JPS5960435A - 均質なエラストマ−状感光性組成物 - Google Patents
均質なエラストマ−状感光性組成物Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフレキソ印刷系において主として印刷版として
使用すべく企図される感光性ニジストマー状物品を生産
するだめのカルボキシル基を含まない高分子量シタジエ
ン/アクリロニ) IJル共重合体を配合したカルボキ
シル基を含む高分子量シタジエン/アクリロニトリル共
重合体に関する。
使用すべく企図される感光性ニジストマー状物品を生産
するだめのカルボキシル基を含まない高分子量シタジエ
ン/アクリロニ) IJル共重合体を配合したカルボキ
シル基を含む高分子量シタジエン/アクリロニトリル共
重合体に関する。
本発明の可撓性感光性重合体印刷版は半一水性塩基性溶
液中で大量に急速に処理することができる。印刷版はま
た塩素化炭化水素溶液中または塩素化炭化水素とアルコ
ールの配合物中においても処理することができる。版は
また広いm類の印刷インキ、特に水、アルコール、およ
び炭化水素乞基剤とするインキに対して優れた溶剤耐性
を示す。
液中で大量に急速に処理することができる。印刷版はま
た塩素化炭化水素溶液中または塩素化炭化水素とアルコ
ールの配合物中においても処理することができる。版は
また広いm類の印刷インキ、特に水、アルコール、およ
び炭化水素乞基剤とするインキに対して優れた溶剤耐性
を示す。
組成物はまた他の感光性印刷版工りも優れた摩擦および
オゾン耐性なら゛びにより良い感光性を示す。
オゾン耐性なら゛びにより良い感光性を示す。
英国特許第1,358,062号はアクリル酸またはメ
タクリル酸から誘導した付加光重合性トリーまたはテト
ラー不飽和エステルおよび化学線によって活は化し得る
付加重合開始剤を伴なったニトリルゴムで4達成される
感光性組成物を開示する。これらの組成物からつくった
版は単に溶剤の除去によって加工して軟かい可撓性印刷
版乞つくることができる。
タクリル酸から誘導した付加光重合性トリーまたはテト
ラー不飽和エステルおよび化学線によって活は化し得る
付加重合開始剤を伴なったニトリルゴムで4達成される
感光性組成物を開示する。これらの組成物からつくった
版は単に溶剤の除去によって加工して軟かい可撓性印刷
版乞つくることができる。
米国特許第3,825,430号は光敏感性有機物質の
連続相と連続相、即ちカルボキシル含有、高分子量シタ
ジエン/アクリロニトリル共重合体を通して均一に分配
された微細なニジストマー状有機化合物の不連続相を含
む感光性組成′#Jを開示する0 米国特許第4,177,074号はカルボキシル基を含
む高分子量ブタジェン/アクリロニトリル共重合体およ
びカルボキシル基を含むかまたは含まない低分子量ブタ
ジェンポリマーおよびエチレン系不飽和モノマ−1およ
び遊離基発生系を含む感光性組成物を開示する。この組
成物はフレキソ印刷版としての用途を有するが、洗浄除
去(現像)中に溶剤の連続的交換に必要とする。
連続相と連続相、即ちカルボキシル含有、高分子量シタ
ジエン/アクリロニトリル共重合体を通して均一に分配
された微細なニジストマー状有機化合物の不連続相を含
む感光性組成′#Jを開示する0 米国特許第4,177,074号はカルボキシル基を含
む高分子量ブタジェン/アクリロニトリル共重合体およ
びカルボキシル基を含むかまたは含まない低分子量ブタ
ジェンポリマーおよびエチレン系不飽和モノマ−1およ
び遊離基発生系を含む感光性組成物を開示する。この組
成物はフレキソ印刷版としての用途を有するが、洗浄除
去(現像)中に溶剤の連続的交換に必要とする。
米国特許第4,272,608号は少なくとも25チの
カルボキシル基が周期表のIIAまたはIB族の金属の
