晶状物の凝集体又は
該結晶状物及び/又は該凝集体の混合物が露出した形状
が好ましい。板状結晶状物としては、多角形、主としc
6角形の板状のものが好ましく、多角形状の面の径は0
.5〜5μmのものが好ましく、厚さは0.01〜0.
8.c+mのものが好ましい。6面体状結晶状物として
は立方体状、特に辺長が0.1〜2μmのものが好まし
い。
上述の「角のある結晶状物」とをよ、球状ないしは、だ
固体状の結晶状物及びこれらが融合し、たものとは異な
り、角ばった結晶状物登意味し、3,000倍ないし3
0,000倍穆度の電子顕微鏡写真において、クロム″
RItTiIi層の表面形状における結晶状に見える突
出部分の有する角が第1図ないし第5図忙示す結晶状物
の角、即ち面角及び稜の曲率半径と同程度またはそれよ
り小であると認められるものを包含する。
固体状の結晶状物及びこれらが融合し、たものとは異な
り、角ばった結晶状物登意味し、3,000倍ないし3
0,000倍穆度の電子顕微鏡写真において、クロム″
RItTiIi層の表面形状における結晶状に見える突
出部分の有する角が第1図ないし第5図忙示す結晶状物
の角、即ち面角及び稜の曲率半径と同程度またはそれよ
り小であると認められるものを包含する。
これらの結晶状物が露出した形状の部分の投影面積率と
しては20%以上が好ましい。ここに、投影面積率は本
発明のm着層を有する支持体面に垂直な方向の投影、即
ち、正投影圧おけるものであって、該面積率は顕微鏡写
真等により測定できる。
しては20%以上が好ましい。ここに、投影面積率は本
発明のm着層を有する支持体面に垂直な方向の投影、即
ち、正投影圧おけるものであって、該面積率は顕微鏡写
真等により測定できる。
本発明の支持体におけるクロムkil1着層表面から妊
ついては表面から増加することなく、又は若干増加した
後じき圧減少しはじめ、クロム原子については表面から
基材側へ向って増加した後、基材に近づ< Icつれて
減少していき、鉄等の基材を構成する原子については、
ある種度の深さのところから存在し、深くなるKっれて
増加していく態様を有する。
ついては表面から増加することなく、又は若干増加した
後じき圧減少しはじめ、クロム原子については表面から
基材側へ向って増加した後、基材に近づ< Icつれて
減少していき、鉄等の基材を構成する原子については、
ある種度の深さのところから存在し、深くなるKっれて
増加していく態様を有する。
本発明におけるクロムil1着層は、基材側においては
実質的に基材を構成する原子及びクロム原子から構成さ
れ、かつ該基材忙近づく忙つれて基材を構成する原子の
構成比は大に、クロム原子の構成比は小に連続的圧変化
している。本発明においてクロム電着層とは、支持体表
面から、基材を構成する原子の構成原子数とクロム原子
の・構成原子数が一致するところまでをいい、その厚さ
はo、oi〜10μmが好ましく、特に0.01〜4μ
mが好ましい。
実質的に基材を構成する原子及びクロム原子から構成さ
れ、かつ該基材忙近づく忙つれて基材を構成する原子の
構成比は大に、クロム原子の構成比は小に連続的圧変化
している。本発明においてクロム電着層とは、支持体表
面から、基材を構成する原子の構成原子数とクロム原子
の・構成原子数が一致するところまでをいい、その厚さ
はo、oi〜10μmが好ましく、特に0.01〜4μ
mが好ましい。
この膜厚tまケイ光X線分析忙より、基準の膜厚既知の
クロムメッキ層により、予め作成しておいた検量線から
定量して平均値として求めることがでキル。ココで、[
クロム電着層が基利側忙おいては実質的に基材を構成す
る原子及びクロム原子から構成される」とは、基材を構
成する原子及びクロム原子の各原子の構成比率の合計が
609に以]二であることを意味する。
クロムメッキ層により、予め作成しておいた検量線から
定量して平均値として求めることがでキル。ココで、[
クロム電着層が基利側忙おいては実質的に基材を構成す
る原子及びクロム原子から構成される」とは、基材を構
成する原子及びクロム原子の各原子の構成比率の合計が
609に以]二であることを意味する。
本発明において「クロム[511層の表面側部Jとは#
電着層表面から基材を構成する原子の原子数比率が20
’lをこえるところまでをいい、「表面側部の元素・、
組成はクロム及び酸素から実質的になる− ゛とは、ク
ロム原子及び酸素原子の各原子数比率の合計が50俤以
上であ、・ることを意味し、クロム原子及び酸素原子以
外に、本発明の効果を阻害しない範囲でこれら以外の成
分、例えば、炭素原子、塩素原子、硫黄原子、カルシウ
ム、窒素原子、フッ素原子等を含んでいても差し支えな
いことを意味する。
電着層表面から基材を構成する原子の原子数比率が20
’lをこえるところまでをいい、「表面側部の元素・、
組成はクロム及び酸素から実質的になる− ゛とは、ク
ロム原子及び酸素原子の各原子数比率の合計が50俤以
上であ、・ることを意味し、クロム原子及び酸素原子以
外に、本発明の効果を阻害しない範囲でこれら以外の成
分、例えば、炭素原子、塩素原子、硫黄原子、カルシウ
ム、窒素原子、フッ素原子等を含んでいても差し支えな
いことを意味する。
上記原子数比率は、光電子分光法(例えばX線光電子分
光法等)、及びオージェ電子分光法等の表面分析手段に
より求めることができる。
光法等)、及びオージェ電子分光法等の表面分析手段に
より求めることができる。
本発明化おける支持体のクロム電着層の深、さ方向元素
分布は、オージェ電千分光法忙よって求められ−P@r
kin E1m@r If製走葺型オージェ遁子顕微
鏡(Seanning Auger Mieropro
be ) PH1,Model 595による局所分析
により、クロム電着層の表面側の各部分における各種の
深さでの原子数比率が求められる。
分布は、オージェ電千分光法忙よって求められ−P@r
kin E1m@r If製走葺型オージェ遁子顕微
鏡(Seanning Auger Mieropro
be ) PH1,Model 595による局所分析
により、クロム電着層の表面側の各部分における各種の
深さでの原子数比率が求められる。
