JPS5954329A - 半導体スイツチ - Google Patents

半導体スイツチ

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Publication number
JPS5954329A
JPS5954329A JP58150124A JP15012483A JPS5954329A JP S5954329 A JPS5954329 A JP S5954329A JP 58150124 A JP58150124 A JP 58150124A JP 15012483 A JP15012483 A JP 15012483A JP S5954329 A JPS5954329 A JP S5954329A
Authority
JP
Japan
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type emitter
type
switching transistor
emitter part
semiconductor switch
Prior art date
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Pending
Application number
JP58150124A
Other languages
English (en)
Inventor
ヘルム−ト・ヘルベルク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Schuckertwerke AG
Siemens Corp
Original Assignee
Siemens Schuckertwerke AG
Siemens Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Schuckertwerke AG, Siemens Corp filed Critical Siemens Schuckertwerke AG
Publication of JPS5954329A publication Critical patent/JPS5954329A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/101Integrated devices comprising main components and built-in components, e.g. IGBT having built-in freewheel diode
    • H10D84/131Thyristors having built-in components
    • H10D84/138Thyristors having built-in components the built-in components being FETs
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/72Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices having more than two PN junctions; having more than three electrodes; having more than one electrode connected to the same conductivity region
    • H03K17/73Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices having more than two PN junctions; having more than three electrodes; having more than one electrode connected to the same conductivity region for DC voltages or currents
    • H03K17/732Measures for enabling turn-off
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D18/00Thyristors
    • H10D18/60Gate-turn-off devices 
    • H10D18/65Gate-turn-off devices  with turn-off by field effect 
    • H10D18/655Gate-turn-off devices  with turn-off by field effect  produced by insulated gate structures