カチオンによって中和される高分子量カルボキシル化シ
タジエン/アクリロニトリル共重合体およびエチレン系
不飽和モノマーおよび遊離発生系を含む感光性ニジスト
マー状組成物を開示する。この組成物は感光性フレキソ
印刷版としての実用性を有するが、また洗浄除去中に大
量の洗浄溶剤または溶液を必要とする欠点がある。
カルボキシル基が周期表のIIAまたはIB族の金属の
カチオンによって中和される高分子量カルボキシル化シ
タジエン/アクリロニトリル共重合体およびエチレン系
不飽和モノマーおよび遊離発生系を含む感光性ニジスト
マー状組成物を開示する。この組成物は感光性フレキソ
印刷版としての実用性を有するが、また洗浄除去中に大
量の洗浄溶剤または溶液を必要とする欠点がある。
本発明は:
1)約30,000から125,000までの数平均分
子量、10から50重量%までのアクリロニトリル含量
、および1から15重量%までのカルボキシル含量を有
する約40から約90重瀘チまでの高分子量シタジエン
/アクリロニトリル共重合体、および 2)約50,000から100,000までの数平均分
子量、10かも50重量%までのアクリロニトリル含量
を有する約2から約6o重量%までの高分子量シタジエ
ン/アクリロニトリル共重合体、および 6)ポリマー1)および2)と相容性である光重合性エ
チレン系不飽和交叉結合剤、および4)化学線によって
活性化しうる付加重合開始剤 の均一配合物を含む可撓性感光性重合体印刷版である。
子量、10から50重量%までのアクリロニトリル含量
、および1から15重量%までのカルボキシル含量を有
する約40から約90重瀘チまでの高分子量シタジエン
/アクリロニトリル共重合体、および 2)約50,000から100,000までの数平均分
子量、10かも50重量%までのアクリロニトリル含量
を有する約2から約6o重量%までの高分子量シタジエ
ン/アクリロニトリル共重合体、および 6)ポリマー1)および2)と相容性である光重合性エ
チレン系不飽和交叉結合剤、および4)化学線によって
活性化しうる付加重合開始剤 の均一配合物を含む可撓性感光性重合体印刷版である。
これらの感光性、エラストマー状組成物は、カルボキシ
ル化および非カルボキシル化高分子量ブタジェン/アク
リロニトリル共重合体の均一配合物がカルボキシル化共
重合体の半−水性処理性をもたらさないという点で先行
技術と異にしそしてそれより優れており、事実それは一
定址の十−水性塩基性洗浄溶液によって処理されるポリ
マーの量を引延ばす。この引延ばされ半一水性洗浄除去
(約100%大きい容量)は洗浄m液からの非カルボキ
シル化ポリマーの自然な分離によって達成される。この
分離されるポリマーは前記の十−水性洗浄溶液から従っ
て機械的に除去することができ従って前記の十−水性洗
浄溶液中のポリマーの蓄積を遅くらせその結果溶液の利
用を引き延ばすことになる。
ル化および非カルボキシル化高分子量ブタジェン/アク
リロニトリル共重合体の均一配合物がカルボキシル化共
重合体の半−水性処理性をもたらさないという点で先行
技術と異にしそしてそれより優れており、事実それは一
定址の十−水性塩基性洗浄溶液によって処理されるポリ
マーの量を引延ばす。この引延ばされ半一水性洗浄除去
(約100%大きい容量)は洗浄m液からの非カルボキ
シル化ポリマーの自然な分離によって達成される。この
分離されるポリマーは前記の十−水性洗浄溶液から従っ
て機械的に除去することができ従って前記の十−水性洗
浄溶液中のポリマーの蓄積を遅くらせその結果溶液の利
用を引き延ばすことになる。
非カルボキシル化高分子量共重合体とカルボキシル化高
分子量共重合体の均一配合物の付加的特徴は組成物を純
塩素化溶剤(特にベルクロロエチレン)中で処理しうる
ようにすることである。これは非カルボキシル化共重合
体のアクリロニトリル含量を20から60%までの範囲