本発明の支持体のクロムm着層の表面側部の元素組成は
表面の法線上の深さ方向におけるクロム及びW/素の原
子数比率変化において、表面から、Xnmの深さにおけ
る、クロムの原子数比率Ya%が式(I) Ya 4−
0.464X” + 7.82X +70 (04X
46)及び式(IJ) y机’@ −0,0398X”
+ 1.99 X +15(0≦X≦25)の条件式
をみたす範囲内にあり、酸1/GF)IjK子数比率Y
b%が式(m) Yb≦0,0884 X” −4,4
6X −+−80(04Xj 25 )及び式(IV)
Yb 、lTh O,5X”−8,1X+20 (0
4X43 )の条件をみたす範囲白化あり、更に、Ya
及びybの和が式(V)Ys+Yb 、4−0.018
7 X” + 1.23 X + 50 (但し、04
−X425)をみたす範囲内にあることが好ましい。又
、X nm (1,0nmにおいてYb > Yaであ
り、Ya = Ybになる深さX6 nmが1.04
Xo−e−14,0である場合が更に好ましく、特忙好
ましいのは1.54 X648の場合である。
表面の法線上の深さ方向におけるクロム及びW/素の原
子数比率変化において、表面から、Xnmの深さにおけ
る、クロムの原子数比率Ya%が式(I) Ya 4−
0.464X” + 7.82X +70 (04X
46)及び式(IJ) y机’@ −0,0398X”
+ 1.99 X +15(0≦X≦25)の条件式
をみたす範囲内にあり、酸1/GF)IjK子数比率Y
b%が式(m) Yb≦0,0884 X” −4,4
6X −+−80(04Xj 25 )及び式(IV)
Yb 、lTh O,5X”−8,1X+20 (0
4X43 )の条件をみたす範囲白化あり、更に、Ya
及びybの和が式(V)Ys+Yb 、4−0.018
7 X” + 1.23 X + 50 (但し、04
−X425)をみたす範囲内にあることが好ましい。又
、X nm (1,0nmにおいてYb > Yaであ
り、Ya = Ybになる深さX6 nmが1.04
Xo−e−14,0である場合が更に好ましく、特忙好
ましいのは1.54 X648の場合である。
なお、上記の表面からの深さは下記の深さ方向分析に基
づき変換により求ぬたものである。
づき変換により求ぬたものである。
前記PHI Model 595 Kよる深さ方向分析
の測定条件はイオン銃としてはアルゴンイオンを使用し
、エツチング速度は酸化タリウム(Ta@0@ )
を基準として20A/分以下(aI厚既知のTagOl
をエツチングする時間より求めた。)で行ない、更に元
素組成比の計算に際しては、使用したオージェスペクト
ル(微分形)のピーク強度は、クロムについては529
evのピーク、酸素については503・Vのビーク化
量してのもので、クロムと酸素の相対感度は、L、E、
Davls 、 P、W、Palmberg e G、
E、Rlaeh 、 R,E。
の測定条件はイオン銃としてはアルゴンイオンを使用し
、エツチング速度は酸化タリウム(Ta@0@ )
を基準として20A/分以下(aI厚既知のTagOl
をエツチングする時間より求めた。)で行ない、更に元
素組成比の計算に際しては、使用したオージェスペクト
ル(微分形)のピーク強度は、クロムについては529
evのピーク、酸素については503・Vのビーク化
量してのもので、クロムと酸素の相対感度は、L、E、
Davls 、 P、W、Palmberg e G、
E、Rlaeh 、 R,E。
W@b@r 、 N、C,MaeDonald著” t
landbook of AugerElectron
8p@etroseopy s@e、*d、 ” (
Physteal l1eetro −nlcs Dl
vlslon P@rkin −K1m@r Corp
、発行1976年)K記載されている値を用いる。又−
次間子線の直径は500A〜1μmに絞って結晶状部分
と非結晶状部分を区別し微少領域分析を行なう。結晶状
部分の測定忙際して、−次間子線は結晶状部分の中心部
に正確に照射させ、結晶状部分の縁が該ビーム照射領域
に含まれないよう忙して行なう。例えば、板状結晶部忙
ついては、該平面部中心細化照射させる。またエツチン
グのイオンビームは結晶状部面及び比結晶状部面に対し
45°〜90’の入射角で照射す□る。この際、分析個
所にない周囲の他の結晶状物等により該イオンビームの
分析個所への□入射が妨害されてはならない。更に一次
電子銃と電子エネルキー分析器とは同方向軸に設置され
ている(コ了キシャルタ・イブ)ものが本測定忙望まし
い。
landbook of AugerElectron
8p@etroseopy s@e、*d、 ” (
Physteal l1eetro −nlcs Dl
vlslon P@rkin −K1m@r Corp
、発行1976年)K記載されている値を用いる。又−
次間子線の直径は500A〜1μmに絞って結晶状部分
と非結晶状部分を区別し微少領域分析を行なう。結晶状
部分の測定忙際して、−次間子線は結晶状部分の中心部
に正確に照射させ、結晶状部分の縁が該ビーム照射領域
に含まれないよう忙して行なう。例えば、板状結晶部忙
ついては、該平面部中心細化照射させる。またエツチン
グのイオンビームは結晶状部面及び比結晶状部面に対し
45°〜90’の入射角で照射す□る。この際、分析個
所にない周囲の他の結晶状物等により該イオンビームの
分析個所への□入射が妨害されてはならない。更に一次
電子銃と電子エネルキー分析器とは同方向軸に設置され
ている(コ了キシャルタ・イブ)ものが本測定忙望まし
い。
上記の表面からの深さXnmは前記エツチング速度から
エツチング時間を深さに変換したもので、すべての組成
物を酸化クロム(Cr1O@ ) として計算したも
のである。更に前記元素組成比は単位面積当りの原子数
の比を示す。
エツチング時間を深さに変換したもので、すべての組成
物を酸化クロム(Cr1O@ ) として計算したも
のである。更に前記元素組成比は単位面積当りの原子数
の比を示す。
クロム冠着層表面側部のクロト及び酸素の各元素組成比
が該表面から同−深さIF、 ’h;いて、かつ該表面
