JPS5942668B2 - ジペプチド誘導体 - Google Patents
ジペプチド誘導体Info
- Publication number
- JPS5942668B2 JPS5942668B2 JP51000313A JP31376A JPS5942668B2 JP S5942668 B2 JPS5942668 B2 JP S5942668B2 JP 51000313 A JP51000313 A JP 51000313A JP 31376 A JP31376 A JP 31376A JP S5942668 B2 JPS5942668 B2 JP S5942668B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- chloro
- methyl
- acid
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Peptides Or Proteins (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式:
RR′R2
/
NC0CH2NHCOCHNN
O゜゜を 。
、、゛。〔式中、Rは水素、アルキル基、シアノアルキ
ル基またはジアルキルアミノアルキル基; R’は水素
、アルキル基、アラルキル基またはアリール基;R2は
水素、アルキル基、アラルキル基、グリシル基またはグ
リシル−グリシル基; R^3は水素、アルキル基また
はアミノ保護基を表わし;A現はハロゲンで置換されて
もよいベンゼン環またはピリジン環;さらにB環はハロ
ゲンで置換されたベンゼン環またはアルキル基で置換さ
れたチオフェン環を表わす。
ル基またはジアルキルアミノアルキル基; R’は水素
、アルキル基、アラルキル基またはアリール基;R2は
水素、アルキル基、アラルキル基、グリシル基またはグ
リシル−グリシル基; R^3は水素、アルキル基また
はアミノ保護基を表わし;A現はハロゲンで置換されて
もよいベンゼン環またはピリジン環;さらにB環はハロ
ゲンで置換されたベンゼン環またはアルキル基で置換さ
れたチオフェン環を表わす。
〕で示されるジペプチド誘導体またはその酸付加塩に関
する。
する。
上記定義につき以下に具体例を挙げる。
:アルキル基(例えば、メチル、エチル、イソプロピル
、ブチル、ペンチル)、シアノアルキル(例えば、シア
ノメチル、シアノエチル、シアノプロピル、シアノブチ
ル)、アリール基(例えば、フェニル、ナフチル)、ハ
ロゲン(例えば、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素)、アル
キレン基(例えば、エチレン、トリメチレン、テトラメ
チレン)、アミノ保護基(例えば、カルボベンゾキシ、
メトキシカルボニル、を−ブトキシカルボニル、p−メ
トキシベンジルオキシカルボニル、0−ニトロフエニル
スルフエニル、クロロベンジルオキシカルボニル、トリ
チル)、ジアルキルアミノアルキル基(例えば、ジメチ
ルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ジエチルアミ
ノプロピル)。ジペプチド誘導体(I)は下記の経路図
で示されるように製造される。
、ブチル、ペンチル)、シアノアルキル(例えば、シア
ノメチル、シアノエチル、シアノプロピル、シアノブチ
ル)、アリール基(例えば、フェニル、ナフチル)、ハ
ロゲン(例えば、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素)、アル
キレン基(例えば、エチレン、トリメチレン、テトラメ
チレン)、アミノ保護基(例えば、カルボベンゾキシ、
メトキシカルボニル、を−ブトキシカルボニル、p−メ
トキシベンジルオキシカルボニル、0−ニトロフエニル
スルフエニル、クロロベンジルオキシカルボニル、トリ
チル)、ジアルキルアミノアルキル基(例えば、ジメチ
ルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ジエチルアミ
ノプロピル)。ジペプチド誘導体(I)は下記の経路図
で示されるように製造される。
〔式中、Xはハロゲンを表わし、R,Rl,R2,R3
,A,B環は前記と同意義を有するが、Mおよびにおけ
るB環はベンゼン環である。
,A,B環は前記と同意義を有するが、Mおよびにおけ
るB環はベンゼン環である。
〕ルートA
本ルートは原料アミン()およびグリシン誘導体()を
アミド結合形成反応の常法に付して行わわれ。
アミド結合形成反応の常法に付して行わわれ。
ここでアミド結合形成反応とは、アミン(釦のアミノ基
とグリシン誘導体(釦のカルボキシ基を結合させてアミ
ド結合を形成させることを基本とするが、この目的を達
成させるための付随的処理、例えば、アミド縮合に先立
つてグリシン誘導体(釦を反応性誘導体に導く処理、反
応に関与すべきでない活性基(例えば、アミノ基、カル
ボキシ基)を予め保護するための処理、アミド縮合のあ
とでこれらの保護基を脱離させる処理等を含むものであ
る。ここでグリシン誘導体(釦を反応性誘導体に導くた
めには、常法に従つて、ハロゲン化、無水物化、アジド
化、活性エステル化などが行われる。保護基の導入およ
び脱離についてもペプチド縮合における常法に従えばよ
い。アミノ保護基の脱離について例を挙げて説明すれば
、アミノ基を保護しているカルボベンゾキシ基は目的物
質(1)を臭化水素酸、フツ化水素酸、トリフルオロ酢
酸などの酸と処理するか接触還元もしくは液体アンモニ
ア/金属ナトリウムによる還元に付することによつて脱
離され、トリチル基は希酢酸と加熱処理することによつ
て脱離される。またフタリル基は適当な溶媒(例えば、
エタノール、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミ
ド)中ヒドラジンヒトラードと処理することにより脱離
される。本工程の縮合反応は一般に適当な溶媒の存在下
に行われ、そのような溶媒としては、塩化メチレン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド、クロロホルム、ジオキサン、テ
トラヒドロフランまたはこれらの混合物が例示される。
とグリシン誘導体(釦のカルボキシ基を結合させてアミ
ド結合を形成させることを基本とするが、この目的を達
成させるための付随的処理、例えば、アミド縮合に先立
つてグリシン誘導体(釦を反応性誘導体に導く処理、反
応に関与すべきでない活性基(例えば、アミノ基、カル
ボキシ基)を予め保護するための処理、アミド縮合のあ
とでこれらの保護基を脱離させる処理等を含むものであ
る。ここでグリシン誘導体(釦を反応性誘導体に導くた
めには、常法に従つて、ハロゲン化、無水物化、アジド
化、活性エステル化などが行われる。保護基の導入およ
び脱離についてもペプチド縮合における常法に従えばよ
い。アミノ保護基の脱離について例を挙げて説明すれば
、アミノ基を保護しているカルボベンゾキシ基は目的物
質(1)を臭化水素酸、フツ化水素酸、トリフルオロ酢
酸などの酸と処理するか接触還元もしくは液体アンモニ
ア/金属ナトリウムによる還元に付することによつて脱
離され、トリチル基は希酢酸と加熱処理することによつ
て脱離される。またフタリル基は適当な溶媒(例えば、
エタノール、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミ
ド)中ヒドラジンヒトラードと処理することにより脱離
される。本工程の縮合反応は一般に適当な溶媒の存在下
に行われ、そのような溶媒としては、塩化メチレン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド、クロロホルム、ジオキサン、テ
トラヒドロフランまたはこれらの混合物が例示される。