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D62/00Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers
    • H10D62/10Shapes, relative sizes or dispositions of the regions of the semiconductor bodies; Shapes of the semiconductor bodies
    • H10D62/17Semiconductor regions connected to electrodes not carrying current to be rectified, amplified or switched, e.g. channel regions
    • H10D62/192Base regions of thyristors
    • H10D62/206Cathode base regions of thyristors

Landscapes

  • Thyristors (AREA)
  • Thyristor Switches And Gates (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はしゃ断可能なサイリスタと、サイリスタの配線
中にスイッチング区間欠挿入したスイッチング区間な1
市入17たスイッチングトランジスタと、サイリスタの
ルIJ御極をスイッチングトランジスタのサイリスクに
向かう側と反対側と結ぶしゃ断電流路とを備えた半導体
スイッチに関する。 こ0〕種の半導体スイッチはフィリップス社の技術T1
1行誌029 ” glectronic Co+np
onentsand Applications ”第
3巻、第4号、1981年、8月、232ないし237
ページ、特にその第2図により公知である。サイリスタ
のカノード配線中に挿入されたスイッチングトランジス
タは、この場合rv10S電界効果トランジスタが使用
さit。 そのゲートを介して半?、り体スイッチは制御される。 しゃ断電流路にはコンデンサが挿入されている。 コンデンサはある電圧に充電さit、ブロッキング状態
にあるサイリスタを点弧させるためのもσ)である。そ
11まで閉止状態にあったスイッチングトランリスクが
オン状態にさ1.乙と、コンデンリを充電していた点弧
回路が閉じ、サイリスタは点弧さノtろ。スイッチング
トランジスタのゲートRII)n叩電圧をカットすると
、スイッチングトランジスタはオフさノt、サイリスタ
の負荷電流はすべてターンオフ路に碓れ込み、この:ゴ
ンデンサ、ダイオードを介して、そ几に並列如接イ先さ
几た別の=1ンデンサが上述の電圧に充′mされろまで
(dc几つづける。 そしてサイリスクは消弧されろ。 本発明は冒頭に述べたような半導[ドスイノチσ)安定
性、すなわちサイリスクの導通方向の^メ性σ)電圧が
印加さJtたとき、サイリスタが予期しない点弧暑ひ@
起すことのない安全性を可能な限り高めること′j/:
目的とする。この目的は本発明の!1テ許請求の範囲2
13J頃にiン載したところにより達成さ1tろ。 本発明により得ら71.る利改は・特に、第二のスイッ
チングトランジスタが一方ではターンオフバイパス路の
機能を確実に維持すると共に、他方ではスイッチングト
ランジスタがi lff1−rるサイリスクのブロッキ
ング状態においてエミッタ・ベース短絡を形成すること
である。その結果サイリスクσ)導通方向の極性の電圧
Uによるサイリスクq)予期しない点弧を確実にさける
ことのできる′戊王ケ上り速度dL//dtの限界1直
は、こθ)種σ)これまで公知の半導体スイッチと異り
、著しく高いものとなる。 特許請求の範iU]2rr、2項ないし第9頃は本ζ色
明σ)実施態様に二閏1−るもθ)であり、第】0項は
本発明0)半、・、9体スイッチの使用法に関−するも
σ)である。 次に図により本発明を、詳i、■に説明でる。 第1図に<ンTo(ゲートターンオフ)サイリスクとも
名付けらitてぃろしゃ断可能なサイリスクを備えた半
導体スイッ′fを示す。サイリスタは七σ)アノード側
fl子A及び負荷抵抗Rを介して、″電源3の「側グ)
端子2に接続さitて粘っ、この電諒σ)上側の端子4
は大地電位におかれている。サイリスタθ)カソード側
端子には、その途中に第一のス・fソチンクトランジス
タTrIのスイッチング区間が挿入されているカソード
へ導線5を介して端子1(′に接続さJtており、この
端子E(’も又大地電位に接続されている。サイリスタ