の各部分において実質的に均一であるとは。
が該表面から同−深さIF、 ’h;いて、かつ該表面
の各部分において実質的に均一であるとは。
表面の結晶状物が露出した形・状の部分、その他の部分
1問わず、クロム及び酸素の各元素組成比が実質的に回
−であることを意味し、実質的Vこ同一とは各部分にお
りる深さ方向の元素分布においてXoの値が±80チ以
内の誤差範囲内にあることを意味する。上記誤差とは、
2つの値の差を両者のうち大きい方の値で割り、100
を乗じたものである。
1問わず、クロム及び酸素の各元素組成比が実質的に回
−であることを意味し、実質的Vこ同一とは各部分にお
りる深さ方向の元素分布においてXoの値が±80チ以
内の誤差範囲内にあることを意味する。上記誤差とは、
2つの値の差を両者のうち大きい方の値で割り、100
を乗じたものである。
本発明のクロム電着層の表面側部は深さ方向の元素分析
から、クロム酸化物(この酸化物にけ水和物も包含され
る。)及び金属クロムから実質的に構成され、深くなる
につれて金属クロムの比率が多くなっていると判断され
る。クロム酸化物としては2価、3価又は6価のクロム
の酸化物が挙げられるが主として3価クロムの酸化物で
ある。
から、クロム酸化物(この酸化物にけ水和物も包含され
る。)及び金属クロムから実質的に構成され、深くなる
につれて金属クロムの比率が多くなっていると判断され
る。クロム酸化物としては2価、3価又は6価のクロム
の酸化物が挙げられるが主として3価クロムの酸化物で
ある。
第1.図〜第5図は、本発明で使用する代表的な支持体
のクロム電着層表面を走査式電子顕微鏡を用いて撮影し
た写真であり、第1図〜第4図は、各種の板状結晶物が
、第5図は立方体結晶状物の凝集体が露出した形状を有
するものである。
のクロム電着層表面を走査式電子顕微鏡を用いて撮影し
た写真であり、第1図〜第4図は、各種の板状結晶物が
、第5図は立方体結晶状物の凝集体が露出した形状を有
するものである。
不発明忙おいて使用する支持体を製造する好ましい方法
としては例えば表IK示す電解液1を冷却または加熱し
て液温を調節し、表2に示す電解条件1で電解処理を行
なうものである。この電解液lは鉄材の表面に本発明の
電着クロム層を形成1°るたM)の*、*クロム層生成
液である。
としては例えば表IK示す電解液1を冷却または加熱し
て液温を調節し、表2に示す電解条件1で電解処理を行
なうものである。この電解液lは鉄材の表面に本発明の
電着クロム層を形成1°るたM)の*、*クロム層生成
液である。
表1 m 解 液 1
無水クロムrtR(Cry’s) 100〜500
gバリウム化合物 1〜109 弗什物1例えば弗化水素(HF) 0〜20g硝
酸 0〜log酢 r
110〜1g 水で全体を1〆とする。
gバリウム化合物 1〜109 弗什物1例えば弗化水素(HF) 0〜20g硝
酸 0〜log酢 r
110〜1g 水で全体を1〆とする。
表2 m解条件1
直流電圧 5〜15(V)電流密度
5〜50 A/dm”液 温
0〜60℃陰 極
鉄 相隣 極 鉛電
極陰極と陽極との面積比 l:1〜1 :
1.5処理時間 2〜6分 この方法については本出願人による昭和57年6月18
日付出願の特許願(3) K添伺した明細書(発明の名
称[平版印刷版用支持体の製造方法J)、に詳しく記載
されている。
5〜50 A/dm”液 温
0〜60℃陰 極
鉄 相隣 極 鉛電
極陰極と陽極との面積比 l:1〜1 :
1.5処理時間 2〜6分 この方法については本出願人による昭和57年6月18
日付出願の特許願(3) K添伺した明細書(発明の名
称[平版印刷版用支持体の製造方法J)、に詳しく記載
されている。
角のある結晶状物及び/又はその凝集体である突起部を
有するクロム軍着層を鉄材上に設ける別の好ましい方法
は、(cr”) / [soa”−〕(ここK (Cr
”’)はCr’+のイオン11度を、[F2O3”)は
804′−のイオン濃度を表わす。)が75〜180の
めっき液中、電流密度100 A/dm”以下、温度4
0℃以下で、30秒間以上電解処理して鉄材上K @、
着被被覆する方法である。該めっき液中、(c r@
+ )は0.2〜4.5モル/lが好ましく、0.5〜
3モル/lが特に好ましい。[804”−)は0.01
〜0.046−f−ル/ lが好ましく、0.015〜
0.03モルが特に好ましい。Cr” ”供給源として
は無水クロム酸が好ましく、so4”−供給源としては
硫酸が好ましい。
有するクロム軍着層を鉄材上に設ける別の好ましい方法
は、(cr”) / [soa”−〕(ここK (Cr
”’)はCr’+のイオン11度を、[F2O3”)は
804′−のイオン濃度を表わす。)が75〜180の
めっき液中、電流密度100 A/dm”以下、温度4
0℃以下で、30秒間以上電解処理して鉄材上K @、
着被被覆する方法である。該めっき液中、(c r@
+ )は0.2〜4.5モル/lが好ましく、0.5〜
3モル/lが特に好ましい。[804”−)は0.01
〜0.046−f−ル/ lが好ましく、0.015〜
0.03モルが特に好ましい。Cr” ”供給源として
は無水クロム酸が好ましく、so4”−供給源としては
硫酸が好ましい。
6価りロムイオン濃度と硫酸イオンIII[)比((C
r”) / (804”−) )は75〜180であり
、好ましくは80〜130の範囲である。本発明のめっ
き液には池にフッ素化合物やストロンチウム化合物等も
含ホすることができる。フッ素化合物としては、フッ化
アンモニウム、ケイフッ化ソーダ、ケイフッI!I1.
ケイフフ化クロム等が挙げられる。ストロンチウム化合
物としては、1Mi!Itストロンチウム、クロム酸ス
トロンナウム等が挙げられる。フッ素化合物の添加量は
0.5〜1077/lであり、ストロンチウム化合物の
添加量は3〜209/lである。
r”) / (804”−) )は75〜180であり
、好ましくは80〜130の範囲である。本発明のめっ
き液には池にフッ素化合物やストロンチウム化合物等も
含ホすることができる。フッ素化合物としては、フッ化
アンモニウム、ケイフッ化ソーダ、ケイフッI!I1.