に調節することによって達成される。この事は何れかま
たは双方のポリマーが前記の溶剤洗浄溶液から自然に分
離することにより生じる引き延ばされた洗浄除去を有す
る純塩素化溶剤中で処理しうる配合物を生じさせる。こ
の分離したポリマーはこのように前記の溶剤洗浄溶液か
ら機械的に除去することができこれによって前記の溶剤
洗浄溶液中でのポリマーの蓄積を遅らせその結果溶剤の
利用を引き延ばす。溶剤または水性または半一水性洗浄
を用いる先行技術組成物は引延ばされる洗浄系がなく従
って洗浄除去中リポリマーの急速蓄積のために大量の洗
浄溶剤または溶液を必要とする。
分子量共重合体の均一配合物の付加的特徴は組成物を純
塩素化溶剤(特にベルクロロエチレン)中で処理しうる
ようにすることである。これは非カルボキシル化共重合
体のアクリロニトリル含量を20から60%までの範囲
に調節することによって達成される。この事は何れかま
たは双方のポリマーが前記の溶剤洗浄溶液から自然に分
離することにより生じる引き延ばされた洗浄除去を有す
る純塩素化溶剤中で処理しうる配合物を生じさせる。こ
の分離したポリマーはこのように前記の溶剤洗浄溶液か
ら機械的に除去することができこれによって前記の溶剤
洗浄溶液中でのポリマーの蓄積を遅らせその結果溶剤の
利用を引き延ばす。溶剤または水性または半一水性洗浄
を用いる先行技術組成物は引延ばされる洗浄系がなく従
って洗浄除去中リポリマーの急速蓄積のために大量の洗
浄溶剤または溶液を必要とする。
本発明は通例の版製作手順よりも優れた公知の工業的利
点である速度、低下した原価、および労力の少ないフレ
キソ印刷版ヲ製造するための感光材料を提供する。高分
子量カルボキシル化および非カルボキシル化共重合体の
均一配合物は高分子量共重合体だけを使用するために先
行技術配合物よりも優れた改良されたインキ相溶性を有
する。
点である速度、低下した原価、および労力の少ないフレ
キソ印刷版ヲ製造するための感光材料を提供する。高分
子量カルボキシル化および非カルボキシル化共重合体の
均一配合物は高分子量共重合体だけを使用するために先
行技術配合物よりも優れた改良されたインキ相溶性を有
する。
これらの組成物はまた改良された感度測定的性實(高い
硬化速度) (sensitometric prop
erties)を示し微細に細部像を再生するための化
学線輻射に対し少ない露出しか必要としない。
硬化速度) (sensitometric prop
erties)を示し微細に細部像を再生するための化
学線輻射に対し少ない露出しか必要としない。
英国特許第1,658,062号(Uniroyal
)中に記載されるように処方しそして感光性印刷版に加
工した場合にはブタジェン/アクリロニトリルの高分子
量共重合体は水性または半−水性塩基性浴液中では処理
できないそれはこれらがこの型の水性洗浄溶液中に全熱
溶解度または軟化を示さないからである。少なくとも2
重量%のカルボキシル基を含む低分子量ブタジェンポリ
マーと混合した高分子量カルボキシルブタジェン/アク
リロニトリル共重合体は光重合前に水性または半一水性
塩基性溶液に可溶性の感光性印刷版を生じる(米国特許
第4,177,074号)。この組成物は溶剤処理がで
きる感光性印刷版を生じる。ブタジェン/アクリロニト
リル結合剤の連続相および微細なカルがキシル含有高分
子量ブタジェン/アクリロニ) IJル共重合体の不連
続相を含む組成物は感光性組成物として使用された(米
国特許第3,825,430号)。そのような不連続組
成物はそれ自身は感光性印刷版組成物に向かない。
)中に記載されるように処方しそして感光性印刷版に加
工した場合にはブタジェン/アクリロニトリルの高分子
量共重合体は水性または半−水性塩基性浴液中では処理
できないそれはこれらがこの型の水性洗浄溶液中に全熱
