JPS5929932Y2 - 粉末原料の仮焼炉 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、セメントやアルミナなどの粉末原料の仮焼装
置に関するもので、とくに、仮焼炉の型式を旋回気流炉
とし、その最上部に絞り室および旋回流出室を設けた仮
焼炉と、この仮焼炉の直下に連設された渦巻室とからな
る仮焼装置に関するものである。

従来のこの種の装置の仮焼炉は、その頂部に絞り室およ
び旋回流出室がないので、粉末原料の仮焼炉での滞留時
間を長くさせるためには、仮焼炉の高さ方向の長さを長
くしたり、内径を大きくしたり、あるいはその両方を取
り入れなければならなかったため、種々の支障があり、
とくに、建設費の面で不利であった。

本考案は、仮焼炉を旋回気流炉とし、かつ、その最上部
に絞り室および旋回流出室を設けて炉内の旋回力を強め
ると同時にガスと粉末原料の相対旋回速度を変えること
により、その原料を絞り室の頂部で保持させて、仮焼炉
内でのその原料の滞留時間が長くなるようにし、その原
料の仮焼が助長されるようにすることによって、燃焼時
間の長い燃料を使用する場合でも、仮焼炉を小型化する
ことができる粉末原料の仮焼装置を提供することを目的
とするものである。

このため、本考案の構成は、仮焼バーナを有するととも
に上方にいくにつれて大なる内径を有して上向きの旋回
流層を形成する截頭逆円錐部と、この截頭逆円錐部の上
部に連設されて該截頭逆円錐部の最大内径に等しい内径
を有して上向きの旋回流層を形成する円筒部と、この円
筒部の上部に連設されて該円筒部の内径よりも小なる内
径を有するとともに閉鎖された頂部を有して該円筒部か
らの上昇旋回流を絞る絞り室と、この絞り室の旋回流出
室に連通していてその旋回流の方向に沿って設けられた
連結ダクトとからなる仮焼炉を備え、かつ、この仮焼炉
の前記截頭逆円錐部の直下に連設されて燃焼用二次空気
ダクトを接線状に接続しているとともにキルン排ガスダ
クトを底部中央に連結している渦巻室を備えていること
を特徴としている。

以下、本考案の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。

図面において、ａはセメント原料などの粉末原料の仮焼
炉で、下から上へと順に、截頭逆円錐部１と、円筒部２
と、絞り室３と、旋回流出室４および連結ダクト５とを
有し、該逆円錐部１には仮焼バーナ６が設けられている
。

すなわち、仮焼炉ａは、仮焼バーナ６を有するとともに
上方にいくにつれて大なる内径を有して上向きの旋回流
層を形成する截頭逆円錐部１と、この截頭逆円錐部１の
上部に連設されて該截頭逆円錐部１の最大内径に等しい
内径を有して上向きの旋回流層を形成する円筒部２と、
この円筒部２の上部に連設されて該円筒部２の内径より
も小なる内径を有するとともに閉鎖された頂部を有・し
て該円筒部２からの上昇旋回流を絞る絞り室３と、この
絞り室３の旋回流出室４に連通していてその旋回流の方
向に沿って設けられた連結ダクト５とからなっている。

また図面において、７は渦巻室で、前記截頭逆円錐部１
の直下部に連通しており、図示されていないり・リンカ
クーラの排気などを燃焼用二次空気として空気ダクト８
から導入して旋回気流を形成するようになっている。

また９はキルン排ガスダクトで、その上端が前記渦巻室
７の底部中央に連通しており、途中に粉末原料を投入す
る粉末原料供給シュート１０が連結されている。

図示されているように構成された粉末原料の仮焼装置に
おいては、空気ダクト８から渦巻室７に導入された燃焼
用二次空気は、渦巻室７で旋回気流となって截頭逆円錐
部１に至り、仮焼バーナ６からの燃料を燃焼させる。

一方、図示されていないサスペンションプレヒータなど
の予熱装置で予熱されたセメント原料などの粉末原料は
、粉末原料供給シュート１０からキルン排ガスダクト９
に投入され、このダクト９のキルン排ガスの上昇気流に
乗って渦巻室７の中央を上昇して截頭逆円錐部１に至る
。

