JPS595712Y2 - 乾式セメントプラント用仮焼設備 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は乾式セメントプラント用仮焼設備に関するもの
で、特に、セメント原料の仮焼炉に関する。

乾式セメントプラントにおいては、セメント原料をロー
タリキルン等で焼或する前に仮焼設備で仮焼されている
。

本考案は、この仮焼設備において、仮焼炉内のセメント
原料の滞留時間を長くして仮焼効率を改善したものであ
る。

以下本考案の一実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は乾式セメントプラントの全体構戒図を示し、１
はロータリーキルン、２はそれに接続されたクリンカク
ーラ、３はロータリーキルン１に臨むバーナ、４はロー
タリーキルン１の先端に取付けられたキルンフード、５
はキルンフード４の上方にキルン排ガスダクト６を介し
て設けられた仮焼炉、７は該仮焼炉５の後方に設けられ
た後燃焼室で、排ガス抜取管１６の途中に設けられてい
る。

８はクリンカクーラ２と上記仮焼炉５を連通するクーラ
柚気ダクトである。

９〜１２は１段目〜４段目サイクロンであり、それぞれ
排ガス抜取管１３〜１５で順次連通されている。

更に、４段目サイクロン１２と仮焼炉５とは排ガス抜取
管１６により連通している。

また、１段目サイクロン９は排ガス抜取管１７を介して
排気ファン１８に接続され、１段目と２段目のサイクロ
ン９，１０を連通ずる排ガス抜取管１３にはセメント原
料投入部１９が設けられている。

１段目サイクロン９の下部に設けられた原料移送管２０
は２段目と３段目のサイクロン１０．１１を連通ずる排
ガス抜取管１４内に、２段目サイクロン１０の下部に設
けられた原料移送管２１は３段目と４段目のサイクロン
１１．１２を連通ずる排ガス抜取管１５内にそれぞれ開
口せしめられている。

また、３段目サイクロン１１の下部に設けられた原料投
入管２２は仮焼炉５内に連通され、４段目サイクロン１
２の下部に設けられた仮焼済原料導入管２３はキルンフ
ード４に接続されている。

原料投入部１９から投入されたセメント原料は排ガス抜
取管１３、１段目サイクロン９、原料移送管２０、排ガ
ス抜取管１４、２段目サイクロン１０、原料移送管２１
，排ガス抜取管１５、３段目サイクロン１１，原料投入
管２２を経由して仮焼炉５内に投入される。

この時、セメント原料はサイクロン９〜１１によって熱
交換され、十分に昇温されている。

一方、ロータリキルン１からの排ガスはキルンフード４
よりキルン排ガスダクト６を介して仮焼炉５内の底部に
導入され、また、クリンカクーラ２からのクーラ抽気ガ
スはクーラ抽気ダクｌ− ８から仮焼炉５内の中間部に
導入される。

そして、仮焼炉５において、仮焼されたセメント原料と
排ガスは排ガス抜取管１６の途中に設けられた後燃焼室
７で完全燃焼されて４段目サイクロン１２に送られ、こ
こでセメント原料と排ガスが分離され、セメント原料は
仮焼済原料導入管２３を介してロータリキルン１内に導
入される。

次に、仮焼炉５の詳細を第２図及び第３図に基づいて説
明する。

仮焼炉５は円筒状の胴体部３１と該胴体部３１上端に接
続する内面が球面状の天井部３２と上記胴体部３１下端
と接続する円錘形状の下部壁体３３とから構威されてい
る。

該下部壁体３３の底部には、仮焼炉５の胴体部３１の軸
心に対して偏心させられて排ガス導入口３４が設けられ
ており、キルン排ガスダクト６に接続されている。

上記下部壁体３３より少し上方の胴体部３１に抽気ガス
の導入口３５が２個設けられており、該各抽気ガス導入
口３５はそれぞれクーラ柚気ダクト８に接続されている
。

該２個の抽気ガス導入口３５は、前記下部壁体３３の底
部に設けられた排ガス導入口３４から導入されるキルン
排ガスを両側からはさみ込むように且つ少し上方に向く
ようにされている。

原料導入口３６は上記排ガス導入口３４とは反対側の下
部壁体３３斜面に沿うように、胴体部３１下方に設けら
れている。

また、該原料導入口３６は原料投入管２２と接続してい
る。

更に、上記原料導入口３６と天井部３２との間で且つ天
井部３２より所定間隔離れた下方位置で、排ガス抜取口
３７が前記排ガス導入口３４と反対側の胴体部３１に設
けられている。

該排ガス抜取口３７の下端部には、該下端部を含む炉壁
円弧周面から仮焼炉５内に斜め上方に突出し、その先端
部が凹状に形威された三日月状のガイド板３８が取り付
けられている。