溶解度または軟化を示さないからである。少なくとも2
重量%のカルボキシル基を含む低分子量ブタジェンポリ
マーと混合した高分子量カルボキシルブタジェン/アク
リロニトリル共重合体は光重合前に水性または半一水性
塩基性溶液に可溶性の感光性印刷版を生じる(米国特許
第4,177,074号)。この組成物は溶剤処理がで
きる感光性印刷版を生じる。ブタジェン/アクリロニト
リル結合剤の連続相および微細なカルがキシル含有高分
子量ブタジェン/アクリロニ) IJル共重合体の不連
続相を含む組成物は感光性組成物として使用された(米
国特許第3,825,430号)。そのような不連続組
成物はそれ自身は感光性印刷版組成物に向かない。
本発明の組成物は感光性要素に対して基剤組成を与える
基本要素(key elements )に関連する。
基本要素(key elements )に関連する。
第一の基本要素は30,000から125,000まで
の範囲そして好ましくは90,000から110.00
0までの範囲の数平均分子量を有する高分子量ブタジェ
ン/アクリロニトリル共重合体である。これらのポリマ
ーのアクリロニトリル含量は10から50%までそして
好ましくは20から40%までが可能である。この共重
合体は1から15チまで、好ましくは4から8%までの
カルボキシル含量を有しなければならない。この高分子
量カルボキシル化共重合体は全組成物の約40から90
重量%までそして好ましくは約55から65重址チまで
を構成すべきである。組成物の物理的性質は基剤ポリマ
ーのパーセンテージには比較的影響されない。この基本
要素のカルボキシル含量は高分子量カルボキシル化ブタ
ジェン/アクリロニトリル共重合体の製造によって供給
される値に基づ((Po1ysarおよび肌F、 Go
odrich )。
の範囲そして好ましくは90,000から110.00
0までの範囲の数平均分子量を有する高分子量ブタジェ
ン/アクリロニトリル共重合体である。これらのポリマ
ーのアクリロニトリル含量は10から50%までそして
好ましくは20から40%までが可能である。この共重
合体は1から15チまで、好ましくは4から8%までの
カルボキシル含量を有しなければならない。この高分子
量カルボキシル化共重合体は全組成物の約40から90
重量%までそして好ましくは約55から65重址チまで
を構成すべきである。組成物の物理的性質は基剤ポリマ
ーのパーセンテージには比較的影響されない。この基本
要素のカルボキシル含量は高分子量カルボキシル化ブタ
ジェン/アクリロニトリル共重合体の製造によって供給
される値に基づ((Po1ysarおよび肌F、 Go
odrich )。
良好な可撓性および物理的性質は感光性組成物によって
、特にフレキソ印刷版としての適用に対して得られる。
、特にフレキソ印刷版としての適用に対して得られる。
この感光性組成物の今一つの基本要素は50.000か
らi o o、o o oまでの範囲そして好ましくは
55.000から85,000までの範囲の数平均分子
量を有する高分子量非カルボキシル化シタジエン/アク
リロニトリル共重合体である。これらポリマーのアクリ
ロニトリル含量は10から60%までそして好ましくは
20から60%までが可能である。この共重合体はカル
ボキシル含量を有すべきではない。この高分子量非カル
ボキシル化共重合体は全組成物の約5fJ′−ら60重
!−%までそして好ましくは約35から45重i%まで
を構成すべきである。
らi o o、o o oまでの範囲そして好ましくは
55.000から85,000までの範囲の数平均分子
量を有する高分子量非カルボキシル化シタジエン/アク
リロニトリル共重合体である。これらポリマーのアクリ
ロニトリル含量は10から60%までそして好ましくは
20から60%までが可能である。この共重合体はカル
