JPS5942634A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁性薄膜雀磁気記録層とする磁気記録媒体に関
し、特に走行性、耐摩耗性、電磁変換特性にすぐれた金
属薄膜型磁気記録媒体に関する。

磁気記録媒体として非磁性支持体上に磁性粉末を結合剤
中に分散せしめ、塗布乾燥させる塗布型のものが広く使
用されてきている。しかし、近年高密度記録への要求が
高まるにつれ、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレ
ーテ・ｆング等のペーパーデポジション法あるいは電気
メッキ、無電解メッキ等のメッキ法により形成される強
磁性金属薄膜を磁気記録層とする金属薄膜型磁気記録媒
体が注目を浴びており実用化に至つ°℃いるつ金属薄膜
型磁気記録媒体は、飽和磁化の大きな強磁性金属をバイ
ンダーの如き非磁性物質を介在させない状態で、極めて
薄い層として形成できるので、電磁変換特性上非常に有
利で、高密度記録にも適している。

しかしながら、金属薄膜型磁気記録媒体についての大き
な問題点は（１）信号の記録、再生および消去の過程に
おいて磁気ヘッド、ガイドポール等の部材との摩擦抵抗
が大きく、耐摩耗性がよくないこと、（２）通常高密度
、高Ｓ／Ｎ比記録のために平滑な支持体を用いるため、
走行系部材に対する摩擦係数が大きくなり、走行が安定
しないことなどである。具体的には、走行時のジッター
が大きいことなどがあげられる。

これらの問題点を解決するために磁性金属薄膜の表面に
高分子物質や潤滑剤等よりなる保護層を塗布や゛蒸着等
の方法より設けることが提案されているが、金属薄膜型
磁気記録媒体の実用化に際してはまだ不充分である。

本発明の目的は、走行性、耐摩耗性、電磁変換特性にす
ぐれた金属薄膜型磁気記録媒体を提供することにある。

本発明者等は金属薄膜型磁気記録媒体につい一℃鋭意検
討した結果、金属薄膜表面に高分子物質からなる表面保
ｎ、＠を設け、一方無機粉末と結合剤より成るバック層
に潤滑剤を含ませてなる金属薄膜型磁気記録媒体におい
ては、磁気ヘッド、ガイドボール等の部材に対する耐摩
耗性が著く向上すると共に、走行系部材に対する摩擦係
数が低減され、磁性面、バック面共に走行性に優れるこ
とを見出し、本発明をなすに至ったものである。

すなわち、本発明の上記の目的は、高分子支持体の片面
に強磁性金属薄膜を有するとともに該金属薄膜表面に高
分子物質から成る保護層を有し、他面に無機質粉末と結
合剤より構成されるバック層を有すると共に該バック層
に淵渭剤を含有する事を特徴とする磁気記録媒体によっ
て達成される。

本発明において磁性金属薄膜の表面に設ける保護層に使
用される高分子物質は特に耐摩耗性と、磁性金属薄膜へ
の密着性に注意が払われなければならない。

本発明に使用される上述の高分子物質の具体例を挙げれ
ば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重
合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、
アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸
エステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エ
ステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステ
ル−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ポリ弗
化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体
、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド
樹脂、ポリビニルブブ〜ラール、繊維素系樹脂（セルロ
ースアセテ−ドブプレート、セルロースダイアセテート
、セルロースゾロビオネート、ニトロセルロース等）、
スチレン−ブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、ク
ロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合体、ア
ミノ樹脂、各種ゴム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ
樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、原票樹脂、メラミン樹
脂、アルギツド樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリ・ｆ　
”７　ｉ／アネート、ポリアミンなどＣある。

本発明におい°Ｃバック層に使用される無機質粉末は、
特に大きさと硬さに注意が払われねばならない。無機質
粉末の大きさは、平均粒子径として、０．０２〜θ、ｊ
μが好ましく、特に好ましくはθ、θコ〜０．２μであ
る。また、硬さは、モース硬度で２．！以上が好ましい
。

本発明に使用される」二連の岨機質粉末の具体例を挙げ
ｉｔば、二硫化タングステン、二硫化モリブデン、窒化
ホウ素、８　ｉ　０２、Ｃａ　Ｃ０３、Ａｌ２Ｏ３、（
ｔ　−ｐｅ　２Ｑ　３、ＴｉＯ２、ＭａＯ１ＺｎＯ１Ｃ
ａＯ１８ｎ０２などがある。上記の中でも８４０２、Ｃ
ａ　ＣＯ：４、Ｔ！０□が好ましく、特に好ましくはＣ
ａＣＯ３である。