ケイフフ化クロム等が挙げられる。ストロンチウム化合
物としては、1Mi!Itストロンチウム、クロム酸ス
トロンナウム等が挙げられる。フッ素化合物の添加量は
0.5〜1077/lであり、ストロンチウム化合物の
添加量は3〜209/lである。
本発明における電解条件としては、電流密度が10OA
/ di 以’F Y: fn t)、好マシくは10
〜30A/diの範囲である。更にめりき浴温度は、好
ましくは0〜40℃、特忙好ましくは10〜30℃の範
囲である。
/ di 以’F Y: fn t)、好マシくは10
〜30A/diの範囲である。更にめりき浴温度は、好
ましくは0〜40℃、特忙好ましくは10〜30℃の範
囲である。
浴温と電流密度の関係は、浴温か高いときKは電流密度
を高くし、浴温か低いときには電流密度も低くするのが
好ましい。好ましくは浴温ρ±4℃と電流密度15〜2
0 A/ diの組合わせである。この方法については
、本出願人圧よる昭和57年6月(9)日イリの特許願
に添付した明細書(発明の名称[゛平版印刷版用支持体
の製造方法」)に詳しく記載されている。
を高くし、浴温か低いときには電流密度も低くするのが
好ましい。好ましくは浴温ρ±4℃と電流密度15〜2
0 A/ diの組合わせである。この方法については
、本出願人圧よる昭和57年6月(9)日イリの特許願
に添付した明細書(発明の名称[゛平版印刷版用支持体
の製造方法」)に詳しく記載されている。
クロム軍着層を設ける工程(本処理)の前後九適当な前
処理や後処理を施すことも可能である。
処理や後処理を施すことも可能である。
前処理工程としては例えば次の方法が挙げられる。表3
に示す電解液2に対向陰極電極として鉄板を用い、表4
に示す電解条件2でl屑処理を行なう。
に示す電解液2に対向陰極電極として鉄板を用い、表4
に示す電解条件2でl屑処理を行なう。
表3 1111f 液 2
無水りts A @ 80〜200 g硝
酸(64俤)0.5〜l#+7!水で17!!とす
る。
酸(64俤)0.5〜l#+7!水で17!!とす
る。
表4 電 解 条 件 2
直流電圧 4〜10 V
電流密度 2〜IOA/dm液 温
10℃〜40℃陽 極
鉄 材陰極と陽極との面積比
1:1処理時間 30秒〜5分 このようにして前処理した鉄材にシャワーにより水を吹
きかけ水洗したのち本処理工程圧移る。
10℃〜40℃陽 極
鉄 材陰極と陽極との面積比
1:1処理時間 30秒〜5分 このようにして前処理した鉄材にシャワーにより水を吹
きかけ水洗したのち本処理工程圧移る。
後処理工程として好ましい方法とt、 ’rは次の方法
が挙げられる。
が挙げられる。
クロム電解層を有する鉄材を必要に応じて酸又はアルカ
リ水溶液にて洗浄した後、過マンガン酸基水溶液の表面
処理液にて表面処3!lする。
リ水溶液にて洗浄した後、過マンガン酸基水溶液の表面
処理液にて表面処3!lする。
上記の表面処理液中に使用される過マンガン酸塩の好ま
しいものとしては、過マンガン酸リチウム、過マンガン
酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ル
ビジウム、過マンガン酸カルシウム、過マンガン酸ノ(
リウム等がある。使用される表面処理液中の過マンガン
酸塩の#度は、0.05〜10重量%が好ま、シく、特
に好ましくは1.0〜5.0重il係である。処理液の
温度は0〜80℃が好ましく、特に好ましくは四〜50
’Cである。この方法については本出願人による昭和5
7年6月18日付特許願(5)に添付した明細書(発明
の名称「平版印刷版用支持体の製造方法」)に更に詳し
く記載されている。
しいものとしては、過マンガン酸リチウム、過マンガン
酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ル
ビジウム、過マンガン酸カルシウム、過マンガン酸ノ(
リウム等がある。使用される表面処理液中の過マンガン
酸塩の#度は、0.05〜10重量%が好ま、シく、特
に好ましくは1.0〜5.0重il係である。処理液の
温度は0〜80℃が好ましく、特に好ましくは四〜50
’Cである。この方法については本出願人による昭和5
7年6月18日付特許願(5)に添付した明細書(発明
の名称「平版印刷版用支持体の製造方法」)に更に詳し
く記載されている。
後処理工程として別の好ま【、い方法は、次の方法であ
る。
る。
クロム電解層を有する鉄材を必要に応じて酸またはアル
カリ水溶液にて洗浄した後、水溶性高分子化合物、並び
にカルシウム、マグネシウム、亜鉛%/’IJウム、ス
)0ンチウム、コバルト、マンガン、ニッケルおよびシ
リコンの水溶性塩から選ばれた少なくとも1つを含む溶
液の表面処理液にて表面処理する。
カリ水溶液にて洗浄した後、水溶性高分子化合物、並び
にカルシウム、マグネシウム、亜鉛%/’IJウム、ス
)0ンチウム、コバルト、マンガン、ニッケルおよびシ
リコンの水溶性塩から選ばれた少なくとも1つを含む溶
液の表面処理液にて表面処理する。
水溶性高分子化合物としては、 0.01%以」:の溶
解度を有するものが好ましい。好ましい水溶性高分子化
合物としては、例えばアラピアガム、デンプン、デキス
トリン、アルギン酸ナトリウム、ゼラチン等の天然高分
子化合物、水溶性セルロース系化合物、例えばカルボキ
シアルキルセルロースの水溶性塩(アルキルとしてはメ
チル、工苧ル、プロピル等)、アルキルセルロース、f
lip−ハメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルセルロース等、ポリアクリル酸またはその水溶性塩、
ポリメタクリル酸またはその水溶性塩、アクリル酸共重
合体またはその水溶性塩、メタクリル酸共重合体または
その水溶性塩、スチレン−無水?L/イン酸共重合体、
ポリビニルアルコール、ポリ了クリルアミド、ポリビニ
ルピロリドン等の合成高分子化合物、ここの高分子化合
物の水溶性塩としてはナトリウム塩、カリウム塩が挙げ
られる。
解度を有するものが好ましい。好ましい水溶性高分子化
合物としては、例えばアラピアガム、デンプン、デキス
トリン、アルギン酸ナトリウム、ゼラチン等の天然高分
子化合物、水溶性セルロース系化合物、例えばカルボキ
シアルキルセルロースの水溶性塩(アルキルとしてはメ
チル、工苧ル、プロピル等)、アルキルセルロース、f
lip−ハメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルセルロース等、ポリアクリル酸またはその水溶性塩、
ポリメタクリル酸またはその水溶性塩、アクリル酸共重
合体またはその水溶性塩、メタクリル酸共重合体または
その水溶性塩、スチレン−無水?L/イン酸共重合体、
ポリビニルアルコール、ポリ了クリルアミド、ポリビニ
ルピロリドン等の合成高分子化合物、ここの高分子化合
物の水溶性塩としてはナトリウム塩、カリウム塩が挙げ
られる。
以上の各種の水溶性高分子化合物は単独または2種以上
併用してもよい。水溶性高分子化合物の中でもデンプン
、デキストリン、等の天然高分子化合物および水溶性セ
ルロース化合物が好ましい。
併用してもよい。水溶性高分子化合物の中でもデンプン
、デキストリン、等の天然高分子化合物および水溶性セ
ルロース化合物が好ましい。
また分子量としては500〜1,000,000のもの
が好ましく用いられる。
が好ましく用いられる。
水溶性高分子化合物と共に用いられる水溶性塩として好
ましいのは0.01%以上の溶解度を有するものであり
、特に無機酸または有機酸のカルシウム、マグネシウム
、亜鉛、バリウム、ストロンチウム、コバルト、マンガ
ン、ニック°ルオヨヒシリコンの増である。代表的な有
機iW場は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、コハク酸、安
息香酸、ザリチル酸のようなカルボン酸の塙およびアセ
チルアセ単独または2種以上併用してもよい。
ましいのは0.01%以上の溶解度を有するものであり
、特に無機酸または有機酸のカルシウム、マグネシウム
、亜鉛、バリウム、ストロンチウム、コバルト、マンガ
ン、ニック°ルオヨヒシリコンの増である。代表的な有
機iW場は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、コハク酸、安
息香酸、ザリチル酸のようなカルボン酸の塙およびアセ
チルアセ単独または2種以上併用してもよい。
水溶性J1としては、有機酸塩が特に好ましく、またカ
ルシウム、マグネシウム、バリウムおよび亜鉛の塩が特
に好ましい。この方法により形成される水溶性高分子化
合物および水溶性塩を含む層の皮膜量としては0.00
1〜1ダ/d7FL′が好ましく、特に0.05〜0.