ボキシル含量を有すべきではない。この高分子量非カル
ボキシル化共重合体は全組成物の約5fJ′−ら60重
!−%までそして好ましくは約35から45重i%まで
を構成すべきである。
上記のポリマーの妥当な選択は均一な感光性組成物を与
えこれは何れかまたは双方のポリマーの前記の洗浄済剤
からの自然なそして予期しない分離によって生じる引延
ばされた洗浄除去によって純粋の塩素化溶剤中で処理で
きる。同じ組成物はまた十−水性塩基性溶液中で引延ば
された洗浄除去によって処理することができる。引延ば
された洗浄除去は牛−水性洗浄溶液からの非カルボキシ
ル化ポリマーの自然なそして予期しない分離によって生
じる。引延ばされた洗浄とは通常の量(平方フィート)
よりも多い版利料の処理を意味する。
えこれは何れかまたは双方のポリマーの前記の洗浄済剤
からの自然なそして予期しない分離によって生じる引延
ばされた洗浄除去によって純粋の塩素化溶剤中で処理で
きる。同じ組成物はまた十−水性塩基性溶液中で引延ば
された洗浄除去によって処理することができる。引延ば
された洗浄除去は牛−水性洗浄溶液からの非カルボキシ
ル化ポリマーの自然なそして予期しない分離によって生
じる。引延ばされた洗浄とは通常の量(平方フィート)
よりも多い版利料の処理を意味する。
これは十−水性洗浄媒質中の正常なポリマー蓄積が洗浄
媒質からのポリマーの自然分離によって遅らされるため
に達成される。それはまた組成物中により少ない洗浄溶
解性材料の使用によっても達成することができる。
媒質からのポリマーの自然分離によって遅らされるため
に達成される。それはまた組成物中により少ない洗浄溶
解性材料の使用によっても達成することができる。
感光組成物の今一つの基本要素はエチレン系不飽和交叉
結合剤である。本発明において使用するのに好適な光重
合性エチレン系不飽和交叉結合剤にはポリオール類の不
飽和エステル、特にアルファーメチレンカルボン峡との
エステル類、例えばエチレングリコールシアクリラード
、ジエチレングリコールゾアリラート、グリセロールシ
アクリラード、グリセロールトリアクリラード、マンニ
トールポリアクリラート、ソルビトールポリアクリラー
ト、エチレングリコールジメタクリラード、1.6−ブ
ロパンジオールジメタクリラート、1.5,4−ブタン
トリオールトリメタクリラート、1.4−ブタンジオー
ルシアクリラードおよびジメタクリラ−)、1t4−シ
クロヘキサンジオールジアクリラー)、1.4−ベンゼ
ンジオールジメタクリラード、イソソルビデンゾアクリ
ラート、ペンタエリスリトールジー、トリーおよびテト
ラ−メタクリラート、ジペンタエリスリトールポリアク
リラート、ペンタエリスリトールジー。
結合剤である。本発明において使用するのに好適な光重
合性エチレン系不飽和交叉結合剤にはポリオール類の不
飽和エステル、特にアルファーメチレンカルボン峡との
エステル類、例えばエチレングリコールシアクリラード
、ジエチレングリコールゾアリラート、グリセロールシ
アクリラード、グリセロールトリアクリラード、マンニ
トールポリアクリラート、ソルビトールポリアクリラー
ト、エチレングリコールジメタクリラード、1.6−ブ
ロパンジオールジメタクリラート、1.5,4−ブタン
トリオールトリメタクリラート、1.4−ブタンジオー
ルシアクリラードおよびジメタクリラ−)、1t4−シ
クロヘキサンジオールジアクリラー)、1.4−ベンゼ
ンジオールジメタクリラード、イソソルビデンゾアクリ
ラート、ペンタエリスリトールジー、トリーおよびテト
ラ−メタクリラート、ジペンタエリスリトールポリアク
リラート、ペンタエリスリトールジー。
トリーおよびナト2アクリラー)、1.3−プロパンジ
オールジアクリラート、1,6−ヘキサンシオールジア
クリ2−トおよびジメタクリラード、1.5−ペンタン