1の制’flll ’i イi@ 4−、t 。 点弧電圧IJzが印加’−;fLる点弧回路の端子7と
導線6を介して接続されている。導線6は、第二〇)ス
・fツチングトランジスタTr2σ)ス・1ソチングス
タの制fl ′ilj J’fi、を鳴続点1(’に結
びっけでいる。 トランジスタT r I  旨よびTr2  はへ41
8電界効果スイツチングトランジスタとして構成すると
有利である。MIS半導体構造は金磯′H℃僕、電気絶
縁1・3および半導体基板で構成されるもθ)をいう。 トランジスタT目はそのゲートに印110さ1する制御
電圧U、で、又1゛r2は制御J:L圧U2でメン・オ
フされる。 第2図は第1図に示した半導体スイッチを動作させるた
めの電圧の時間特性を示したものである。 第一の期間T1 においてサイリスタ1はブロック状態
にある。約5vの制御tu圧U、がス・fソチングトラ
ンジスタTri  のゲートに印+1[]され、そθ)
結果このトランジスタは導通−する。そitと同時に約
5■の′電圧U2が第二のスイッチングトランジスタT
r2 のゲートに印IJO’Rn、ている。Tr2 を
介してサイリスク1の制御′ル唖と端子1(7間は導通
詰合が存在する。この結合は制御「ト広に接触するpベ
ースとカッ−)創11電極に潰した11・エミッタ間ノ
エミツタ・ベース短絡回路!形成し7、そ11.により
これらの半導体領賊間θ)pn接合が低jjj 1元に
橋絡さitろ。そσ)結果、電源3から供袷さ:Itた
、サイリスタ1の4;(%方向の極性火持ち端子Aおよ
びに間の印加電圧の立上り速度du/dtが速い場合で
も、サイリスタは決して予期しない点を生ずることがな
いことが保ifEされる。 第二の期間゛r2で電圧U2はカットさits ソの結
果トランジスタTr2はブロックさit、端子7てパル
ス状のげ失弧′・飄EE +、、J 、が印加されて点
弧電流Izが発′−セし、そitは導線6、サイリスタ
]の制i:lIi ’ミ11′収端子Iぐ、そしてトラ
ンジスタT r 】を介し”’C端子+(’&(: 向
ッテ:I7Cn−6、その結゛1す、イリス、り」は点
2fflさ几、ひきつづき導通状態となる(1υ]It
il 第3)。期間゛I゛3中スイッチングトランジス
、7 T・1°2はブロックされ、一方l・ランリツク
Tri は9通状嘘′〔・ある。す・イリスタ?しやj
所丁、5たゾ) (,1ulr+m1”、)、)ランリ
ツクTr]  はブロックさ比l・ランリツク’l’ 
l’ 2はオンさl′1.ろ。そa)ためII−イリ、
ペタ】を通って口ij+tていた負荷1前IICは?べ
てターノオフバイペス路+ 6.a、Tl−2,に’ 
)′L迂回し、そθ)、負吉果す・イリスタは1て4速
に1肖つ代さ1を石。オン)征17や1加にはトランジ
スタT1・2のゲートギヤノく/タンスを売主する電流
(ピ必要さするに易きす、そσ)充電′電流(’II−
や断−「べさ負荷電流に比して倹めて小さい0)で、後
者と前者とθ)比て1ちるしゃ断増幅率は極めて反きく
、100(ソ、」−C7)イ直が可能て゛ある。 期間′1゛、において第2図では次θ)す、イクルが始
まり、スイソブーングトランリツクTri  i・j再
び・q通状帳となり、す′イリスタ1はブロック状・1
與となろ。 第3「預1・ま不4:1に只7.;) −j =’、I
 It;スイッチ0)頃面図て、集積回路伎♂1、iに
より構成さJ’していろ。第J叉ないし第314てtd
いて同じ回1e:S !+B品戊1まl干(・すりじ′
?1号で及わ第7てある。第、3閣で・「す1らかなよ
う6で、ザ・イリスタ+ i!n p n p  層列
弔・何才るドービンク゛さバた生得r1
【゛勺質、例え
ば/リコンの多層体を備えZ必てイアJo一番]:のn
形149.1. 9a’、 9a″、  9b、  9
b’はII形エミッタ、そ几に妾したl)形、1・r’
j l Qはp形ベース、n形1i1i 1 ]はI〕
形ベース、一番Fのp形層J2はp形エミッタとなろ。 n形エミッタ;・よi!数の縞状のシ11ム分91,9
λ’、  9a”。 9 bす6よひs+b’yり・ら成り、7Cλt「つ1
4半惇f本−害4反θ)境シ゛を而に1まて′θ)ひて
tdす、かつイrlJス・−ば第311fン)紙!jj
 fi :IfE Iff’ K l第1び7.、) 
f)% fi7に 懲てb)、5oしl+sし他rn 
、1.、、4ご背てはG11ni内に[千]琢の1由、
1覗141]・ミーば)累IIとまたはその類似形、あ
るいは円形もしくは環状とf5ことも可首巨で、ちる。 最後の環状・;考潰t・こついては・ル3「図σ)軸1
3・?対称1目11として部分9a、  9a’、  
!lra”。 9bす6よび9b′を[司li伝ビを矛亦J杉に11己
市する・二とで一里屏さnろ。 n ■杉エ ミ ) タa)部分9a(″!j嘉子1(