5 tny/ dm’が好ましい。この方法及び形成゛
される皮膜については本出願人にJ:る昭和57年6月
18日付特許願(6)に添付した明細書(発明の名称「
平版印刷版用支持体及びその製造方法」)に更忙絆しく
記載されている。
ルシウム、マグネシウム、バリウムおよび亜鉛の塩が特
に好ましい。この方法により形成される水溶性高分子化
合物および水溶性塩を含む層の皮膜量としては0.00
1〜1ダ/d7FL′が好ましく、特に0.05〜0.
5 tny/ dm’が好ましい。この方法及び形成゛
される皮膜については本出願人にJ:る昭和57年6月
18日付特許願(6)に添付した明細書(発明の名称「
平版印刷版用支持体及びその製造方法」)に更忙絆しく
記載されている。
本発明の支持体はその電着クロム層の持つ表面形状のた
め、硬化固着後インキ受溶性を有する物質な受けいれ、
且つ、接菅性にも優れている。
め、硬化固着後インキ受溶性を有する物質な受けいれ、
且つ、接菅性にも優れている。
更に印刷時において保水性が良く、水の管理が容易であ
り、多数枚の印刷に耐えることができる。
り、多数枚の印刷に耐えることができる。
その他、基盤としての鉄材またり鋼材1+:j、 、ア
ルミ材などと比べると折り曲げ強度、引張り強度が大で
あるので、本発明に使用される支持体を用いて製版され
た複製印刷版は印刷中にくわえ切れ、版切れを生ずるこ
とがなく、また、安価な金属であるため□製版コスト的
にも非常に有利である。
ルミ材などと比べると折り曲げ強度、引張り強度が大で
あるので、本発明に使用される支持体を用いて製版され
た複製印刷版は印刷中にくわえ切れ、版切れを生ずるこ
とがなく、また、安価な金属であるため□製版コスト的
にも非常に有利である。
本発明の製版方法により複製印刷版を作成する方法、す
なわち、原板上に形成された硬化固着稜インキ受容性を
有する物質の画像を、オフセット印刷法によりクロム系
被覆処理済鉄材または鋼材に転写1−る具体的方法妊つ
いては、日本公開1wf許公報昭55−46973号明
細書、同昭53−100005号明細書に記載されてい
る方法がそのまま適用される。
なわち、原板上に形成された硬化固着稜インキ受容性を
有する物質の画像を、オフセット印刷法によりクロム系
被覆処理済鉄材または鋼材に転写1−る具体的方法妊つ
いては、日本公開1wf許公報昭55−46973号明
細書、同昭53−100005号明細書に記載されてい
る方法がそのまま適用される。
以下、実施例を挙げて本発明を例証するが、これKより
本発明の実施態様が限定されるものではない。
本発明の実施態様が限定されるものではない。
実施例1
厚さ0..15 龍の炭素鋼板に前処理工程として表5
に示す電解液IVC対向電極板どして鉄板を用い、表6
に示す電解条件Iで電解処理を施した。
に示す電解液IVC対向電極板どして鉄板を用い、表6
に示す電解条件Iで電解処理を施した。
表5 K層液I
無水クロム酸 100kg
硝 酸(64チ) 0.81水
1000 1表6 1I
WI東件I 電流密度 4A/dm″ 液 温 25℃陰 極
鉄板(1,2m)陽 極
支持体用鉄板(1,2m)処理時間
1分 このようにして前処理工程を終了した炭素鋼板は、続い
てシャワー水洗を行い、次の本処理工程を施した。本処
理工程の電解液11の組成および電解条件■を表79表
8に示す。
1000 1表6 1I
WI東件I 電流密度 4A/dm″ 液 温 25℃陰 極
鉄板(1,2m)陽 極
支持体用鉄板(1,2m)処理時間
1分 このようにして前処理工程を終了した炭素鋼板は、続い
てシャワー水洗を行い、次の本処理工程を施した。本処
理工程の電解液11の組成および電解条件■を表79表
8に示す。
表7 vI 解 液 B無水クロ
ム酸 430kg 硝酸バリウム 3.8kl?硝 酸(6
4% ) 1−21弗化水素アンモニウム
5 kg酢 酸 0.
2kl?弗化バリウム 0.1に9 水 1000 1表
8 Wl解条件11 電流密度 20 A/dm”液温度
30℃ 陰 極 支持体用鉄板(1,2
ya”)陽 極 鉛 板(1,
6ば)処理時間 3分 電解液11を調液する際、先ず弗化水素−rンモニウム
と弗化バリウムを除いた電解液で予備電解を行ない、次
に前記2つの弗化物を加えて電解液■とする。
ム酸 430kg 硝酸バリウム 3.8kl?硝 酸(6
4% ) 1−21弗化水素アンモニウム
5 kg酢 酸 0.