これらの無機質粉末の使用量は、結合剤に対して重量比
でθ、／−グ９θ、好ましくはθ・／〜コ、り、特に好
ましくはｏ、ｉ〜／、！である。

バック層の結合剤としては、従来当業界で知られた結合
剤、たとえば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂
或いはこれらの混合物が使用される。たとえば、下記じ
示すような結合剤から選ぶことができるが、７種あるい
は一種以上混合した状態でのガラス転移温度Ｔｇがグθ
０Ｃ以上であることが望ましく、特にＴｇが５０００以
上であることが好ましい。

熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合一体、塩化ビニ
ル−７クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−
アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化
ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチレン共
重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリル共重
合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体
、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、ウレタン
エラストマー、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アク
リロニトリル共重合体、ブタジェン−７クリロニトリル
共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、繊
維素系樹脂（セルロースＴセテートブチレート、セルロ
ースダイアセテート、セルロースプロピオネート、ニト
ロセルロース等）、スチレン−ブタジェン共重合体、ポ
リエステ＋１ノ樹脂、りＤ１ｊビニルエーテル−アクリ
ル酸エステル共重合体、ｙミノ樹脂、各種ゴム系樹脂な
どである。

熱硬化型樹脂又は反応型樹脂としては、フェノール樹脂
、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、
メラミン樹脂、アルキッド樹脂、アクリル系反応樹脂、
ポリイソシアネート、ポリアミンなどである。

潤滑剤としては、脂肪酸、金属石けん、脂肪酸アミド、
脂肪酸エステル、動植物油（鉱油、鯨油等）、高級アル
コール、シリコンオイル；グラファイトなどの導霜、性
微粉末；二硫化モリブデン、二硫化タングステンなどの
無機微粉末；ボリエブーレン、ポリプロピレン、ポリエ
チレン塊化ビニル共重合体、ポリ１リフルオルエチレン
などのプラスチック微粉末；α−オレフィン重合物；常
温で液状の不飽和脂肪族炭化水素、フルオロカーボン類
など、およびこれらの混合物があげられる。

これらのうちで好ましいものとしては、脂肪酸、金属石
けん、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、高級アルコール
およびこれらの混合物であり、さらに好ましくは炭素数
／θ以」二の脂肪酸である。

バック層に含まルる潤滑剤の量とし°〔はθ、／〜、２
００ｍｆ／ｍ２が好ましい。潤滑剤はパック層用塗布液
に含有せしめて塗布し−Ｃも良いし、パック層塗布後に
潤滑剤のみを塗布しても良いのであるが、走行性、耐摩
耗性の向−ヒの点からいうと後者が好まし、い。この際
強磁性金属薄膜形成前にバック層を施し、強磁性金属薄
膜形成後Ｃ−潤滑剤を塗布する方法も取り得る。

本発明に使用される支持体としては、酢酸セルローズ；
硝酸セルローズ；エヂルセルローズ；メチルセルローズ
；ポリアミド；ポリノヂルメタクリレート；ポリテトラ
フルオルエヂレン；ポリ１リフルオルエチレン；ｊニヂ
レン、プロピレンのようなα−オレフィンの重合体ある
いは共重合体；塩化ビニルの重合体あるいは共重合体；
ポリ塩化ビニリデン；ポリカーボネート；ポリイミド：
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル類等
の高分子支持体である。

本発明におけろ強磁性金属薄膜は、ペーパーデポジショ
ンあるいはメッキ法により形成される。

ベー・ξ−デポジション法とは、不活性ガスあるいは酸
素等の気体あるいは真空空間中におい１、膜として形成
（−１，めようという物質又はその化合物を蒸気あるい
はイオン化した蒸気として発生もしくは導入させて所望
の支り体上に膜として析出させる方法で、真空蒸着法、
スパッタリング法、イ第２プレーデング法、イブンビー
ノ＼デポジ？／ヨン法、化学気相メッキ法等がこれに相
当する、またメッキ法とは電気メッキあるいは無電解メ
ッキ法等の液相」、り支持体−ヒに物質を膜として形成
させる方法を言う。強磁性金属薄膜の柑料としては、ｐ
ｅ、Ｃｏ、　Ｎｉその他の強磁性金属あるいはこれらの
合金、さら１ｍ　Ｆｅ　−８ｉ　％Ｆｅ−１？ｈ　、　
　Ｆｅ　−Ｖ。