反応温度は通常約20〜+30例C程度であるが、適当
に冷却下または加熱下に反応を実施してもよい。ルート
Aで記載されたアミド結合形成反応の常法は以下の他の
ルートでのアミド結合形成反応に同じく適用され得る。
に冷却下または加熱下に反応を実施してもよい。ルート
Aで記載されたアミド結合形成反応の常法は以下の他の
ルートでのアミド結合形成反応に同じく適用され得る。
ルートB
本ルートはグリシンアミド(IV)とアミノ酸()をア
ミド結合形成反応に付して行われる。
ミド結合形成反応に付して行われる。
原料のグリシンアミド(1V)は一般に酸付加塩(例え
ば、臭化水素酸塩、塩酸塩)として存在するものであつ
てアミン()にグリシンを縮合させて得られる。本ルー
トのアミド結合形成反応は本質的にルートAの場合と同
様に実施すればよい。例えば、グリシンアミド(IV)
に適当な溶媒(例えば、ジメチルホルムアミド、ヘキサ
メチルリン酸トリアミド)中塩化2フタルイミドアセチ
ルを反応させるとNO−(2フタルイミドアセチル)グ
リシンアミド(1)が生成するが、後者をヒドラジンと
処理すると保護基としてのフタリル基を脱離させて最終
目的物質(1)が生成する。目的物質(1)がアミノ保
護基を含むものおよびアミノ保護基が脱離したものに分
かれときには、便宜上前者を1a、後者をIbとして区
別する。ルートC 本ルートは前ルートで使用したグリシンアミド(IV)
(塩)とハロゲン酢酸(VDをアミド結合形成反応に付
してNa.(2−ハロゲンアセチル)グリシンアミドC
VT!i)を生成させる第1工程および後者(VII)
を窒素化合物(4)と反応させて目的(1)を生成させ
る第2工程からなる。
ば、臭化水素酸塩、塩酸塩)として存在するものであつ
てアミン()にグリシンを縮合させて得られる。本ルー
トのアミド結合形成反応は本質的にルートAの場合と同
様に実施すればよい。例えば、グリシンアミド(IV)
に適当な溶媒(例えば、ジメチルホルムアミド、ヘキサ
メチルリン酸トリアミド)中塩化2フタルイミドアセチ
ルを反応させるとNO−(2フタルイミドアセチル)グ
リシンアミド(1)が生成するが、後者をヒドラジンと
処理すると保護基としてのフタリル基を脱離させて最終
目的物質(1)が生成する。目的物質(1)がアミノ保
護基を含むものおよびアミノ保護基が脱離したものに分
かれときには、便宜上前者を1a、後者をIbとして区
別する。ルートC 本ルートは前ルートで使用したグリシンアミド(IV)
(塩)とハロゲン酢酸(VDをアミド結合形成反応に付
してNa.(2−ハロゲンアセチル)グリシンアミドC
VT!i)を生成させる第1工程および後者(VII)
を窒素化合物(4)と反応させて目的(1)を生成させ
る第2工程からなる。
中間体(Xl)の反応性を高めるために第2工程に先立
つて、例えばハロゲン化アルカリ(例えば、ヨウ化カリ
ウム、ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム)と処理するこ
とによつて、中間体()のハロゲンを他の反応性が高い
ハロゲンと置換させてもよい。本ルートの第2工程で使
用される窒素化合物(4)はアンモニア、アルカリフタ
ルイミド、アミン類(例えば、メチルアミン、ジエチル
アミン、モルフオリン、ピペリジン、4一メチルピペラ
ジン)である。本反応は不活性溶媒(例えばジメチルホ
ルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、テトラヒ
ドロフラン、アセトン、タロロホルム、ジグリム)中室
温下または冷却もしくは加熱下に実施される。ルートD 本ルートはメチロール(IX)とグリシン誘導体()を
アミド結合形成反応に付してペプチド(X)を生成させ
る第1工程とペプチド(X)を酸化する第2工程からな
る。
つて、例えばハロゲン化アルカリ(例えば、ヨウ化カリ
ウム、ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム)と処理するこ
とによつて、中間体()のハロゲンを他の反応性が高い
ハロゲンと置換させてもよい。本ルートの第2工程で使
用される窒素化合物(4)はアンモニア、アルカリフタ
ルイミド、アミン類(例えば、メチルアミン、ジエチル
アミン、モルフオリン、ピペリジン、4一メチルピペラ
ジン)である。本反応は不活性溶媒(例えばジメチルホ
ルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、テトラヒ
ドロフラン、アセトン、タロロホルム、ジグリム)中室
温下または冷却もしくは加熱下に実施される。ルートD 本ルートはメチロール(IX)とグリシン誘導体()を
アミド結合形成反応に付してペプチド(X)を生成させ
る第1工程とペプチド(X)を酸化する第2工程からな
る。
原料メチロール()は対応するカルボニル化合物()を
還元して得られる。アミド結合形成反応はルートAの場
合と同様にして実施される。また酸化反応はジヨーンズ
試薬(クロム酸/硫酸/水)、二酸化マンガン、無水ク
ロム酸等の酸化剤を使用して常法により実施される。ル
ートE 本ルートはアミノメチルインドール(X1)とアミノ酸
(V)をアミド結合形成反応に付してアミド(VT)を
生成する第1工程とアミド()を酸化する第2工程から
なる。
還元して得られる。アミド結合形成反応はルートAの場
合と同様にして実施される。また酸化反応はジヨーンズ
試薬(クロム酸/硫酸/水)、二酸化マンガン、無水ク
ロム酸等の酸化剤を使用して常法により実施される。ル
ートE 本ルートはアミノメチルインドール(X1)とアミノ酸
(V)をアミド結合形成反応に付してアミド(VT)を
生成する第1工程とアミド()を酸化する第2工程から
なる。
酸化反応はオゾン、酸素、過酸化水素、クロム酸、過酸
(例えば、過酢酸)、過マンガン酸カリウム、二酸化マ
ンガン、過ヨウ素酸ナトリウムなど酸化剤を使用して二
重結合を酸化開裂させてカルボニル基を生成させる常法
によつて実施される。本発明の目的物質(1)は、製剤
化、結晶化、安定性の向上などの必要のために適当な酸
付加塩、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、チオシア
ン酸などの無機酸、あるいは酢酸、蓚酸、リンゴ酸、コ
ハク酸、マレイン酸、リンゴ酸、フタル酸などの有機酸
の酸付加塩に導かれる。
(例えば、過酢酸)、過マンガン酸カリウム、二酸化マ
ンガン、過ヨウ素酸ナトリウムなど酸化剤を使用して二
重結合を酸化開裂させてカルボニル基を生成させる常法
によつて実施される。本発明の目的物質(1)は、製剤
化、結晶化、安定性の向上などの必要のために適当な酸
付加塩、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、チオシア
ン酸などの無機酸、あるいは酢酸、蓚酸、リンゴ酸、コ
ハク酸、マレイン酸、リンゴ酸、フタル酸などの有機酸
の酸付加塩に導かれる。
かくして得られるジペプチド誘導体(1)またはその酸
付加塩は優れた向精神作用、とくに抗不安作用、鎮静作
用、抗けいれん作用、催眠作用、筋弛緩作用を示し、抗
不安剤、抗けいれん剤、催眠剤、筋弛緩剤またはこれら
の合成中間体として有用である。
付加塩は優れた向精神作用、とくに抗不安作用、鎮静作
用、抗けいれん作用、催眠作用、筋弛緩作用を示し、抗
不安剤、抗けいれん剤、催眠剤、筋弛緩剤またはこれら
の合成中間体として有用である。
本発明の目的物質(1)の薬理作用を市販のクロルジア
ゼポキンドおよびジアゼパムと比較して下記の表に示す
。上記試験結果から次のことが結論される:急性毒性に
ついては5検体とも非常に弱く、とくに目立つた差異は
認められない。
ゼポキンドおよびジアゼパムと比較して下記の表に示す
。上記試験結果から次のことが結論される:急性毒性に
ついては5検体とも非常に弱く、とくに目立つた差異は