2kl?弗化バリウム 0.1に9 水 1000 1表
8 Wl解条件11 電流密度 20 A/dm”液温度
30℃ 陰 極 支持体用鉄板(1,2
ya”)陽 極 鉛 板(1,
6ば)処理時間 3分 電解液11を調液する際、先ず弗化水素−rンモニウム
と弗化バリウムを除いた電解液で予備電解を行ない、次
に前記2つの弗化物を加えて電解液■とする。
このようにして本処理工程を終了した炭素鋼板は、続い
てシャワー水洗を行い、次の後処理工程に移した。後処
理工程では、先ヤはじ?f)に5チカセイソーダ水溶液
に、40℃にて1分間浸漬し1.・続(・てシャワー水
洗を行い、次にカルポキシメチハ・−統ルロースナトリ
ウム堪水陪液(0,07重[1)に室温にて約1分間浸
漬し、続いてシャワー水洗を行なった。後処理工程を終
了した後、冷風にて乾燥を行なった。
てシャワー水洗を行い、次の後処理工程に移した。後処
理工程では、先ヤはじ?f)に5チカセイソーダ水溶液
に、40℃にて1分間浸漬し1.・続(・てシャワー水
洗を行い、次にカルポキシメチハ・−統ルロースナトリ
ウム堪水陪液(0,07重[1)に室温にて約1分間浸
漬し、続いてシャワー水洗を行なった。後処理工程を終
了した後、冷風にて乾燥を行なった。
前記の方法で製造した電着クロム層を有する支持体の表
面には、微粒子集合体の地をまだの上に板状結晶状物が
突出して散在する表面が形成さitていることが電子顕
微鏡写真(第1.2図)で確堅された。また形成された
に着クロム層表面につ(1て、オージェ電子分析装置(
Perkln Ebn@rネ十製走査型オージェ電子顕
微鏡PHI Model 595 ) f−用いてその
組成を分析し、第6図及び第7図に示す深ざ方向の元素
分析結果を得た。第6r5!Jは結晶状物が露出した部
分についてのものでtlす、第7図は非露出・部分につ
いてのものである。
面には、微粒子集合体の地をまだの上に板状結晶状物が
突出して散在する表面が形成さitていることが電子顕
微鏡写真(第1.2図)で確堅された。また形成された
に着クロム層表面につ(1て、オージェ電子分析装置(
Perkln Ebn@rネ十製走査型オージェ電子顕
微鏡PHI Model 595 ) f−用いてその
組成を分析し、第6図及び第7図に示す深ざ方向の元素
分析結果を得た。第6r5!Jは結晶状物が露出した部
分についてのものでtlす、第7図は非露出・部分につ
いてのものである。
測定条件は、イオン銃: 4 KsV 、 25 mA
+raster5wX5ms アルゴンイオン使用
、エツチング速度: Tm=Oe を基準として20A
/分、−次電子銃:10 K@V%電子線の直径は約5
0OAに絞り、結晶状物の分析の際は、第1.2図にお
けるような板状結晶部の平面部中心に電子線を照射させ
、照射領域内に結晶部の緑が含まれないようにして、イ
オンビームは板状結晶状部の平面部に対して峰ぼ90’
近い入射角度で照射させ、分析個所の板状結晶でないぞ
・の周囲の他の板状結晶物によりイオンビームの分析個
所への入射が妨害されないように測定対象の結晶状物を
選択した。又測定の前後で、分析個所の板状結晶状部が
正しくエツチングされているかを上記PHI Mode
l 595の走査型電子顕微鎖で確認した。
+raster5wX5ms アルゴンイオン使用
、エツチング速度: Tm=Oe を基準として20A
/分、−次電子銃:10 K@V%電子線の直径は約5
0OAに絞り、結晶状物の分析の際は、第1.2図にお
けるような板状結晶部の平面部中心に電子線を照射させ
、照射領域内に結晶部の緑が含まれないようにして、イ
オンビームは板状結晶状部の平面部に対して峰ぼ90’
近い入射角度で照射させ、分析個所の板状結晶でないぞ
・の周囲の他の板状結晶物によりイオンビームの分析個
所への入射が妨害されないように測定対象の結晶状物を
選択した。又測定の前後で、分析個所の板状結晶状部が
正しくエツチングされているかを上記PHI Mode
l 595の走査型電子顕微鎖で確認した。
又、元素組成比の計NK関しで、使用したオージェスペ
クトル(微分形)のピーク強度は、クロムは529 e
vのピーク、酸素は503 sVのピークのものであり
、クロムの相対感度を0.28、r!IIl素の相対感
度を0.35とした。第6図及び第7図の一横軸の表面
からの深さは、前記エツチング速度から、エツチング時
間を深さに変換したもので、すべての組成物をCr1O
Hとみなして計算したものである。
クトル(微分形)のピーク強度は、クロムは529 e
vのピーク、酸素は503 sVのピークのものであり
、クロムの相対感度を0.28、r!IIl素の相対感
度を0.35とした。第6図及び第7図の一横軸の表面
からの深さは、前記エツチング速度から、エツチング時
間を深さに変換したもので、すべての組成物をCr1O
Hとみなして計算したものである。
更に5第8図は結晶状物が語用していない部分について
、基材に到るまでエツチングして得た深さ方向の分析結
果である。測定条件tよ、エツチング速度を85^/分
(’i’a、o。を基準として)とした以外は上記と同
じである。第8図の横軸は上M+2と同様にエツチング
時間を深さに変換したもので、すべて組成物を酸化クロ
ム(Cr10g )とみなして計算したものである。又
、結晶部物についても同様に基材の鉄に到るまでエツチ
ングしC第8図と同様の深さ方向の元素分布が得られた
。これらの結果から、基材側において、実質的に鉄原子
及びクロム原子から構成され、かつ該基材に近づくにつ
れて鉄の構成比は大忙、クロム原子の構成比は小に連続
的に変化していることがわかる。
、基材に到るまでエツチングして得た深さ方向の分析結
果である。測定条件tよ、エツチング速度を85^/分
(’i’a、o。を基準として)とした以外は上記と同
じである。第8図の横軸は上M+2と同様にエツチング
時間を深さに変換したもので、すべて組成物を酸化クロ
ム(Cr10g )とみなして計算したものである。又
、結晶部物についても同様に基材の鉄に到るまでエツチ
ングしC第8図と同様の深さ方向の元素分布が得られた
。これらの結果から、基材側において、実質的に鉄原子
及びクロム原子から構成され、かつ該基材に近づくにつ
れて鉄の構成比は大忙、クロム原子の構成比は小に連続
的に変化していることがわかる。
この支持体を叢生サイズに断裁した徒、大日本スクリー
ン社製自動校正機KF−122−Eの被印刷部にセット
し、原板としては150線の網点画像原稿をさくらPS
[SMP (小西六写真工業jl#)に熱き付は現像し
て製版したものを用い支持体上に印刷忙より画像を転写
した。転写インキは紫外線硬化インキ(大日本インキ製
ダイキュ了)を使用し、転写後、2に%V高圧水鎖灯下