したがって、この逆円錐部１内では、燃焼ガスと粉末原
料の上昇旋回流層が形成され、粉末原料はある程度仮焼
されて円筒部２に至る。

この円筒部２内でも、前述のような上昇旋回流層が形成
され、粉末原料はその殆んどが仮焼され、こののち、円
筒ＮＳ２の上昇旋回流量は絞られながら絞り室３に至る
。

すなわち、この絞り室３では該旋回流層が絞られるため
、ガスと粉末原料は、ともに増速するが、ガス流が増速
するほどは粉末原料の増速かないので、ガスと粉末原料
の相対旋回速度が変わり、とくに、仮焼が不充分な粗粒
原料は、慣性力の関係で、ガス流からみれば、停滞ぎみ
になり、そのうちのあるものは絞り室３の頂部に突き肖
って反転して下降するので、その仮焼の不充分な粉末原
料は円筒部２に戻されて仮焼され、やがて再び絞り室３
に至り、これを繰り返えして均質な仮焼原料として旋回
流出室４の出口から排ガスに同伴されて連結ダクト５を
通って、図示されていない分離サイクロンに至る。

上述のように、本考案の仮焼装置によれば、まず、渦巻
室で旋回気流が確実に形成されて、仮焼炉の下部の截頭
逆円錐部で上向きの旋回流層を形成して粉末原料をある
程度仮焼し、つづいてその上部の円筒部で上向きの旋回
流層を形成して仮焼し、とくに、最上部の絞り室で絞っ
てガスと粉末原料の相対旋回速度を変え（炉内に原料を
保持して仮焼の不充分な粉末原料の仮焼を助長し、また
絞り室の頂部が閉鎖されているため、仮焼の不充分な粗
粒原料は、この頂部で反転して下降し、前記円筒部で仮
焼を繰り返えすので、絞り室上の旋回流出室からは、均
質に仮焼された粉末原料のみが排ガスに同伴されて連結
ダクトに排出されることになるから、キルンでは良質の
クリンカに焼成することができる。

また仮焼炉での粉末原料の滞留時間を長くすることがで
きることと、キルン排ガスダクトを渦巻室の底部中央に
連結していて仮焼炉で高温のキルン排ガスの顕熱を充分
に原料粉末に伝達することができることとにより、粉末
原料が充分に仮焼されるので、燃焼時間の長い燃料を使
用する場合でも、仮焼炉を小型化することが可能であり
、仮焼装置の建設費を著しく低減することができるのみ
ならず、仮焼に必要な燃料費をも低減することができる
など、本考案の奏する効果は、きわめて大きい。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の一実施例を示したもので、第１図は断面
正面図、第２図は第１図の切断線Ａ−Ａに沿う断面平面
図である。 ａ・・・・・・仮焼炉、１・・・・・・截頭逆円錐部、
２・・・・・・円筒部、３・・・・・・絞り室、４・・
・・・・旋回流出室、５・・・・・・連結ダクト、６・
・・・・・仮焼バーナ、７・・・・・・渦巻室、８・・
・・・・燃焼用二次空気ダクト、９・・・・・・キルン
排ガスダクト、１０・・・・・・粉末原料供給シュート
。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 仮焼バーナを有するとともに上方にいくにつれて犬なる
   内径を有して上向きの旋回流層を形成する截頭逆円錐部
   と、この截頭逆円錐部の上部に連設されて該截頭逆円錐
   部の最大内径に等しい内径を有して上向きの旋回流層を
   形成する円筒部と、この円筒部の上部に連設されて該円
   筒部の内径よりも小なる内径を有するとともに閉鎖され
   た頂部を有して該円筒部からの上昇旋回流を絞る絞り室
   と、この絞り室の旋回流出室に連通していてその旋回流
   の方向に沿って設けられた連結ダクトからなる仮焼炉を
   備え、かつ、この仮焼炉の前記截頭逆円錐部の直下に連
   設されて燃焼用二次空気ダクトを接線状に接続している
   とともにキルン排ガスダクトを底部中央に連結している
   渦巻室を備えていることを特徴とする、粉末原料の仮焼
   装置。