7ン備えプこ力 7ノード側電惰14に:妾していζ)
。部分9aの左f′尽θ)傍にはn形エミッタの部分9
bが、9aと9bの間に境界面G ]まて0)びたI)
形ベース、10θ)領域!5が彩り又さ几ろように西己
1首ンさ几ている。この領域154ゴゲート16で擾わ
オt1このゲート・1゛よ端子17をイijNえ、かつ
薄い絶jJ層18j(より境シ゛l!1イii(]1か
も分署トされている。領)戎]5tτ]り「接した部分
9 aお、J:び9bの周i、φ部Gよ111−ヤネル
iY4丁S電界効ソpトランジスタのソースとドレーン
¥形成し、そθ)p形チャネル領域は領戎151てより
杉う父さ第1ている。グーI 第6に1ト1 jAll
 、、14: [J Hが印加されろと、境界面G1に
反転層]9が形成さ111部分9aと91つは低紙[)
℃で連結されろ。ゲート16n屯圧をカット16と、反
転層19およびそη)結果として9afo土び9b間の
低置シブm、!、!j合はii’1id2−r :p、
 n形:1゛ベノタのr、13分−q bは目的にri
5、(−て′電)JQ 2F)が取付けろね、ろ/)−
1そItは<何1「・、宕rをイイせず1.境界面()
(の・頃域内G七粘け6部分jE b内部〃))λ位差
1′・)鉗踊きせろ手役夕形成−(・つう 部4ニド0■)の左[醤りに(ま11形エミツタの部’
r’j 9 a’が、p形ベースの領戎2ml、g′そ
σ)間(つ二年f’Eさげてp形ベース10中に[申入
さ)1ている。部分()a′O)右、lコこ211;犬
1・、7+よ1〕形領賎二) 2 /IZ挿入さ几てお
つ、そノtはJ滝V^!、’−11(、’t ]までθ
)びろと」尖に、そこに刀ソード)1す尻イ眞23が(
妾1独し、7(しはfTJ p、17 K 、’、;、
:l(分()a’にも竪イf11ニジている。電イ扼2
3は端子L(’ l/C接続へitて−7・仁半褥体′
;5し・J172とδ]1n221i・言1〕形ブー\
′イ・ル’v、’l I S finタカ…トランジス
タの、!−ストトレーン領域な′形成し、そのチVネル
領域(トン1と22σ)間に位慣−4−1b部分つλ′
の周縁領1・・し)−て構成さ;t、領トリしシ4はゲ
ート25て唆わJt′Cいる。こσ)ゲート25は端f
−26ヲ備え、カッ’、”、i、 <、K +rQ 禄
1’、?i27 Kより境界面(’t +から分ジ1t
さ、itている。?iif:’子2;5に負“「λ圧−
jJ2な印加イ・6と、境界面t’−i 1 td屡し
また領1成25乃下部に、部分21粘よび22もしく・
、ま21および1ぐノを低t!E !7′cで、橋台−
「る反転層が形、吸さJt5 そ1tは覗l−1三−U
、をカットすると1lil滅f局。 サイリスクの制御1里+f28はい形ベース」0に接触
し、かつ点弧・代I’lE IJZが印加gr+、ろ端
子7(第1図)?備えている。p形エミッタ12に(・
オ帽子Aを備えたアノード側電極12ah−取付げらオ
tている。 n形エミッタ部分9 a、  9a’ (gコニび9a
”iip形ベース10の局部領域29でとりかこまi”
L″CfUす、領域29は伺加さ、ltたp形;パ−ビ
ングケ(rし、その結果p形ベースJ□ tn [12
の通常;・i:戊よりドーピング密度が高い。部分9a
をとりかこんだ局部領域29 LI)ため、9a、10
および】1から成ろ三層構・4体はサイリスク導通方向
の屯1五が、)、q子1へお、J:び1(/eこ印j)
1)さ+1なとき11形エミツクから注入さiするエレ
クトロンに関し、ある電流1曽(し量率αnpn2f 
、y)<−fが、そJ’Lは同じ条件−ドで0形エミツ
タから71已入さオするエレクトロン(乞以1−4−る
9JIQおj二よりは小さい。この局部領ii+1j2
9の!i;lI:!iにエリ、制呻電)返28 ’、”
l111″A子rZに印加2さAしたパルス状・フ)正
C0電圧1/(、J:り透51さルて1〃イリスタが6
点弧した後、負荷電流が1)形エミッタ12かも+1形
エミツタ9bに向って流れろと東ちVl:、反転層】9
が形成さ2tろ。 そA71−に対し′電流増+’i”;A ’j這χ  
 の方が小さいので19n2 エミッタ」2かもn形エミッタg a itC向って゛
電流は流才tない。 n形エミッタ部分95をエミッタE】、そしてn形エミ
ッタ部分Qa:5J二び9a’ンそ′A’LぞILエミ
ッタ’E 2と杓号をつけ几ば、負イア7電流或はその
一部j、ま、図中電流通路;うつで・示した様1.て、
p形エミッタJ2かもエミッタElへ、モして反F、層
19・2介してその右1i司に”、 1n flす・5
エミツタE 2−26よび更に′成極14 ’に介して
端子に’へ流れる。しかしながら反転層I9が不活性化
さル、か′つゲート25下部θ)反転層が活性化されろ