Ｆｅ−Ｔｉ　、　　Ｃｏ−Ｐ、　Ｃｏ−Ｂ％（、’：ｏ
　−８ｉ　。

Ｃｏ−Ｖ、　Ｃｏ−Ｙ、　　Ｃｏ−８ｍ、　Ｃｏ−Ｍｎ
。

Ｃｏ−ＮムーＰ、Ｃｏ−Ｎｉ　−Ｂ％　Ｃｏ−Ｃｒ。

Ｃｏ　−Ｎｉ　−Ｃｒ　、　　Ｃｏ　−Ｎｉ−Ａｇ％Ｃ
ｏ−Ｎｉ　−Ｐｄ。

Ｃｏ−Ｎｉ−Ｚｎ、Ｃｏ−ＣｕＸ　Ｃｏ−Ｎｉ　−Ｃｕ
。

Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｗ、Ｃｏ−Ｍｎ　−Ｐ。

Ｃｏ−８ｍ−Ｃｕ％　Ｃｏ−Ｎｉ　−Ｚｎ−Ｐ、Ｃｏ−
Ｖ−Ｃｒ等が用いられる。

本発明による磁気記録媒体の強磁性薄膜の膜厚は一般に
はθ、θコμｍ〜！μｍ、好ましくは０．０ｊμｍ−λ
μｍの範囲である。高分子支持体の厚さはダμｍ　−７
０μｍ１パツク胴の厚さは０．１１ｍ〜２μｍの範囲が
好ましい。強磁性薄膜の密着向上、磁気特性の改良のた
めに高分子支持体上に下地層を設けてもいいし、強磁性
薄膜上に耐候性等の向上のために保ｗｋｗｌＪを設けて
もいい。

磁気記録媒体の形状はテープ、シート、カード、デスク
等いずれでも良いが、特に好ましいのはテープ形状であ
る。テープ形状の場合、Ｖ−ル状に巻回されて使用され
るが、本発明による磁気記録媒体の場合、バック層の潤
滑剤が磁性薄膜側に転写することにより、走行性、耐摩
耗性がより改善されるものであろう 次に本発明の実施例につぃ°Ｃ説明するが、本発明は下
記の実施例に制限されるものではない。実施例中［部１
は「重量部１を示す。

実施例１ ／−２μｍＷのポリエチレンテレフタレートフィルムの
表面に、剰め蒸着によってＣｏ−Ｎ１（Ｎｉ、２０ｗｔ
％）磁性膜（膜厚θ、／ｌｐｍ）を設け、その−表面に
塩化ビニリデン−アクリロニートリル共重合体（旭ダウ
＠製「サランレジンＦ−３／θ−１）の薄膜（Ｆ厚θ、
０．２μｍ）を形成させた。

しかるのち、その反対面にノでツク層を設け、さらにこ
のバック層にミＩＪスチ〉・酸を４ｔｍｆ／ｍ”の割合
で塗布した。パック層ｒｉ下紀の結合剤組成物ａ又はＣ
を用い、こｉｌを種々の無機粉末と混線分散したものを
塗布し、乾燥後の厚さが７１ｍになるようにした。表面
粗さについては、分散時間により調整した。得られたサ
ンプルをそれぞれテープＮｏ　、　ｉ　＋　Ｎｏ　、　
、２とする。

実施例２゜ ７．２μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムの
表面に斜め蒸着によ−ｙＣＣｏ−Ｎｊ（Ｎｉ　、２゜ｗ
ｔ％）磁性膜（膜厚０．／ｊμｒｎ　）を設け、その表
面に塩化ビニル−゛酢酸ビニル共重合体（日本ゼオン＠
製「りθθＸＪ　）の薄膜（膜厚θ、θ／！μｍ）を形
成させた。しかるのちその反対面に、バック層を設け、
さらにこのバンク層に、ミリスチン酸をｅｍｆ／ｍ２の
割合で塗布した。バック層は下記の結合剤組成物ａ又は
ｂを用い、これを種々の無機粉末と混線分散したものを
塗布し、乾燥後の厚さが７１ｍになるようにした。表面
粗さについては、分散時間により調整した。得られたサ
ンプルをそれぞれテープＮＯ，３，Ｎｏ、４ｔとする。

実施例３゜ ７．２μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムの
表面に斜め蒸着法（＝よってＣｏ−Ｎ１（Ｎｉ、ｚθｗ
ｔ％）磁性膜（膜厚０．／ｋｐｍ）を設け、その表面に
塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体（旭ダウ■
製［サランレジンＦ−３／θ」）の薄膜（膜厚’：）、
０．２μｍ）を形成させたつし、かるのち、その反対面
にバック層を設けた。バック層は下記の結合剤組成物（
１又はｅと潤滑剤組成物を用い、これを種々の無機質粉
末と混線分散したものを塗布し、乾燥後の厚さが７１ｍ
になるようにした。表面粗さについては、分散時間によ
り調整した。得られたナンヅルをそれぞれテープＮｏ、
ｊ　、Ｎｏ、乙とする。