認められない。
本発明の目的物質(化合物NOs.l−3)は回転棒試
験による協調運動抑制作用においてジアゼパムよりも約
2〜4倍弱い。さらに抗ペンチレンテトラゾール作用お
よび馴化作用において、2−ベンゾイル一4−クロロ−
N−メチル−Na−グリシル−グリシンアニリド(化合
物煮1)はクロルジアゼポキシ(化合物煮4)よりも約
2〜3倍強く、かつ2−0−クロロベンゾイル−4−ク
ロロ−N−メチル−Nα−グリシル−グリシンアニリド
(化合物▲2)および2−0−フルオロベンゾイル−4
−クロロ−N−メチル−NO−グリシル−グリシンアニ
リド(化合物煮3)はジアゼパム(化合物煮5)よりも
約2〜4倍強い。他のジペプチド誘導体も上記と同様の
薬理作用を示す。
験による協調運動抑制作用においてジアゼパムよりも約
2〜4倍弱い。さらに抗ペンチレンテトラゾール作用お
よび馴化作用において、2−ベンゾイル一4−クロロ−
N−メチル−Na−グリシル−グリシンアニリド(化合
物煮1)はクロルジアゼポキシ(化合物煮4)よりも約
2〜3倍強く、かつ2−0−クロロベンゾイル−4−ク
ロロ−N−メチル−Nα−グリシル−グリシンアニリド
(化合物▲2)および2−0−フルオロベンゾイル−4
−クロロ−N−メチル−NO−グリシル−グリシンアニ
リド(化合物煮3)はジアゼパム(化合物煮5)よりも
約2〜4倍強い。他のジペプチド誘導体も上記と同様の
薬理作用を示す。
ジペプチド誘導体(1)または製剤上許容可能な酸付加
塩は単一でまたは製剤上適当な担体(例えば、小麦でん
ぷん、トウモロコシでんぷん、じやがいもでんぷん、ゼ
ラチン)と混合させて使用される。
塩は単一でまたは製剤上適当な担体(例えば、小麦でん
ぷん、トウモロコシでんぷん、じやがいもでんぷん、ゼ
ラチン)と混合させて使用される。
担体の選択は選定された投与経路、使用する物質の溶解
性および製剤上の基準などによつて決定される。剤型の
例としては、錠剤、カプセル剤、ピル、懸濁剤、シロツ
プ、粉剤、水溶剤などが挙げられる。これらの組成物は
常法に従つて調製すればよい。ジペプチド誘導体(1)
またはその製剤上許容可能な酸付加塩の適当な服用量は
、成人1日量として約1〜30rn9程度である。なお
、ジペプチド誘導体(1)またはその酸付加塩は家畜、
家禽などの成長促進剤としての用途も期待できる。
性および製剤上の基準などによつて決定される。剤型の
例としては、錠剤、カプセル剤、ピル、懸濁剤、シロツ
プ、粉剤、水溶剤などが挙げられる。これらの組成物は
常法に従つて調製すればよい。ジペプチド誘導体(1)
またはその製剤上許容可能な酸付加塩の適当な服用量は
、成人1日量として約1〜30rn9程度である。なお
、ジペプチド誘導体(1)またはその酸付加塩は家畜、
家禽などの成長促進剤としての用途も期待できる。
以下に本発明の実施の態様を示す。
実施例 1
(1) トリチルグリシル−グリシン59をヘキサメチ
ルリン酸トリアミド24m1に溶解した溶液に8〜−2
℃にて塩化チオニル1.69を滴下し、−5℃にて20
分間攪拌する。
ルリン酸トリアミド24m1に溶解した溶液に8〜−2
℃にて塩化チオニル1.69を滴下し、−5℃にて20
分間攪拌する。
これに2−アミノ−5−クロロベンゾフエノン3.08
gを加え、室温下に一夜放置する。反応液を炭酸水素ナ
トリウム水溶液で中和し、クロロホルムで抽出する。有
機層を水洗し、乾燥し、溶媒を留去する。残渣をエーテ
ルにて結晶化し、2−ベンゾイル一4−クロロ−Nα一
トリチルグリシルーグリシンアニリド1.79を得る。
本品を酢酸エチルより再結晶すると、融点187〜18
9酸Cの針状晶を得る。U:λ黒冑H237.5,27
4(Sh.)、343mμ(IOgε:4.51,4.
03,3.53)。(2) 2−ベンゾイル一4−クロ
ロ−Na−トリチルグリシル−グリシンアニリド1,7
9を50%酢酸20m1に懸濁させ、水浴土20分間加
熱する。
gを加え、室温下に一夜放置する。反応液を炭酸水素ナ
トリウム水溶液で中和し、クロロホルムで抽出する。有
機層を水洗し、乾燥し、溶媒を留去する。残渣をエーテ
ルにて結晶化し、2−ベンゾイル一4−クロロ−Nα一
トリチルグリシルーグリシンアニリド1.79を得る。
本品を酢酸エチルより再結晶すると、融点187〜18
9酸Cの針状晶を得る。U:λ黒冑H237.5,27
4(Sh.)、343mμ(IOgε:4.51,4.
03,3.53)。(2) 2−ベンゾイル一4−クロ
ロ−Na−トリチルグリシル−グリシンアニリド1,7
9を50%酢酸20m1に懸濁させ、水浴土20分間加
熱する。
冷後、析出する結晶を沢去し、濾液を炭酸水素ナトリウ
ム溶液にて中和し、クロロホルムで抽出する。有機層を
水洗し、乾燥し、溶媒を留去すると2−ベンゾイル一4
−クロロ−NO−グリンルーグリシンアニリド0.89
を得る。本品を酢酸エチルより再結晶すると、融点13
5〜136゜Cのプリズム晶を得る。Uv:λ然冑02
41,275(Sh.)、340mμ(10gε:4.
44,4.03,3.55)。実施例 2〜5 下記の原料物質()および(釦を使用して、実施例>”
く1と同様に反応を行い、対応する各生成物(1a)(
Ib)を得る:〔式中、R,Rl,R2およびR3は前
記と同意義を有する。
ム溶液にて中和し、クロロホルムで抽出する。有機層を
水洗し、乾燥し、溶媒を留去すると2−ベンゾイル一4
−クロロ−NO−グリンルーグリシンアニリド0.89
を得る。本品を酢酸エチルより再結晶すると、融点13
5〜136゜Cのプリズム晶を得る。Uv:λ然冑02
41,275(Sh.)、340mμ(10gε:4.
44,4.03,3.55)。実施例 2〜5 下記の原料物質()および(釦を使用して、実施例>”
く1と同様に反応を行い、対応する各生成物(1a)(
Ib)を得る:〔式中、R,Rl,R2およびR3は前
記と同意義を有する。
〕実施例 6
(1)カルボベンゾキシ一L−ロイシルーグリシン4.
051を無水塩化メチレン50m1に懸濁し、これにト
リエチルアミン1.75m1およびクロル炭酸エチル1
.2m1を−10℃で加え、同温度で20分間攪拌する
。
051を無水塩化メチレン50m1に懸濁し、これにト
リエチルアミン1.75m1およびクロル炭酸エチル1
.2m1を−10℃で加え、同温度で20分間攪拌する
。
さらに2−アミノ−5−クロロベンゾフエノン2.91
gを無水塩化メチレン50m1に溶解した溶液をo℃に
て徐々に加えたのち、氷冷下に1時間15分撹拌し、室
温下に1時間30分攪拌し、一夜還流する。反応液を炭
酸カリウムと氷の混合物にあけ、塩化メチレンで抽出す
る。有機層を水洗し、乾燥し、溶媒を留去する。残渣を
水3%を含有するシリカゲルにてカラムクロマトグラフ
イ一に付す。ベンゼン溶出部より原料物質2−アミノ−
5−クロロベンゾフエノン1.219を回収したのち、
ベンゼン:酢酸エチル(9:1)の溶出部から得られる
生成物をエーテルより再結晶すると、融点98〜100
℃の結晶として2−ベンゾイル一4−クロロ− Na一
カルボベンゾキシ一Lロイシルーグリシンアニリド3.
139を得る。IR:342533151700164
039ラ ラ礪−1(CHCl3
)。
gを無水塩化メチレン50m1に溶解した溶液をo℃に
て徐々に加えたのち、氷冷下に1時間15分撹拌し、室
温下に1時間30分攪拌し、一夜還流する。反応液を炭
酸カリウムと氷の混合物にあけ、塩化メチレンで抽出す
る。有機層を水洗し、乾燥し、溶媒を留去する。残渣を
水3%を含有するシリカゲルにてカラムクロマトグラフ
イ一に付す。ベンゼン溶出部より原料物質2−アミノ−
5−クロロベンゾフエノン1.219を回収したのち、
ベンゼン:酢酸エチル(9:1)の溶出部から得られる
生成物をエーテルより再結晶すると、融点98〜100
℃の結晶として2−ベンゾイル一4−クロロ− Na一
カルボベンゾキシ一Lロイシルーグリシンアニリド3.