と、負荷電流或はそミハ一部はi−ンオフ電流3】とし
て流れり5ける。 つまりもはやElを経由′fにとなく2J、左側のエミ
ッタE2,22.23を介して端子lぐへ流れろ。この
ことはt不労9a、9bすdよびA5ないし19からな
る′覗痒効果トランリツクが箒1mθ)スイッチングト
ランジスタTri  に完全に該当し7、一方部分21
. 22. 9a’および2・1ないし27で構成さi
tた電W効果i・ランリスクが第1図σ)スイッチング
トランジスタTr2 にほぼ(目当f5゜そのとき相違
する点(・′!端子26に印加される制ル111電圧−
U2が負極性であることだけに注目−1″礼ば、j二い
。第1図の負荷ル流通LY、S (A+ K+  ”+
 T r 1、に勺 は143図の電流!・′各(A、
  FEI、  」9. E2.14tiよび[(′)
に相当し、一方第1図の、夕・−ンオノバイベスr各(
6+  L Tr2 *−にび■(′)は第3図の肛流
幣(21,E2,22.23および1’(1)疋(目当
する。 エミッタE1尾向ったサイリスクの負荷電流も[7くは
その一部は導通状態(期間゛1”、)・フ)間、Elの
右に位置するエミッタE2かも端子[(’へ導かi\一
方しゃ断時(’1JIiH!’r、  ) 、疋C才、
E i f乃防りを゛1リーrぎ、その71′:、LC
(q :1才ろエミッタE2を2怪山して端子T(’へ
流〕tろ。サイ・リスクがブロッキング状態で番41而
方f・′)スイッチングトランジスタTrJ MJ:び
Tr2 はい「れもノダ゛15状f、喫i□ン二あろが
、こJtは2K 3F2J(c:F=イ”C1反i黴層
I9もまたゲート25下部θ)反I詠層も共に形成、3
れているこ、とシき、1床−tろ。 こ0)ことにより半・ひ「1長スイツチ「0ミス点弧に
対−1−る充分な安゛、き性7シ翼4ら3ろ。 i!ljJ Ijh (ハ、11形工ミツタ11VI分
9a’ 、  9 b 、−:=よび9aY1イduえ
たエミッタ(を造E 2 +  E I r  E 2
 ”f’J[・こ、第3 弓、’、;l:半”/’ 体
<’+4 ・r”−9a、9b′おJ、び(3a”を備
えlこ一部のシ洒イ以J)エミッタ構1)’% B 2
 、  E1’ 、  E2’t 示す。これらθ)エ
ミノタイ;I; 、、;a (1發を力6冗5Q亦1−
たス・イツチング化゛i2t、: l・Cつきあらゆる
1、′民で本″苅的(・こ同一であイ)。ここて゛はC
ン1面J: IC’j’4己;滑さ几プこゲートおよび
竜(函はエミッタ構・告E2.El、E2の当、;亥部
分を1n列に結んで、C′席子J7.26沿よび
【ぐに
1妾を売さA1.ている。(Oiミニミッタ、六番ま・
5貞H(1,t、、ていルv’>で、1)形エミッタ部
分(1aの右1漫にスイッチングトランジスタ゛rr2
 が形成され、そILは構造及び動作技能ICついて、
部分2+、  22. 24゜25.26j6J、びコ
27からノーとるス、イソテノグトランジスダrr2 
に完全に一致する。第3図のエミッタ構造E 2.  
E+’、  B2′VcML、、B+′x向5負荷電流
σ)一部二12は期間゛r3において 1;22をン介
I2て端子1ぐ’VC導カt”L、 7.、) +71
 ic対し、期間T −+−テttターンlフ電流33
としてエミッタE2を介して端子1ぐ′に向う。 サイリスタを介して流すべき負荷7Ji流のブぐきさに
応じて、エミッタE】とそ・フ)両脇に:e)今Xスし
た2個〃)エミッタE 2で嘴成さノ’した複数のエミ
ッタ構造体を共通な半・覆体竹板」−に唆[?11−ゐ
ことも可能である。特1でエミッタ構j′υ体をエミッ
タ列F:2、El、E2.E2.El、E2:’亨とな
ろようむて構成してもよいし、或はそ′AtそJ’L相
隣1コ2同−5エミッタ呂2をただ11固のここミッタ
E2に置き)葵え、そIz +C第3図θ)エミッタ9
 a Vc1目当して)・ランリスクTr1 の傍らG
てトランジスタTr2 ’¥備え乙ことも可能で、う”
) 、3 本発明lI)枠内て゛、■なろ:環流増I晶率1lap
nl とαnl’1i12は、p lIgベース1oθ
)局pa++領、’yQ 29 :2 。 通′、≧ηθ)p形エミッタ部分より強くはドープせず
、そ(・′)代り(て再結合中心な伺加−「、5こと5
てよっても達成さ1t15oこり)ここは電J−照材(
(よ−′〕てn形エミッタ1.5分9aを作る前(tこ
、局部領域29に限定してp+杉ベース10を呵υ2τ
十−・「ろことにより実現さ31゜乙。他のガムとして
金または白金111子′:i−局部1・li 1j(2
9中に拡散または注入沈しめて再請合中心を形成fろこ
ともi’iJ能でちろ。局部領域29内のT″S、詰合
中心σ)数が憎−を程α   lよ、α   忙くら!