ゾオールジメタクリラート、トリメチロールゾロパント
リアクリラート、分子量200から4,000までのポ
リエチレングリコール頑のビスアクリラートおよびメタ
クリラート、不飽オロアミド類、特にアルファーメチレ
ンカルボン酸のアミド類および特にアルファ、オメガ−
ジアミン類および酸素が割込んだオメガ−ジアミン類で
例えばメチレンビスアクリルアミド、メチレンビス−メ
タクリルアミド、エチレンビス−メタクリルアミド、1
,6−へキサメチレンビス−アクリルアミド、ジエチレ
ントリアミン、トリス−メタクリルアミド、1,2−ジ
(ガンマーメタクリルアミドノロポキシ)エタン、ペー
ターメタクリルアミノエチルメタクリラー)、N−(ベ
ーターヒドロキシエチル)−2−(メタクリルアミド)
エチルアクリラートおよびN、N−ビス(ベーターメタ
クリロキシエチル)−アクリルアミド:こは〈酸ジビニ
ル、アゾピン酸ジビニル、フタAnゾビニル、テトラフ
タル酸ジビニル、ベンゼン−1,3−ジスルホン酸ジビ
ニル、ブタン−1,4−ジスルホン酸ジビニルのよウナ
ヒニルエステル類およびソルプアルデヒド(ヘキサジエ
ナール)のような不飽和アルデヒド類を含む。好ましい
付加重合性交叉結合剤の顕著な種類のものはアルファー
メチレンカルボン酸およびiiitmカルボン酸とポリ
オールおよびポリアミンとのエステル類お工びアミド類
でそこではヒドロキシルとアミノ基間の分子鎖が単に炭
素または酸素−遮断炭素のものである。
オールジアクリラート、1,6−ヘキサンシオールジア
クリ2−トおよびジメタクリラード、1.5−ペンタン
ゾオールジメタクリラート、トリメチロールゾロパント
リアクリラート、分子量200から4,000までのポ
リエチレングリコール頑のビスアクリラートおよびメタ
クリラート、不飽オロアミド類、特にアルファーメチレ
ンカルボン酸のアミド類および特にアルファ、オメガ−
ジアミン類および酸素が割込んだオメガ−ジアミン類で
例えばメチレンビスアクリルアミド、メチレンビス−メ
タクリルアミド、エチレンビス−メタクリルアミド、1
,6−へキサメチレンビス−アクリルアミド、ジエチレ
ントリアミン、トリス−メタクリルアミド、1,2−ジ
(ガンマーメタクリルアミドノロポキシ)エタン、ペー
ターメタクリルアミノエチルメタクリラー)、N−(ベ
ーターヒドロキシエチル)−2−(メタクリルアミド)
エチルアクリラートおよびN、N−ビス(ベーターメタ
クリロキシエチル)−アクリルアミド:こは〈酸ジビニ
ル、アゾピン酸ジビニル、フタAnゾビニル、テトラフ
タル酸ジビニル、ベンゼン−1,3−ジスルホン酸ジビ
ニル、ブタン−1,4−ジスルホン酸ジビニルのよウナ
ヒニルエステル類およびソルプアルデヒド(ヘキサジエ
ナール)のような不飽和アルデヒド類を含む。好ましい
付加重合性交叉結合剤の顕著な種類のものはアルファー
メチレンカルボン酸およびiiitmカルボン酸とポリ
オールおよびポリアミンとのエステル類お工びアミド類
でそこではヒドロキシルとアミノ基間の分子鎖が単に炭
素または酸素−遮断炭素のものである。
添加する不飽和交叉結合剤の量はニジストマー含量の1
00部につき約2から約40重量%にすべきである。正
確な量は使用する個々の組成物に依って最良の結果を得
るように変るであろう。好ましくは不飽和化合物の量は
5から25%までの範囲である。
00部につき約2から約40重量%にすべきである。正
確な量は使用する個々の組成物に依って最良の結果を得
るように変るであろう。好ましくは不飽和化合物の量は
5から25%までの範囲である。
最も好ましい不飽和交叉結合剤は1,4−ヘキサンジオ
ールジメクリラー)、1.4−ヘキサンジオールジメタ
クリ9−)、)リメチロールプロパントリアクリラート
およびペンタエリスリトール) IJアクリラートであ
る。好ましい組成物はその中でカルボン酸を有しまたは