139を得る。IR:342533151700164
039ラ ラ礪−1(CHCl3
)。
(2) 2−ベンゾイル−4−クロロ−Nα−カルボベ
ンゾキシ一L−ロイシルーグリシンアニリド3.19を
臭化水素酸24%を含む酢酸溶液15m1に氷冷下溶解
し、室温下1,5時間撹拌する。
ンゾキシ一L−ロイシルーグリシンアニリド3.19を
臭化水素酸24%を含む酢酸溶液15m1に氷冷下溶解
し、室温下1,5時間撹拌する。
これにエーテルを加え、反応液を30分間静置する。析
出物を済取し、冷水に溶解し、塩化メチレンリエーテル
(1:2)で抽出する。有機層を分離したのち、水層を
炭酸カリウム水溶液でアルカリ性とし、食塩を飽和させ
、クロロホルムで抽出する。クロロホルム層を水洗し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。得ら
れる残渣をエーテルから再結晶し、融点145〜147
℃の結晶として2−ベンゾイル一4−クロロ−Nα−L
−ロイシルーグリシンアニリド1.628gを得る。実
施例 7〜9 下記の原料物質()および()を使用して、実施例6と
同様に反応を行い、対応する生成物(1a)(Ib)を
得る:〔式中、 R.Rl.R2およびR3は前記と同意 義を有する。
出物を済取し、冷水に溶解し、塩化メチレンリエーテル
(1:2)で抽出する。有機層を分離したのち、水層を
炭酸カリウム水溶液でアルカリ性とし、食塩を飽和させ
、クロロホルムで抽出する。クロロホルム層を水洗し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。得ら
れる残渣をエーテルから再結晶し、融点145〜147
℃の結晶として2−ベンゾイル一4−クロロ−Nα−L
−ロイシルーグリシンアニリド1.628gを得る。実
施例 7〜9 下記の原料物質()および()を使用して、実施例6と
同様に反応を行い、対応する生成物(1a)(Ib)を
得る:〔式中、 R.Rl.R2およびR3は前記と同意 義を有する。
〕実施例 10
カルボベンゾキングリシン1.05gをヘキサメチルリ
ン酸トリアミド8m1に溶解した溶液に−4〜−6℃に
て塩化チオニル0.69を加え、−64Cにて10分間
撹拌する。
ン酸トリアミド8m1に溶解した溶液に−4〜−6℃に
て塩化チオニル0.69を加え、−64Cにて10分間
撹拌する。
これに2−ベンゾイル一4−クロロ−グリシンアニリド
1.449を加え、0゜C以下にて2時間攪拌したのち
、室温下に一夜放置する。反応液を炭酸水素ナトリウム
水溶液でアルカリ性として、クロロホルムで抽出する。
有機層を水洗し、乾燥し、溶媒を留去する。残渣に工ー
テルおよび水を加えて結晶させると、融点163〜16
4℃の結晶として2−ベンゾイル4−クロロ−Nα一カ
ルボベンゾキシグリシルグリシンアニリド1,9gを得
る。実施例 11 N,N−ジメチルグリシン塩酸塩0.979を無水ピリ
ジン15m1に懸濁し、これにトリフエニルホスフアイ
ト2.15gを加え、室温下に一夜攪拌する。
1.449を加え、0゜C以下にて2時間攪拌したのち
、室温下に一夜放置する。反応液を炭酸水素ナトリウム
水溶液でアルカリ性として、クロロホルムで抽出する。
有機層を水洗し、乾燥し、溶媒を留去する。残渣に工ー
テルおよび水を加えて結晶させると、融点163〜16
4℃の結晶として2−ベンゾイル4−クロロ−Nα一カ
ルボベンゾキシグリシルグリシンアニリド1,9gを得
る。実施例 11 N,N−ジメチルグリシン塩酸塩0.979を無水ピリ
ジン15m1に懸濁し、これにトリフエニルホスフアイ
ト2.15gを加え、室温下に一夜攪拌する。
さらに2−ベンゾイル−4−クロロ−Nメチル−グリシ
ンアニリド2,09を無水ピリジン10m1に溶解した
溶液を加え、室温下に103時間攪拌する。反応液を減
圧濃縮する。残渣を炭酸カリウム水溶液にてアルカリ性
とし、塩化メチレンリエーテル(1:2)で抽出する。
有機層を水洗し、濃縮する。残渣を3N塩酸にて酸性と
し、エーテルで抽出する。エーテル層を分離し、水層を
炭酸カリウム水溶液にてアルカリ性とし、工ーテルで抽
出する。エーテル層を飽和食塩水溶液で洗滌し、無水芒
硝で乾燥し、溶媒を留去する。残渣1.99をメタノー
ル2m1に溶解し、これに蓚酸0.649を水2m1に
溶解した水溶液を加え、減圧下に濃縮乾固する。得られ
る結晶をエーテルで4回洗滌し、融点90℃以上(分解
点)の結晶として2−ベンゾイル−4−クロロ−N−メ
チル−Naジメチルグリシル−グリシンアニリド蓚酸塩
1.75gを得る。IR:346317191694ラ
少(Sh.)、1668(Sh.)、1640CTL′
−1(CHCl3)。
ンアニリド2,09を無水ピリジン10m1に溶解した
溶液を加え、室温下に103時間攪拌する。反応液を減
圧濃縮する。残渣を炭酸カリウム水溶液にてアルカリ性
とし、塩化メチレンリエーテル(1:2)で抽出する。
有機層を水洗し、濃縮する。残渣を3N塩酸にて酸性と
し、エーテルで抽出する。エーテル層を分離し、水層を
炭酸カリウム水溶液にてアルカリ性とし、工ーテルで抽
出する。エーテル層を飽和食塩水溶液で洗滌し、無水芒
硝で乾燥し、溶媒を留去する。残渣1.99をメタノー
ル2m1に溶解し、これに蓚酸0.649を水2m1に
溶解した水溶液を加え、減圧下に濃縮乾固する。得られ
る結晶をエーテルで4回洗滌し、融点90℃以上(分解
点)の結晶として2−ベンゾイル−4−クロロ−N−メ
チル−Naジメチルグリシル−グリシンアニリド蓚酸塩
1.75gを得る。IR:346317191694ラ
少(Sh.)、1668(Sh.)、1640CTL′
−1(CHCl3)。
実施例 12(1) 1−メチル−2−(Na−カルボ
ベンゾキシフエニルアラニルアミノメチル)−3−0ク
ロローフエニル一5−クロロインドール2.869を酢
酸15m1に懸濁させ、これに無水クロム酸1.59を
水1.4m1に溶解した溶液を13〜21℃で5分間に
て滴下し、室温下に4時間攪拌する。
ベンゾキシフエニルアラニルアミノメチル)−3−0ク
ロローフエニル一5−クロロインドール2.869を酢
酸15m1に懸濁させ、これに無水クロム酸1.59を
水1.4m1に溶解した溶液を13〜21℃で5分間に
て滴下し、室温下に4時間攪拌する。
反応液に氷水を加え、クロロホルムで抽出する。有機層
を水洗し、乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲル
のカラムクロマトグラフイ一に付し、エーテルにて溶出
させると、飴状物として2−0−クロロベンゾイル−4
−クロロ−N−メチル−Nα一カルボベンゾキシーフエ
ニルアラニルーグリシンアニリド1.759を得る。U
V:λElOH256(Sh)、298(Sh)mμ(
1)0gmaxε−4.01,3.44)。
を水洗し、乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲル
のカラムクロマトグラフイ一に付し、エーテルにて溶出
させると、飴状物として2−0−クロロベンゾイル−4
−クロロ−N−メチル−Nα一カルボベンゾキシーフエ
ニルアラニルーグリシンアニリド1.759を得る。U
V:λElOH256(Sh)、298(Sh)mμ(
1)0gmaxε−4.01,3.44)。
(2) 2−0−タロロベンゾイル一4−クロロ−Nメ
チル−Nα一カルボベンゾキシーフエニルアラニールグ
リシンアニリド1.659に臭化水素酸2148%を含
む酢酸を加え、1時間30分間室温下に撹拌する。
チル−Nα一カルボベンゾキシーフエニルアラニールグ
リシンアニリド1.659に臭化水素酸2148%を含
む酢酸を加え、1時間30分間室温下に撹拌する。
反応液に無水エーテルを加え、析出する結晶を淵取する
と、融点206〜209℃(分解点)の結晶として2−
0−クロロベンゾイル−4−クロロ−N−メチル−Nα
一フエニルアラニルーグリシンアニリド・臭化水素酸塩
・水和物1,39を得る。U:λ然冑0258(Sh)
、300(Sh)mμ(10gε=3.97,3.35
)。実施例 13 1−メチル−2−(N−トリチル−グリシルアミノメチ
ル)−3−0−クロロフエニル一5クロロインドール2
.029を酢酸10m1に懸濁し、これに無水クロム酸
0.819を水0.6m1に溶解した溶液を加え、室温