1pn 2    npn ] べて小さくなろう同じl或少効1[はn形エミッタ部分
9b(6,、l二び9b′にくつべてn形エミッタ部分
9a、9a′腐よび9a“のp形−\−ス10中への(
里め込・7幅欝さると、曳くす合ことに訳っても達成さ
−する。 さらにn形エミッタθ2代りCτp形エミッタ12乞イ
固々のエミッタ部分に分害昨″ることも貞]白巨で・あ
ィ)。そCハ各部分はベース層11しJ、び10と共に
冗−った′・E流111幅;1α   おJ−びCχ 
  を商才ρl1pi      1)11p2 ろそ几ぞi%三層1146えを形「父(2、かつその周
、1ケこトランジスタTr1に6よびrr2  を備え
たもθ)とすることが可能で、りろ。本発明θ)こlハ
J:5な11′し泥・ネ、第3図で、半・尊体領(・2
にθ)全体θ)導電形を勇トニし、DjM子八]へ、、
l:びl(′を互に入)を換え、かつ電圧?そλ1゜そ
れ反対の・テ外に゛ぐろことにより税+j;]されて)
。 玉 図面・フ)簡jliな1悦明 を列11図は・)X光間の実、姉例のIJイ売図、第2
図は41図00作を説明1「ろためθ)クイムチーーー
ト、第3図は本発明のや尊体スイッチな喚債[・旧□1
1技術に1J:り構成した実施fクリθ)断「1行「月
でJらろ。 】 ・・・ サイリスク、  Tri、Tr2 ・・・
 スイッチングトランジスタ、9a、 9a’、 9a
″、 9b、9b’・・・ IIW=5エミッタ、  
】0 ・・・ p形ベー、ス、】1 ・・・ 11 形
ヘーース、  12 ・・・ p形エミッタ、A・・・
アノード;(h1子、 K′・・・カノード端子。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)しゃ断可能なサイリスクと、サイリスクの配線中に
    スイッチング区間を挿入した第一のス・イツチングトラ
    ンジスタと、サイリスタの制御極を第一のスイッチング
    トランジスタθ)サイリスクに向かう側と反対側と結ぶ
    しゃ断電流路と、このしゃ断電流路中にスイッチング区
    間を挿入した第二のス・イツチングトランジスタとを備
    えたことを特徴とする半導体スイッチ。 2)スイッチングトランジスタはMISt界効果トラン
    ジスタとして形成されていることを特徴とする特N’F
    請求の範囲@1項記載の半導体スイッチ。 3)サイリスクは半導体基板を備え、この半導体基板は
    複数、に分割さ八た11(p)形エミッタと、それに隣
    4妾するp(nH杉・ベースと、アノード側(カンード
    叫)電極に接触するp (n)形エミッタと、そ2tに
    隣接するn’rp)形ベースとを含み、このn C1)
    )形ペースは前記p (nl形ベースに隣接し、第一の
    n<p)形エミッタ部分の両s K 、それから間隔を
    おいて第二の++ ′p)形エミッタ部外ノ)−2添且
    自己置さ1t、こ1tらの第二二〇’l n (p)形
    エミッタ部分はカノードlIl (’7ノードf!il
    l )電極と1妾触し゛(taつ、第一のrr ’pl
    形エミッタ部分および第二のn fp)形エミッタ部分
    のうらの第一のものの周縁部は、こ几らの周縁i邦から
    分隨さ、+1かつ′d気絶縁1・+4を介して半・4体
    基板の境界面から分子;[#さ21.ているゲートに訳
    り覆わオtているpO〕)形ベースの部分と共に、第一
    のスイッチングトランジスタを形成し、第一の+1 (
    p)形エミソク部分を第二のn(p)形エミツク部)θ
    )うちの21にσ)ものから分子at していイ) +
    1 (ni形エミッタの領域が、境界面で半導体書板内
    に喚積さit、かつ第二のスイッチングトランジスタン
    形成している電界効果トランジスタ乞介して、第二〇)
    n (pj形エミッタ部分tr)うちの第二〇)ものに