実施例４゜ ／θμｍｐＪのポリエブーレンテレフタレートフィルム
の表面に斜め蒸着によって、Ｃｏ−Ｃｒ（Ｃｒ　　、ｚ
ｗｔ％）の磁性膜を厚み０　、／　／ｐｍ設け、その表
面に環化ビニリデンーアクリロニトリル共重合体（旭ダ
ウ＠ａ　ｒサランレジンＦ−３１０Ｊ）の薄膜（膜厚θ
、０．２μｍ）を形成させた。しかるのち、その反対面
にバック層を設け、さらにこのバック層にステアリン酸
をｄ　ｍ　ｆ　７ｍ　２の割合で塗布した。バック層は
下記の結合剤組成物ａを用い、これを種々の無機粉末と
混線分散したものを塗布し、乾燥後の厚さが７１ｍにな
るようにした。

表面粗さく二ついては分散時間により調整した。得られ
たサンプルをテープＮｏ、７とする。

結合剤組成　ａ 塩ビー酢ビ共重合体（電気化学工業銖 製造［／θｏｏ−ＧＪ）　　　　　　　　　１部ポリウ
レタン（日本ポリウレタン＠製 造［ニラポラン２３θ／−１）　　　　　、ｔＱ部メチ
ルエチルケトン　　　　　　　　　３θθ部結合剤組成
　ｂ ニトロセルロース　　　　　　　　　　７５部ポリウレ
タン（日本ポリウレタン■製 造「ニラポラン、２３ｏ／」）　　　　３０部ポリ・イ
ソシアネート（日本ポリウレタン■製造「コロネートＬ
Ｊ）　　　　　／、を部メテルエチルゲトン　　　　　
　　　３００部結合剤組成　Ｃ ニトロセルロース　　　　　　　　　　２５部ポリウレ
タン（日本ポリウレタン■ 製造［ニツポランコ３θ／」）７０部 ポリイソシアネート（日本ボリウレ タン■製造［コロネートＬＪ）　　　　　、２才部メチ
ルエチルケトン　　　　　　　　３００部結合剤組成　
ｄ 塩ビー酢ヒ共重合体（電気化学工業■ 製造［１０θ０ＱＪ）　　　　　　　　　ｓ部ポリウレ
タン（日本ポリウレタン■製 造［ニッポランコ３ｏｉｌ　）　　　　　ｔθ部ミリス
チン酸　　　　　　　　　　　　　　３部メチルエチル
ケトン　　　　　　　　３θθ部結合剤組成　ｅ ニドＵセルロース　　　　　　　　　　／り部ポリウレ
タン（日本ポリウレタン＠裂 造［ニラポラン、ｚ３ｏ／Ｊ　）　　　　　３ｏ部ポリ
イソシＩネート（日本ポリウレタ ン■製造［コロネー１−ＬＪ）　　　　　　／オ部ステ
アリン酸　　　　　　　　　　　　　３部メチルエチル
ケトン　　　　　　　　３θθ部無機質粉末は第１表に
示すものを上記結合剤組成に対して１００部添加混練し
た。

さら（＝比較サンプルとして、実施例１においてパック
層潤滑剤を除いたプ゛ンプルをＮｏ、♂、実施例／にお
けるサンプルＮｏ、／〜３においてパック層から潤滑剤
を除いたサンプルをＮＯ，９、Ｎｏ。

１０、Ｎｏ、／／として用意した。

こうして得られたサンプルを７７２吋幅スリットし、Ｖ
　ＨＳ型ＶＴＲにて走行耐久性、ジッター、スツール耐
久性を測定したところ第２表のようであった。走行耐久
性はテープをＶ　Ｔ　Ｒにて繰返し走らせ、エツジ折れ
、走行ストップ等の走行トラブルを発生せずに何回走行
するかを調べたものである。

−１７′ このように本発明による金属薄膜型磁気記鈴媒体は走行
耐久性、耐摩耗性、電磁変換特性にすぐれる。特に、ハ
ック層塗布後バックに飼７１９剤を塗布せしめた磁気記
録媒体は著しくずぐＡｔた特性を示す。

特許出願人　　富士写真フィルム株式会社昭和５７年７
　ＩＩ　）−７ｒＪ 特許庁長官　殿　　　　　　　　　素 すド〜冑２０”ＩＯ ２、発明の名称　　　　磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係　　　　　　　特許出願人任　所　　神祭
１す県Ｍｊｊ”：ｉ′Ｉ’ｊ：１１ｊ召２川番地４、補
正の対象　　明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ５、補正の内容 （１）　　本願明細書第１頁７４行「ペーパー」を「ペ
ーパー」と補正する。

（２）　　同書第２頁ｉｔ行「いるが、」の次に「この
方法だけでは、」を挿入する。

（３）同書第３頁７３〜／４Ａ行「地層を〜設けてもい
い。」を「地層を設けてもよい。」と補正する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 支持体の片面に強磁性金属薄膜及びその上に設けられた
   高分子物質の層を有し、他面に無機質粉末、潤滑剤及び
   結合剤を含むパック層を有することを特徴とする磁気記
   録媒体。