下に22時間撹拌する。
と、融点206〜209℃(分解点)の結晶として2−
0−クロロベンゾイル−4−クロロ−N−メチル−Nα
一フエニルアラニルーグリシンアニリド・臭化水素酸塩
・水和物1,39を得る。U:λ然冑0258(Sh)
、300(Sh)mμ(10gε=3.97,3.35
)。実施例 13 1−メチル−2−(N−トリチル−グリシルアミノメチ
ル)−3−0−クロロフエニル一5クロロインドール2
.029を酢酸10m1に懸濁し、これに無水クロム酸
0.819を水0.6m1に溶解した溶液を加え、室温
下に22時間撹拌する。
反応液に水22m1を加え、析出する結晶を済去する。
淵液に28%アンモニア水12m1を加え、クロロホル
ムにて抽出する。有機層を水洗し、乾燥し、溶媒を留去
する。残渣をエタノールに溶解し、これに蓚酸のエタノ
ール溶液を加える。析出する結晶0.59をエタノール
より再結晶し、融点絃670Cの結晶として2−0−ク
ロロベンゾイル−4ークロロ−N−メチル−Nα−グリ
シル−グリシンアニリド・蓚酸塩を得る。Uv:λM六
?H253,298(Sh)mμ(ト)0gε−3。9
8,3.34)。
淵液に28%アンモニア水12m1を加え、クロロホル
ムにて抽出する。有機層を水洗し、乾燥し、溶媒を留去
する。残渣をエタノールに溶解し、これに蓚酸のエタノ
ール溶液を加える。析出する結晶0.59をエタノール
より再結晶し、融点絃670Cの結晶として2−0−ク
ロロベンゾイル−4ークロロ−N−メチル−Nα−グリ
シル−グリシンアニリド・蓚酸塩を得る。Uv:λM六
?H253,298(Sh)mμ(ト)0gε−3。9
8,3.34)。
実施例 141−メチル−2−(N−カルボベンゾキシ
グリシルアミノメチル)−3−0−クロロフエニル5−
クロロインドール9.19を酢酸55meに溶解し、こ
れに無水クロム酸5。
グリシルアミノメチル)−3−0−クロロフエニル5−
クロロインドール9.19を酢酸55meに溶解し、こ
れに無水クロム酸5。
5gを水5.1m1に溶解した溶液を2『C以下にて滴
下し、室温下に一夜放置する。
下し、室温下に一夜放置する。
反応液に氷水を加え、酢酸エチルで抽出する。有機層を
水洗し、乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルの
カラムクロマトグラフイ一に付し、酢酸エチルにて溶出
させると、飴状物として2−0−クロロベンゾイル−4
−クロロN−メチル−Na−カルボベンゾキシーグリシ
ルグリシンアニリド3.69を得る。これに臭化水素酸
21.8%を含有する酢酸11.5m1を加え、1時間
30分室温下に攪拌する。反応液にエーテルを加え、結
晶を析出させる。この結晶を淵取し、水に溶解し、炭酸
水素ナトリウム水溶液で中和する。析出物を淵取し、2
−0−クロロベンゾイル4−クロロ−N−メチル−Nα
−グリシル−グリシンアニリド・水和物1.89を得る
。本品を含水エタノールより再結晶すれば、融点95〜
1000cのプリズム晶が得られる。実施例 15−2
1 下記の原料物質00および(V)を使用して、実施例1
4と同様に反応を行い、対応する生成物a(11),(
1a)および(Ib)を得る:実施例 22 1)粗1−メチル−2−アミノメチル−3−0−クロロ
フエニル一5−クロロインドール9.979およびジオ
キサン300m1からなる溶液に室温にて攪拌下炭酸カ
リウム2.489を添加し、次いで塩化N−フタリルグ
リシン8.0369を添加する。
水洗し、乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルの
カラムクロマトグラフイ一に付し、酢酸エチルにて溶出
させると、飴状物として2−0−クロロベンゾイル−4
−クロロN−メチル−Na−カルボベンゾキシーグリシ
ルグリシンアニリド3.69を得る。これに臭化水素酸
21.8%を含有する酢酸11.5m1を加え、1時間
30分室温下に攪拌する。反応液にエーテルを加え、結
晶を析出させる。この結晶を淵取し、水に溶解し、炭酸
水素ナトリウム水溶液で中和する。析出物を淵取し、2
−0−クロロベンゾイル4−クロロ−N−メチル−Nα
−グリシル−グリシンアニリド・水和物1.89を得る
。本品を含水エタノールより再結晶すれば、融点95〜
1000cのプリズム晶が得られる。実施例 15−2
1 下記の原料物質00および(V)を使用して、実施例1
4と同様に反応を行い、対応する生成物a(11),(
1a)および(Ib)を得る:実施例 22 1)粗1−メチル−2−アミノメチル−3−0−クロロ
フエニル一5−クロロインドール9.979およびジオ
キサン300m1からなる溶液に室温にて攪拌下炭酸カ
リウム2.489を添加し、次いで塩化N−フタリルグ
リシン8.0369を添加する。
混合物を室温下に30分間撹拌する。反応混合液を濃縮
して約100TrL1とし、これにn−ヘキサン100
m1を添加する。析出する結晶を淵取し、クロロホルム
2L/メタノール100m1に溶解する。得られる溶液
を水洗し、無水芒硝にて乾燥し、溶媒を留去する。残渣
をエーテルにて洗滌し、1−メチル−2−(2フタルイ
ミドアセチルアミノメチル)−3−0クロロフエニル一
5−クロロインドーノ囚.6429を得る。ジオキサン
/n−ヘキサン母液およびエーテル洗液から同一生成物
450ワを得る。本品をエタノール/クロロホルムから
再結晶すると融点253−254℃の結晶となる。2)
1−メチル−2−(2−フタルイミドアセチルアミノ
メチル)−3−0−クロロフエニル5−クロロインドー
ル1.009および酢酸25m1からなる溶液に、無水
クロム酸406ηおよび水2m1からなる溶液を攪拌下
徐々に加え、22〜25℃にて4時間攪拌し、減圧濃縮
して約半量とする。
して約100TrL1とし、これにn−ヘキサン100
m1を添加する。析出する結晶を淵取し、クロロホルム
2L/メタノール100m1に溶解する。得られる溶液
を水洗し、無水芒硝にて乾燥し、溶媒を留去する。残渣
をエーテルにて洗滌し、1−メチル−2−(2フタルイ
ミドアセチルアミノメチル)−3−0クロロフエニル一
5−クロロインドーノ囚.6429を得る。ジオキサン
/n−ヘキサン母液およびエーテル洗液から同一生成物
450ワを得る。本品をエタノール/クロロホルムから
再結晶すると融点253−254℃の結晶となる。2)
1−メチル−2−(2−フタルイミドアセチルアミノ
メチル)−3−0−クロロフエニル5−クロロインドー
ル1.009および酢酸25m1からなる溶液に、無水
クロム酸406ηおよび水2m1からなる溶液を攪拌下
徐々に加え、22〜25℃にて4時間攪拌し、減圧濃縮
して約半量とする。
残渣に氷水を加え、沈澱物を淵取する。05液を酢酸エ
チルで抽出し、上記沈澱物を酢酸エチル層に溶解する。
チルで抽出し、上記沈澱物を酢酸エチル層に溶解する。
酢酸エチル溶液をシリカゲルによるカラムクロマトグラ
フイ一に付し、溶出液を濃縮する。残渣を塩化メチレン
/メタノールから再結晶すると融点216〜218℃の
結晶として2−0−クロロベンゾイル−4クロロ−N−
メチル−Na−(2−フタルイミドアセチル)−グリシ
ンアニリド580Tf19を得る。3) 2−0−クロ
ロベンゾイル−4−クロロ−Nーメチル−Nα−(2−
フタルイミドアセチル)グリシンアニリド1.0569
をジメチルホルムアミド20m1に溶解し、これにヒド
ラジンヒトラード180Tf19およびジメチルホルム
アミド4T111からなる溶液を−8〜−6ルCにて攪
拌下に加え、−8℃〜室温にて1時間攪拌する。
フイ一に付し、溶出液を濃縮する。残渣を塩化メチレン
/メタノールから再結晶すると融点216〜218℃の
結晶として2−0−クロロベンゾイル−4クロロ−N−
メチル−Na−(2−フタルイミドアセチル)−グリシ
ンアニリド580Tf19を得る。3) 2−0−クロ
ロベンゾイル−4−クロロ−Nーメチル−Nα−(2−
フタルイミドアセチル)グリシンアニリド1.0569
をジメチルホルムアミド20m1に溶解し、これにヒド
ラジンヒトラード180Tf19およびジメチルホルム
アミド4T111からなる溶液を−8〜−6ルCにて攪
拌下に加え、−8℃〜室温にて1時間攪拌する。
O℃に冷却したのち、反応液にN塩酸4m1を20分間
で加え、0℃に17時間放置すを。反応液を氷水200
m1および酢酸エチル100m1の混合液に注ぎ、28