該ガイド板３８は、その下面で仮焼炉５内のセメント原
料と排ガスとの混合ガスの流れを変えて球面状の天井部
３２を沿わずようにすると共にその上面で天井部３２を
沿って降りてきた混合ガスを排ガス抜取口３７に案内す
るものである。

また、仮焼炉５内下方部には脱硝用バーナ３９が、中間
部には仮焼用中間バーナ４０が、天井部３２には仮焼用
天井バーナ４１が例えば２個づつそれぞれ設けられてい
る。

上記仮焼用中間バーナ４０及び天井バーナ４１は操作条
件によって適当に使用される。

前記排ガス抜取口３７は４段目サイクロン１２に連通ず
る排ガス抜取管１６に接続されており、該排ガス抜取管
１６の途中には後燃焼室７が設けられている。

該後燃焼室７は仮焼炉５と同様に球面状の天井部４２と
円筒状の胴体部４３と底部４４より構或されている。

そして、該底部４４の一方は前記排ガス抜取口３７と連
通ずると共に他方は４段目サイクロン１２と連通してい
る。

更に底部４４の中央部には尖端状の突出部４５が直径方
向に互って形威されている。

該突出部４５の仮焼炉５側斜面は凹状に形戊されて排ガ
ス抜取口３７からのセメント原料と排ガスとの混合ガス
が後燃焼室７の球面状の天井部４２に向かうようにされ
ている。

また、上記突出部４５の４段目サイクロン１２側斜面も
同様に凹状に形戊されて上記天井部４２より胴体部４３
壁面に沿って降りて来た混合ガスが４段目サイクロン１
２に移動しやすいようにされている。

上記後燃焼室７からの排ガス抜取管１６は、４段目サイ
クロン１２の半径方向外周寄りの位置で、サイクロン１
２に接続されている。

次に、作用を説明すると、原料導入口３６より導入され
たセメント原料４６は、排ガス導入口３４より導入され
るキルン排ガスにより上方に噴き上げられる。

このセメント原料を伴った排ガスは脱硝用バーナ３９に
より脱硝されると共に、抽気ガス導入口３５より導入さ
れるクーラ柚気ガスと混合される。

クーラ抽気ガスは上記セメント原料を伴った排ガスを両
側からはさみ込むように、且つ上方に導くように仮焼炉
５内に導入されているので、これらの混合ガスは旋回流
でなく噴流を形威しながら上昇する。

そして、仮焼炉５内の中間部に設けられたガイド板３８
の下面によって、混合ガスはその流れる方向が変えられ
、仮焼用バーナ４０及び４１によって仮焼されながら仮
焼炉５内の球面状の天井部３２に沿ってＵターンして、
胴体部３１の壁面に沿って下降する。

そして、下降してきた混合ガスはガイド板３８の上面で
排ガス抜取口３７に案内され、後燃焼室７に移動してい
く。

後燃焼室７内に移動した混合ガスは、更に、ここで完全
燃焼させられて４段目サイクロン１２に移動していく。

なお、仮焼炉５内及び後燃焼室７内に示される矢印は混
合ガスの流れる方向を示すものである。

以上のように、本考案の乾式セメントプラント用仮焼設
備によれば、キルン排ガス、クーラ抽気ガス及びセメン
ト原料の混合ガスは排ガス抜取口ヘショートパスするこ
となく仮焼炉の天井部へ一旦上昇してＵターンさせられ
、そして下降して排ガス抜取口より排出されるため、仮
焼炉を低くしてもセメント原料の滞留時間を長くするこ
とができる。

また、排ガス抜取口を仮焼炉の天井よりかなり低い位置
に設けることができるので、４段目サイクロンの設置位
置も低くでき、ひいてはセメントプラント設備全体を低
くできることになる。

また、従来のもののように、セメント原料の滞留時間を
長くするためにわざわざ旋回流にする必要がなくなり、
仮焼炉内壁面との摩擦による圧力損失を大きく減少させ
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例の全体構或図、第２図はその
要部断面図、第３図は第２図のＡ−Ａ矢視断面図である
。 １・・・・・・ロータリキノレン、２・・・・・・クリ
ンカクーラ、５・・・・・・仮焼炉、６・・・・・・キ
ルン排ガスダクト、７・・・・・・後燃焼室、８・・・
・・・クーラ柚気ダクト、９〜１２・・・・・・サイク
ロン、１３〜１６・・・・・・排ガス抜取管、２２・・
・・・・原料投入管、３７・・・・・・排ガス抜取口、
３８・・・・・・ガイド板。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. セメント用仮焼炉本体底部に排ガスダクトを接続し、該
   接続部より上方位置に原料投入管を接続し、該原料投入
   管の接続部と上記仮焼炉本体天井部との間に排ガス抜取
   口を設けると共に該排ガス抜取口下端に前記仮焼炉内中
   央部に突出するガイド板を設けたことを特徴とする乾式
   セメントプラント用仮焼設備。