、距離60 cmに露光硬化処理を施し複製印刷版な得
た。
ン社製自動校正機KF−122−Eの被印刷部にセット
し、原板としては150線の網点画像原稿をさくらPS
[SMP (小西六写真工業jl#)に熱き付は現像し
て製版したものを用い支持体上に印刷忙より画像を転写
した。転写インキは紫外線硬化インキ(大日本インキ製
ダイキュ了)を使用し、転写後、2に%V高圧水鎖灯下
、距離60 cmに露光硬化処理を施し複製印刷版な得
た。
この複製印刷版をオフセット輪転印刷機にかけ3万部の
印刷を行なったが網点を鮮明KFv現した画像良好な印
刷物が得られ、印刷中に湿し水量を減少しても汚れや、
からみを発生することがなく、また、刷り始めと刷子時
の印刷物を比較しても殆んど差異のないことが認められ
た。刷子後、くわえ部を点検したが損傷はなく、くわえ
切れの危険性はなかった。
印刷を行なったが網点を鮮明KFv現した画像良好な印
刷物が得られ、印刷中に湿し水量を減少しても汚れや、
からみを発生することがなく、また、刷り始めと刷子時
の印刷物を比較しても殆んど差異のないことが認められ
た。刷子後、くわえ部を点検したが損傷はなく、くわえ
切れの危険性はなかった。
比較例1
実施例のクロム系被覆処理済鉄板の代りに、一般のクロ
ムメッキ鉄板(新日本製鉄社製ティンフリー)を使用し
て実施例と同じく複製印刷版の製版と、それな使用して
の印刷を行なった。
ムメッキ鉄板(新日本製鉄社製ティンフリー)を使用し
て実施例と同じく複製印刷版の製版と、それな使用して
の印刷を行なった。
但し、ティン7 +7−の表面の清浄度が不十分なため
、これを5%メタケイ酸ナトリウム水溶液に40℃で4
分間浸漬して脱脂を行ない、水洗、乾燥後、5%過マン
ガン酸カリウム水溶液に室温忙で1分間浸漬し、次いで
1チ蓚酸水溶液忙室温屹で1分間浸漬後、水洗、乾燥し
゛C表面を清浄後、活□性化した後に用いた。
、これを5%メタケイ酸ナトリウム水溶液に40℃で4
分間浸漬して脱脂を行ない、水洗、乾燥後、5%過マン
ガン酸カリウム水溶液に室温忙で1分間浸漬し、次いで
1チ蓚酸水溶液忙室温屹で1分間浸漬後、水洗、乾燥し
゛C表面を清浄後、活□性化した後に用いた。
複製印刷版の製版過程までは実施例と比較して大きな差
異はなかったが、印刷に於いては親水性、保水性が小十
分なたy)印刷開始直後から非画線部が汚れ、また、約
1,500部の印刷時点で画像部が損傷し、インキ着肉
不良となり、正常な印刷物は得られなかった。
異はなかったが、印刷に於いては親水性、保水性が小十
分なたy)印刷開始直後から非画線部が汚れ、また、約
1,500部の印刷時点で画像部が損傷し、インキ着肉
不良となり、正常な印刷物は得られなかった。
実施例2
厚さ0.1mgの鋼板を実施例1と四様忙して前処理工
程の電解処理を行なった。
程の電解処理を行なった。
このようにして前処理工程を終了した鋼板をシャワー水
洗し、次の本処理工程を施した。本処理工程の電解液■
の組成、および電解条件口を表9および表10に示す。
洗し、次の本処理工程を施した。本処理工程の電解液■
の組成、および電解条件口を表9および表10に示す。
表9 IIK 解 液 ■無水クロムff
400 k!!硝酸バリウム
:3.8kg硝 酸(64チ) 1.26
弗化水素γンモニウム 5 kg酢 酸
0.1kg弗化バリウム
0.1kg 水 100(l
1表10 II解条件■ 電流密度 to p、/arr?液温度
30℃ 陰 極 支持体としての鋼板(1,2
m)陽 極 鉛 板(1,2m
”)処理時間 5分 このようにして本処理工程な終了した鋼板をシャワー水
洗したのち室温で風乾した口 ることが電子顕微鏡写真によって確認された。幀写真の
1例を第5図に示す。又、この形成されたX着りロム層
表面について、実施例1と同様にオージェ電子分析装置
により解析したところ、第6図と類似した深さ方向の元
素分布が得られ、表面近傍が実施例1で製造した支持体
と同じような、クロム及び酸素の構成を有することが確
認された。
400 k!!硝酸バリウム
:3.8kg硝 酸(64チ) 1.26
弗化水素γンモニウム 5 kg酢 酸
0.1kg弗化バリウム
0.1kg 水 100(l
1表10 II解条件■ 電流密度 to p、/arr?液温度
30℃ 陰 極 支持体としての鋼板(1,2
m)陽 極 鉛 板(1,2m
”)処理時間 5分 このようにして本処理工程な終了した鋼板をシャワー水
洗したのち室温で風乾した口 ることが電子顕微鏡写真によって確認された。幀写真の
1例を第5図に示す。又、この形成されたX着りロム層
表面について、実施例1と同様にオージェ電子分析装置
により解析したところ、第6図と類似した深さ方向の元
素分布が得られ、表面近傍が実施例1で製造した支持体
と同じような、クロム及び酸素の構成を有することが確
認された。
次いでこの支持体を用いて実施例1と同様にして複製印
刷版を得た後、印刷を行なった結果、実施例1と同様に
良好な結果が得られた。
刷版を得た後、印刷を行なった結果、実施例1と同様に
良好な結果が得られた。
実施例3
19さ0.1龍の炭素鋼板に無水クロム酸25011/
l 。
l 。
硫酸2.5g/lを含む電解液を用い、浴温20 ℃、
電流密度20 A / dm”、電解時間1分の条件で
クロムメッキを行なった。
電流密度20 A / dm”、電解時間1分の条件で
クロムメッキを行なった。
続いてシャワー水洗を行い、次の後処理工程に移した。
後処理工程では、先ずはじめに5チカセイソーダ水溶液
に40℃にて1分間浸漬し、続いてシャワー水洗を行な
い、次にカルボキシメチルセルロースナトリウム塩と酢
酸カルシウムの水溶液(各々0.07重1%)に室温に
て約1分間浸漬し、続いてシャワー水洗を行なった。後
処理工程を終了した後、冷風忙て乾燥を行なった。
に40℃にて1分間浸漬し、続いてシャワー水洗を行な
い、次にカルボキシメチルセルロースナトリウム塩と酢
酸カルシウムの水溶液(各々0.07重1%)に室温に
て約1分間浸漬し、続いてシャワー水洗を行なった。後
処理工程を終了した後、冷風忙て乾燥を行なった。
この方法で得られた支持体表面の電子顕微鏡写真を第4
図に示す。この支持体を用いて実施例1と同様忙して複
製印刷版を得、印刷を行なったところ、実施例1と同様
忙良好な結果が得られた。
図に示す。この支持体を用いて実施例1と同様忙して複
製印刷版を得、印刷を行なったところ、実施例1と同様
忙良好な結果が得られた。
第1図(写真):板状結晶状物が露出した形状を有する
支持体表面の走査式電子顕微鏡写真(3,000倍、傾
f11角園度)、 第2図(写真):第1図と同じ試料の10,000倍の