    シ妾ら虫している電1礪に接続さ11.ていることを特
    徴とする特許請求の範)1u第2項記I哉n半辱「本ス
    イッチ。 4)半導体基板上に複数のr+ (p)形エミッタ部分
    が設けら1t、そ1tらはそ1tぞれその両脇に2組の
    第二のn (p)形エミッタ部分を備えていることを特
    徴とする特許請求の範囲第3項紀lhkの半導体スイッ
    チ。 5) 2組の第一のn(p)形工汁ツタ部分の間に第二
    u)n (p)形エミッタ部分がへこ置され、そオしが
    第一のn (p)形エミッタ部分の一部分に対しては第
    二σ’) n (pi形エミッタhl1分の第一部分を
    、そして第一のn fp)形エミッタ部分の池θ)部分
    に対しては第二o)n (p)形エミッタ部分の第二部
    分全形成していることを特徴とする特、杵請求の範開第
    4項記・l戊の半導体スーrンチ。 6)XJfJ−のn(pン形エミッタ部分はそれぞれl
    ) (nl形ペースおよびIN(Pl形ベースと共に三
    層構造式されたキャリアにχ」−(−るその電流増幅率
    は、各第二のn lp)形エミッタ部分、p(n)形ベ
    ースおよびn (p)形ベースで溝数された三層構造体
    の÷゛1応する′電流増幅率より大きいことを特徴とす
    る特許請求の範囲第3頃ないし第5項のいスオしかに記
    載の半導体スイッチ。 7)第一〇)n (p)形エミッタ部分σ) p(n)
    形ペース中−・の埋込み深さが、第二のn (pi形エ
    ミッタ部分より深いことを特徴とする特許請求の範囲第
    6項記載の半導体スイッチ。 8)第二のncpl形エミッタ部分がp (ni形ベー
    スσ)局部領域によりかこまれており、その局部領域の
    ドーピング濃度は、第一のn(p)形エミッタ部分をか
    こむp(n)形ペースの局部領域のドーピング一度より
    高いことを特徴とする特許請求の範囲第6頃記械の半導
    体スイッチ。 9)第二のn (pi形エミッタ部分がp fn)形ベ
    ースの局部領域によりかこまれており、その局部領域は
    、第一のn rp)形エミッタ部分をかこむp (n)
    形〈−スσ)局部領域より単位空間当りより多くの再結
    合中心を有することを特徴とする特許請求の範囲第6項
    記載の半導体スイッチ。 10)  サイリスタがブロッキング吠態ニあるどき、
    両スイッチングトランジスタは共に導4状態におかれ、
    サイリスクは制御電(侃に印加されたパルス状の点弧1
    1田により点弧され、その間第二のスイッチングトラン
    ジス〃は阻dユ状態におかれ、サイリスタが導1虫状態
    にあるとき第一のスイッチングトランジスタはi4.I
    T+状態におか:n、、かつ第二のスイッチングトラン
    ジスタは明IJ二4犬、1甜におか才t、サイリスクを
    しゃ断するために第一のスイッチングトランジスタは閉
    止状態に、かつ第一のスイッチングトランジスタは導通
    状態に粘か1tろことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の半導体スイッチ。
JP58150124A 1982-08-18 1983-08-17 半導体スイツチ Pending JPS5954329A (ja)

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DE19823230741 DE3230741A1 (de) 1982-08-18 1982-08-18 Halbleiterschalter mit einem abschaltbaren thyristor

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