%アンモニア水溶液でアルカリ性(PH8)とする。酢
酸エチル層を分離し、水洗し、無水芒硝にて乾燥し、減
圧濃縮すると残渣500ηを得る。水層はクロロホルム
抽出を繰返し同一物質410即を得る。両物質を合し、
エタノール10m1に溶解し、0℃以下に冷却下水25
m1と混合する。沈澱した結晶を濾過して融点95〜1
00℃の結晶として2−0−クロロベンゾイル−4−ク
ロロ−N−メチル−NOグリシル−グリシンアニリド・
一水和物722ηを得る。収率87%o本品のヘミシト
レートは融点114〜116℃を示す。実施例 23−
25 下記の化合物(M)および塩化2−フタルイミドアセチ
ルを使用し、反応を実施例22と同様に実施して対応す
る生成物(Xll),(1a)および(Ib)を得る:
実施例 26 (1) 2,5−ジクロロ−2−メチルアミノベンゾフ
エノン3.209をベンゼン80m1に溶解した溶液に
、塩化2−フタルイミドアセチル−グリシル4.09を
加えたのち、混合液を70〜80゜Cで1時間攪拌する
。
で加え、0℃に17時間放置すを。反応液を氷水200
m1および酢酸エチル100m1の混合液に注ぎ、28
%アンモニア水溶液でアルカリ性(PH8)とする。酢
酸エチル層を分離し、水洗し、無水芒硝にて乾燥し、減
圧濃縮すると残渣500ηを得る。水層はクロロホルム
抽出を繰返し同一物質410即を得る。両物質を合し、
エタノール10m1に溶解し、0℃以下に冷却下水25
m1と混合する。沈澱した結晶を濾過して融点95〜1
00℃の結晶として2−0−クロロベンゾイル−4−ク
ロロ−N−メチル−NOグリシル−グリシンアニリド・
一水和物722ηを得る。収率87%o本品のヘミシト
レートは融点114〜116℃を示す。実施例 23−
25 下記の化合物(M)および塩化2−フタルイミドアセチ
ルを使用し、反応を実施例22と同様に実施して対応す
る生成物(Xll),(1a)および(Ib)を得る:
実施例 26 (1) 2,5−ジクロロ−2−メチルアミノベンゾフ
エノン3.209をベンゼン80m1に溶解した溶液に
、塩化2−フタルイミドアセチル−グリシル4.09を
加えたのち、混合液を70〜80゜Cで1時間攪拌する
。
析出する結晶を淵取し、ベンゼンおよびエタノールで順
次洗浄し、乾燥すれば2−0−クロロベンゾイル−4−
クロロN−メチル−Nα−(2−フタルイミドアセチル
)グリシンアニリド5.69を得る。本品を工タノール
から再結晶すれば融点224〜225℃の結晶となる。
(2) 2−0−クロロベンゾイル−4−クロロ−Nメ
チル一α一(2−フタルイミドアセチル)グリシンアニ
リド81.09をエタノール50m1に懸濁した溶液に
ヒドラジンヒトラード20m1を加えたのち、約30分
間還流する。
次洗浄し、乾燥すれば2−0−クロロベンゾイル−4−
クロロN−メチル−Nα−(2−フタルイミドアセチル
)グリシンアニリド5.69を得る。本品を工タノール
から再結晶すれば融点224〜225℃の結晶となる。
(2) 2−0−クロロベンゾイル−4−クロロ−Nメ
チル一α一(2−フタルイミドアセチル)グリシンアニ
リド81.09をエタノール50m1に懸濁した溶液に
ヒドラジンヒトラード20m1を加えたのち、約30分
間還流する。
冷後、反応液を淵過して析出したフタリルヒドラジツド
を除く。済液を濃縮したのち、エーテルで洗浄すると2
−0−クロロベンゾイル−4−クロロN−メチル−N(
i−グリシル−グリシンアニリド・一水和物55.39
を得る。本品を希エタノールより再結晶すると融点95
〜100℃の結晶となる。辷施例 27 1)水素化ホウ素ナトリウム1.2gおよびテトラヒド
ロフラン10m1からなる懸濁液に2′,5シクロロー
2−メチルアミノベンゾフエノン3,129およびテト
ラヒドロフラン20m1からなる溶液を滴下する。
を除く。済液を濃縮したのち、エーテルで洗浄すると2
−0−クロロベンゾイル−4−クロロN−メチル−N(
i−グリシル−グリシンアニリド・一水和物55.39
を得る。本品を希エタノールより再結晶すると融点95
〜100℃の結晶となる。辷施例 27 1)水素化ホウ素ナトリウム1.2gおよびテトラヒド
ロフラン10m1からなる懸濁液に2′,5シクロロー
2−メチルアミノベンゾフエノン3,129およびテト
ラヒドロフラン20m1からなる溶液を滴下する。
混合液に水5m1を加えたのち、室温下に一夜撹拌する
。反応液に少量の水を加えたのち、溶媒を減圧留去する
。残渣を希塩酸にてPH8−9としたのち、クロロホル
ムにて抽出する。有機層を乾燥し、次いで溶媒を留去す
ると2′ 5−ジクロロ−2−メチルアミラノベンズヒ
ドロール3.059を得る。
。反応液に少量の水を加えたのち、溶媒を減圧留去する
。残渣を希塩酸にてPH8−9としたのち、クロロホル
ムにて抽出する。有機層を乾燥し、次いで溶媒を留去す
ると2′ 5−ジクロロ−2−メチルアミラノベンズヒ
ドロール3.059を得る。
本品をエーテル/n−ヘキサンより再結晶し、融点10
5.5〜106.5ヘCの結晶を得る。?)カルボベン
ゾキシーグリシルーグリシン4.09、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド20m1およびアセトニトリル10m1
からなる溶液に、−18℃にて塩化チオニル1.779
を滴下したのち、18゜Cにて3分間攪拌する。
5.5〜106.5ヘCの結晶を得る。?)カルボベン
ゾキシーグリシルーグリシン4.09、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド20m1およびアセトニトリル10m1
からなる溶液に、−18℃にて塩化チオニル1.779
を滴下したのち、18゜Cにて3分間攪拌する。
これに2′,5シクロロー2−メチルアミノベンズヒト
ロール2.29、ヘキサメチルリン酸トリアミド10m
.1およびアセトニトリル5m1からなる溶液を−18
゜Cにて滴下し、同温度で8時間攪拌し、次いで−20
℃に一夜放置する。反応液を水/エーテルと混合し、炭
酸水素ナトリウム水溶液にてアルカリ性とし、次いでエ
ーテルで抽出する。有機層を乾燥したのち、濃縮して溶
媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用してカラムクロ
マトグラフイ一に付し、酢酸エチルで溶出させると融点
57〜60℃の結晶として2−0−クロロα−ヒドロキ
シベンジル−4−クロロ−N−メチル−Na−カルボベ
ンゾキシグワシルーグリシンアニリド3.31gを得る
。3) 2−0−クロロ−α−ヒドロキシベンジルN−
メチル−Na−カルボベンゾキシーグリシルーグリシン
アニリド21.89およびアセトン300m1からなる
溶液に、ジヨンズ試薬(クロム酸/硫酸/水)を混合液
が赤色を保持するまで滴下する。
ロール2.29、ヘキサメチルリン酸トリアミド10m
.1およびアセトニトリル5m1からなる溶液を−18
゜Cにて滴下し、同温度で8時間攪拌し、次いで−20
℃に一夜放置する。反応液を水/エーテルと混合し、炭
酸水素ナトリウム水溶液にてアルカリ性とし、次いでエ
ーテルで抽出する。有機層を乾燥したのち、濃縮して溶
媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用してカラムクロ
マトグラフイ一に付し、酢酸エチルで溶出させると融点
57〜60℃の結晶として2−0−クロロα−ヒドロキ
シベンジル−4−クロロ−N−メチル−Na−カルボベ
ンゾキシグワシルーグリシンアニリド3.31gを得る
。3) 2−0−クロロ−α−ヒドロキシベンジルN−
メチル−Na−カルボベンゾキシーグリシルーグリシン
アニリド21.89およびアセトン300m1からなる
溶液に、ジヨンズ試薬(クロム酸/硫酸/水)を混合液
が赤色を保持するまで滴下する。
反応液を済過して沈澱物を除去する。赤色淵液が緑色と
なるまでイソプロパノールを加える。混合液を沢過し、
次いで済液を炭酸水素ナトリウム水溶液にて中和し、濃
縮する。残渣に水を加え、次いでクロロホルムで抽出す
る。クロロホルム層を活性炭にて精製し、20−クロロ
ベンゾイル−4−クロロ−N−メチル−Na−カルボベ
ンゾキシーグリシルーグリシンアニリド21.39を得
る。実施例 28−33 下記化合物()を使用して、反応を実施例27と同様に