走査式電子顕微鏡写真(傾斜角30度)、第3図(写真
):板状結晶状物が露出した形状を有する支持体表面の
走査式電子顕微鏡写真(3,000倍、傾斜角加変)、 第4図(写真):板状結晶状物が露出した形状を有する
支持体表面の走査式電子顕微鏡写真(4,000倍、傾
斜角(資)度)、 第5図(写真)二車方体結晶状物及びその凝集□体が露
出した形状を有する支持体表面の走査式電子顕微鏡写真
(4Q、000倍、傾斜角30度)、第6図:オージェ
(Auger )局所分析(結晶状物露出部)結果を示
すグラフ、 第7図:オージェ(Augor )局所分析(結晶状物
露出部)結果を示すグラフ、 第8図:オージェ(Auger )局所分析結果を示す
グラフ。 代理人桑原義美 ′A″1ノ1 オ≧図 木1. 。 手続補正書(才へ)6゜ 昭和57年特許−149794°す 2、発明の名称 印刷版の製版方法 事(’lとの関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名 称
(+27)小西六写真工業株式会拐代表取締役用本信
彦 居 所 東京都111f中さくら町+ il’i地願
書及び明細書並び忙図面の第6〜第815gI補正の内
容 別紙の通り 明細i及び図面の浄書(内容に変更なし)手続補正書 昭和58イ191目311 91rii’l’1目+’lI若杉和夫殿!−11イ1
1の衣う、 昭和5フイR¥+t’+[i第 !49794 号2
!と明の名ゼト 印刷版の製線方法 3 補11を4ろδ ・lf (’lとの関係 特許出願人 イ1 所 東京都新宿区西新宿IJI12612+〕
名 称 (+271小西・°、7j゛真1.業株式会r
1代ノシ1「ン締良用本信彦 4代理人 〒191 1+’:191 中μ:ミ都11町中さくら町1市
地自発 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 7、補正の内容 発明の詳細な説明を次の如く補正する。 (昭和57年12月17日提出のタイプ浄書(内容に変
更なし)明細書に基づく。) (1) 明細書上、下表の通り補正する。 (2)明細書第イ頁、第2行目〜第5行目を削除する。
支持体表面の走査式電子顕微鏡写真(3,000倍、傾
f11角園度)、 第2図(写真):第1図と同じ試料の10,000倍の
走査式電子顕微鏡写真(傾斜角30度)、第3図(写真
):板状結晶状物が露出した形状を有する支持体表面の
走査式電子顕微鏡写真(3,000倍、傾斜角加変)、 第4図(写真):板状結晶状物が露出した形状を有する
支持体表面の走査式電子顕微鏡写真(4,000倍、傾
斜角(資)度)、 第5図(写真)二車方体結晶状物及びその凝集□体が露
出した形状を有する支持体表面の走査式電子顕微鏡写真
(4Q、000倍、傾斜角30度)、第6図:オージェ
(Auger )局所分析(結晶状物露出部)結果を示
すグラフ、 第7図:オージェ(Augor )局所分析(結晶状物
露出部)結果を示すグラフ、 第8図:オージェ(Auger )局所分析結果を示す
グラフ。 代理人桑原義美 ′A″1ノ1 オ≧図 木1. 。 手続補正書(才へ)6゜ 昭和57年特許−149794°す 2、発明の名称 印刷版の製版方法 事(’lとの関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名 称
(+27)小西六写真工業株式会拐代表取締役用本信
彦 居 所 東京都111f中さくら町+ il’i地願
書及び明細書並び忙図面の第6〜第815gI補正の内
容 別紙の通り 明細i及び図面の浄書(内容に変更なし)手続補正書 昭和58イ191目311 91rii’l’1目+’lI若杉和夫殿!−11イ1
1の衣う、 昭和5フイR¥+t’+[i第 !49794 号2
!と明の名ゼト 印刷版の製線方法 3 補11を4ろδ ・lf (’lとの関係 特許出願人 イ1 所 東京都新宿区西新宿IJI12612+〕
名 称 (+271小西・°、7j゛真1.業株式会r
1代ノシ1「ン締良用本信彦 4代理人 〒191 1+’:191 中μ:ミ都11町中さくら町1市
地自発 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 7、補正の内容 発明の詳細な説明を次の如く補正する。 (昭和57年12月17日提出のタイプ浄書(内容に変
更なし)明細書に基づく。) (1) 明細書上、下表の通り補正する。 (2)明細書第イ頁、第2行目〜第5行目を削除する。
Claims (1)
- 原板上に形成された硬化固着後インキ受容性を有する物
質の画像を、オフセット印刷法により支持体上に転写す
る印刷版の製版方法に於いて、該支持体が、鉄材上にク
ロムwL@層を有する支持体であって、m**層の表面
は角のある結晶状物が露出した形状を有し、該電着層の
表面側部の元素組成はクロム及びN素から実質的忙なり
、核部のクロム及び酸素の各元素組成比が該表面から同
−深さにおいて、かつ該表面の各部分において実質的に
均一であることを特徴とする印刷物の製版方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14979482A JPS5938062A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 印刷版の製版方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14979482A JPS5938062A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 印刷版の製版方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5938062A true JPS5938062A (ja) | 1984-03-01 |
Family
ID=15482856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14979482A Pending JPS5938062A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 印刷版の製版方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5938062A (ja) |
-
1982
- 1982-08-26 JP JP14979482A patent/JPS5938062A/ja active Pending
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