実施するが、アミノ保護としてノタリル基を採用したと
きには、ヒドラジノリシスによつてフタル基を除去し、
下記の化合物(X),(1a)および(Ib)が得られ
る:実施例 34 1) 2−0−クロロベンゾイル−4−クロロ−Nメチ
ル−グリシンアニリド・臭化水素酸塩1.8gおよびヘ
キサメチルリン酸トリアミド10m1からなる溶液に、
塩化2−クロロアセチル0.739を氷冷下に加える。
なるまでイソプロパノールを加える。混合液を沢過し、
次いで済液を炭酸水素ナトリウム水溶液にて中和し、濃
縮する。残渣に水を加え、次いでクロロホルムで抽出す
る。クロロホルム層を活性炭にて精製し、20−クロロ
ベンゾイル−4−クロロ−N−メチル−Na−カルボベ
ンゾキシーグリシルーグリシンアニリド21.39を得
る。実施例 28−33 下記化合物()を使用して、反応を実施例27と同様に
実施するが、アミノ保護としてノタリル基を採用したと
きには、ヒドラジノリシスによつてフタル基を除去し、
下記の化合物(X),(1a)および(Ib)が得られ
る:実施例 34 1) 2−0−クロロベンゾイル−4−クロロ−Nメチ
ル−グリシンアニリド・臭化水素酸塩1.8gおよびヘ
キサメチルリン酸トリアミド10m1からなる溶液に、
塩化2−クロロアセチル0.739を氷冷下に加える。
混合液を氷冷下に2時間、次いで室温下に3時間攪拌す
る。反応混合液をエーテルで抽出し、次いで有機層をア
ンモニア水溶液にてアルカリ性とし、水洗し、さらに溶
媒を留去し2−0−クロロベンゾイル4−クロロ−N−
メチル−Na−(2−クロロアセチル)グリシンアニリ
ド1.69を得る。本品を酢酸エチルから再結晶すると
、融点134〜136℃の無色針晶となる。2) 2−
0−クロロベンゾイル−4−クロロ−N−メチル−Na
−(2−クロロアセチル)グリシンアニリド6.29、
ヨウ化カリウム2.74gおよびアセトン60m1から
なる混合物を1時間還流する。
る。反応混合液をエーテルで抽出し、次いで有機層をア
ンモニア水溶液にてアルカリ性とし、水洗し、さらに溶
媒を留去し2−0−クロロベンゾイル4−クロロ−N−
メチル−Na−(2−クロロアセチル)グリシンアニリ
ド1.69を得る。本品を酢酸エチルから再結晶すると
、融点134〜136℃の無色針晶となる。2) 2−
0−クロロベンゾイル−4−クロロ−N−メチル−Na
−(2−クロロアセチル)グリシンアニリド6.29、
ヨウ化カリウム2.74gおよびアセトン60m1から
なる混合物を1時間還流する。
反応液を濃縮してアセトンを留去し、次いで残渣をクロ
ロホルムに溶解する。有機層を水洗し、乾燥し、さらに
濃縮する。残渣をエーテルで洗浄し2−0−クロロベン
ゾイル−4一クロロ一N−メチル−Na−(2−ヨード
アセチル)グリシンアニリド6.99を得る。本品を酢
酸エチルから再結晶し、融点168.5〜169.5℃
の無色針晶となる。3) 2−0−クロロベンゾイル−
4−クロロ−Nメチル−Na−(2−ヨードアセチル)
グリシンアニリド1.19およびテトラヒドロフラン2
0m1からなる懸濁液にアンモニアガスを30分間導入
し、次いで混合液を室温下に5時間攪拌する。
ロホルムに溶解する。有機層を水洗し、乾燥し、さらに
濃縮する。残渣をエーテルで洗浄し2−0−クロロベン
ゾイル−4一クロロ一N−メチル−Na−(2−ヨード
アセチル)グリシンアニリド6.99を得る。本品を酢
酸エチルから再結晶し、融点168.5〜169.5℃
の無色針晶となる。3) 2−0−クロロベンゾイル−
4−クロロ−Nメチル−Na−(2−ヨードアセチル)
グリシンアニリド1.19およびテトラヒドロフラン2
0m1からなる懸濁液にアンモニアガスを30分間導入
し、次いで混合液を室温下に5時間攪拌する。
反応液を濃縮してテトラヒドロフランを除去する。残渣
をクロロホルムに溶解する。有機層を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液および水にて順次洗浄し、乾燥し、濃縮してク
ロロホルムを除去する。残渣をシリカゲルによるカラム
クロマトグラフイ一に付し、メタノールで溶出させると
2−0−クロローベンゾイル一4−クロロ−N−メチル
−Na−グリシル−グリシンアニリドを得る。実施例
35 1)塩化2−クロロアセチルの代りに臭化2−ブロモア
セチルを使用し、実施例34(1)と同様に反応を実施
し、融点153〜155℃の無色針晶として2−0−ク
ロロベンゾイル−4−クカロ一N−メチル−Nα一(2
−ブロモアセチル)グリシンアニリドを得る。
をクロロホルムに溶解する。有機層を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液および水にて順次洗浄し、乾燥し、濃縮してク
ロロホルムを除去する。残渣をシリカゲルによるカラム
クロマトグラフイ一に付し、メタノールで溶出させると
2−0−クロローベンゾイル一4−クロロ−N−メチル
−Na−グリシル−グリシンアニリドを得る。実施例
35 1)塩化2−クロロアセチルの代りに臭化2−ブロモア
セチルを使用し、実施例34(1)と同様に反応を実施
し、融点153〜155℃の無色針晶として2−0−ク
ロロベンゾイル−4−クカロ一N−メチル−Nα一(2
−ブロモアセチル)グリシンアニリドを得る。
2) 2−0−クロロベンゾイル−4−クロロ−Nメチ
ル−Na−(2−プロモアセチノ(ハ)グリシンアニリ
ド1.019およびジメチルホルムアミド10m1から
なる溶液に、フタルイミドカリウム0.34f1を加え
、次いで混合物を室温下に3時間攪拌したのち、室温下
に一夜放置する。
ル−Na−(2−プロモアセチノ(ハ)グリシンアニリ
ド1.019およびジメチルホルムアミド10m1から
なる溶液に、フタルイミドカリウム0.34f1を加え
、次いで混合物を室温下に3時間攪拌したのち、室温下
に一夜放置する。
反応液に水100m1を加え、沈澱物を戸取したのち、
水洗して2−0−クロロベンゾイル−4クロロ−N−メ
チル−Nα一(2−フタルイミドアセチル)グリシンア
ニリド1.09を得る。本品を実施例26(2)と同様
にヒドラジンヒトラード処理すると、2−0−クロロベ
ンゾイル4−クロロ−N−メチル−Nα−グリシル−グ
リシンアニリド・一水和物を得る。実施例 36 2−0−クロロベンゾイル−4−クロロ−Nメチル−グ
リシンアニリド臭化水素酸塩0.6289およびジメチ
ルホルムアミド7mlからなる溶液に、塩化2−フタル
イミドアセチル0.4379を加え、次いで混合液を3
時間攪拌する。
水洗して2−0−クロロベンゾイル−4クロロ−N−メ
チル−Nα一(2−フタルイミドアセチル)グリシンア
ニリド1.09を得る。本品を実施例26(2)と同様
にヒドラジンヒトラード処理すると、2−0−クロロベ
ンゾイル4−クロロ−N−メチル−Nα−グリシル−グ
リシンアニリド・一水和物を得る。実施例 36 2−0−クロロベンゾイル−4−クロロ−Nメチル−グ
リシンアニリド臭化水素酸塩0.6289およびジメチ
ルホルムアミド7mlからなる溶液に、塩化2−フタル
イミドアセチル0.4379を加え、次いで混合液を3
時間攪拌する。
反応液を濃縮して、溶媒を留去する。残渣をクロロホル
ムで抽出し、次いでクロロホルム層を水洗し、乾燥した
のち、濃縮して溶媒を除去する。残渣をエーテルにて洗
滌し2−0−クロロベンゾイル−4−タロロ一N−メチ
ル−Na−(2−フタルイミドアセチル)グリシンアニ
リド0.719を得る。2)上記生成物をヒドラジン・
ヒトラードと処理し、2−0−クロロベンゾイル−4−
クロロN−メチル−N(X−グリシンアニリド・ヒドラ
ラートを得る。
ムで抽出し、次いでクロロホルム層を水洗し、乾燥した
のち、濃縮して溶媒を除去する。残渣をエーテルにて洗
滌し2−0−クロロベンゾイル−4−タロロ一N−メチ
ル−Na−(2−フタルイミドアセチル)グリシンアニ
リド0.719を得る。2)上記生成物をヒドラジン・
ヒトラードと処理し、2−0−クロロベンゾイル−4−
クロロN−メチル−N(X−グリシンアニリド・ヒドラ
ラートを得る。
実施例 37−41
アンモニアの代わりに下記のアミン類()を使用して、
実施例34(3)と同様に反応を実施して対応する目的
物(1)を得る:実施例 42 カルボベンゾキシーグリシルーグリシン1.729、ヘ
キサメチルリン酸トリアミド7mlおよびアセトニトリ
ル3.5m1からなる溶液に−18びC〜12℃にて冷
却下塩化チオニル0.41m1を5分間で滴下し、10
分間攪拌する。
実施例34(3)と同様に反応を実施して対応する目的
物(1)を得る:実施例 42 カルボベンゾキシーグリシルーグリシン1.729、ヘ
キサメチルリン酸トリアミド7mlおよびアセトニトリ
ル3.5m1からなる溶液に−18びC〜12℃にて冷
却下塩化チオニル0.41m1を5分間で滴下し、10
分間攪拌する。
これに2−(2−ピコリノール)−4−クロロアニリン
19、ヘキサメチルリン酸トリアミド3m1およびアセ
トニトリル1.5m1からなる溶液を氷冷下に加え、−
20゜Cで一夜放置する。反応液を氷および炭酸カリウ
ムの混合物に注加し、エーテルで抽出する。工ーテル層
を水洗し、エーテルを留去し、残渣を3%含水シリカゲ
ルによるカラムクロマトグラフイに付す。得られる溶出
物を塩化メチレン/メタノールから再結晶すると融点1
54〜155℃の淡褐色結晶として2−(2−ピコリノ
ール)−4ークロロ−N−(カルボベンゾキシーグリシ
ルーグリシル)アニリド0.879を得る。
19、ヘキサメチルリン酸トリアミド3m1およびアセ
トニトリル1.5m1からなる溶液を氷冷下に加え、−
20゜Cで一夜放置する。反応液を氷および炭酸カリウ
ムの混合物に注加し、エーテルで抽出する。工ーテル層
を水洗し、エーテルを留去し、残渣を3%含水シリカゲ
ルによるカラムクロマトグラフイに付す。得られる溶出
物を塩化メチレン/メタノールから再結晶すると融点1
54〜155℃の淡褐色結晶として2−(2−ピコリノ
ール)−4ークロロ−N−(カルボベンゾキシーグリシ
ルーグリシル)アニリド0.879を得る。
元素分析 C24H2lN4O5Cl
計算値 C.58.94;H.4.4O:N.ll.6
5;Cl.7.37実験値 C.59.83;H.4.
57;N.ll.45Cl.7.5lIR(CHCl3
):3438,3316,1698CTIL−1(2)
臭化水素酸24%を含む酢酸溶液4m1に氷冷攪拌下2
−(2−ピコリノール)−4−クロロ−Na−(カルボ
ベンゾキシーグリシル)−グリシンアニリド0.759
を加えて溶解し、室温下に1時間15分攪拌する。
5;Cl.7.37実験値 C.59.83;H.4.
57;N.ll.45Cl.7.5lIR(CHCl3
):3438,3316,1698CTIL−1(2)
臭化水素酸24%を含む酢酸溶液4m1に氷冷攪拌下2
−(2−ピコリノール)−4−クロロ−Na−(カルボ
ベンゾキシーグリシル)−グリシンアニリド0.759
を加えて溶解し、室温下に1時間15分攪拌する。
反応液にエーテルを加え、析出する結晶を淵取し、メタ
ノール酢酸エチル(1:5)から再結晶すると融点19
2〜194゜C(分解)の吸湿性結晶として2−α−ピ
コリル一4−クロロ−Na−グリシル−グリシンアニリ
ド・二臭化水素酸塩0.8019を得る。元素分析 C
l6Hl7N4O3ClBr2計算値 C.37,78
;H.3.37;N.ll.O2C′.6.97;Br
.3l.42実験値 C.38.35;H.3.93;
N.9.82;C′.6.44;Br.28.95IR
(NujOl):1731,1687?−1実施例 4
3 N−(3−ベンゾイル一5−エチル−2−チエニル)グ
リシンアミド、カルボベンゾキングリシン、クロル炭酸
エチルおよびトリエチルアミンを使用して実施例6と同
様に反応を行い、油状物としてN−(3−ベンゾイル一
5−エチル−2−チエニノレ)−Nα一(カルボベンゾ
キシーグリシル)グリシンアミドを得る。
ノール酢酸エチル(1:5)から再結晶すると融点19
2〜194゜C(分解)の吸湿性結晶として2−α−ピ
コリル一4−クロロ−Na−グリシル−グリシンアニリ
ド・二臭化水素酸塩0.8019を得る。元素分析 C
l6Hl7N4O3ClBr2計算値 C.37,78
;H.3.37;N.ll.O2C′.6.97;Br
.3l.42実験値 C.38.35;H.3.93;
N.9.82;C′.6.44;Br.28.95IR
(NujOl):1731,1687?−1実施例 4
3 N−(3−ベンゾイル一5−エチル−2−チエニル)グ
リシンアミド、カルボベンゾキングリシン、クロル炭酸
エチルおよびトリエチルアミンを使用して実施例6と同
様に反応を行い、油状物としてN−(3−ベンゾイル一
5−エチル−2−チエニノレ)−Nα一(カルボベンゾ
キシーグリシル)グリシンアミドを得る。
本品の塩酸塩は融点190〜192゜Cを示す。実施例
44〜45 実施例1と同様に反応を行い、下記の目的物(1)を得
る。
44〜45 実施例1と同様に反応を行い、下記の目的物(1)を得
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素、アルキル基、シアノアルキル基また
はジアルキルアミノアルキル基;R′は水素、アルキル
基、アラルキル基またはアリール基;R^2は水素、ア
ルキル基、アラルキル基、グリシル基またはグリシル−
グリシル基;R^3は水素、アルキル基またはアミノ保
護基を表わし;A環はハロゲンで置換されてもよいベン
ゼン環またはピリジン環;さらにB環はハロゲンで置換
されたベンゼン環またはアルキル基で置換されたチオフ
ェン環を表わす。 〕で示されるジペプチド誘導体またはその酸付加塩。 2 特許請求の範囲第1項による化合物、すなわち2−
o−クロロベンゾイル−4−クロロ−N−メチル−N^
α−グリシル−グリシンアニリド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51000313A JPS5942668B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | ジペプチド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51000313A JPS5942668B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | ジペプチド誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5283722A JPS5283722A (en) | 1977-07-12 |
| JPS5942668B2 true JPS5942668B2 (ja) | 1984-10-16 |
Family
ID=11470414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51000313A Expired JPS5942668B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | ジペプチド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5942668B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6147551U (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-29 | 日通工株式会社 | 電子電話機の電源装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009511437A (ja) * | 2005-09-29 | 2009-03-19 | インファーマティカ リミテッド | Ppar作動薬iとしてのチオフェン誘導体 |
-
1976
- 1976-01-01 JP JP51000313A patent/JPS5942668B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6147551U (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-29 | 日通工株式会社 | 電子電話機の電源装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5283722A (en) | 1977-07-12 |
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