有していない高分子量重合体が不飽和化合物と相溶性で
あって0.250インチよりも少ない薄層中で透明な、
光を散乱しない組成物を形成するものである。
ールジメクリラー)、1.4−ヘキサンジオールジメタ
クリ9−)、)リメチロールプロパントリアクリラート
およびペンタエリスリトール) IJアクリラートであ
る。好ましい組成物はその中でカルボン酸を有しまたは
有していない高分子量重合体が不飽和化合物と相溶性で
あって0.250インチよりも少ない薄層中で透明な、
光を散乱しない組成物を形成するものである。
感光性組成物の今一つの基本要素は化学線によって活性
化されそして185°Cまたはそれ以下で熱的に不活性
な付加重合および/または交叉結合開始剤である。その
ような開始剤にはベンゾフェノンおよびf換ベンゾフェ
ノン、置換または不置換多項式キノン、これは共役6員
炭素項式項中の項内炭素原子に結合する二つの環内カル
ボニル基を有する化合物であって、そこにはカルがニル
基を含有する環に融合した少なくとも一つの芳香族炭素
環式環がある、そのよう1よ芳香族ケトン類を含む。好
適なそのような開始剤には9,10−アントラキノン、
1−クロロアントラキノン、2−クロロアントラキノン
、2−メチルアントラキノンs 2− tart、−
ジチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、
1,4−ナフトキノン、9゜10−フェナンスレンキノ
ン、1.2−ペンツアントラキノン、2,6−ペンツア
ントラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2
,6−シクロロナフトキノン、1,4−ジメチルアント
2キノン、2,6−シメチルアントラキノン、2−フェ
ニルアントラキノン、2.5−ジフェニルアントラキノ
ン、アント2キノンのナトリウム塩、アルファースルホ
ン酸、6−クロロ−2−メチルアントラキノ/、レチン
キノン、7,8,9゜10−テトラヒドロナフタセンキ
ノン、および1.2,3.4テトラヒドロペンツ(a)
アントラセン−7,12−ジオンを含む。同じく有用で
あるその他の光重合開始剤は米国特許第2,760,8
65号中に記載されておりそしてジアセチルベンジル等
のようなビンナルケタルドニル化合物、ペンゾインピバ
ロイン、等のような一ケタルドニルアルコール類、アシ
ロインエーテル等、例えばベンゾインメチルおよびエチ
ルエーテル、等、−メチルベンゾイン、−了りルペンゾ
インおよび一フェニルベンゾインおよび2,2ジアルコ
キシ−2−フェニルアセトフェノンを含む一炭化水素置
換芳香族アシロインを含む。
化されそして185°Cまたはそれ以下で熱的に不活性
な付加重合および/または交叉結合開始剤である。その
ような開始剤にはベンゾフェノンおよびf換ベンゾフェ
ノン、置換または不置換多項式キノン、これは共役6員
炭素項式項中の項内炭素原子に結合する二つの環内カル
ボニル基を有する化合物であって、そこにはカルがニル
基を含有する環に融合した少なくとも一つの芳香族炭素
環式環がある、そのよう1よ芳香族ケトン類を含む。好
適なそのような開始剤には9,10−アントラキノン、
1−クロロアントラキノン、2−クロロアントラキノン
、2−メチルアントラキノンs 2− tart、−
ジチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、
1,4−ナフトキノン、9゜10−フェナンスレンキノ
ン、1.2−ペンツアントラキノン、2,6−ペンツア
ントラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2
,6−シクロロナフトキノン、1,4−ジメチルアント
2キノン、2,6−シメチルアントラキノン、2−フェ
ニルアントラキノン、2.5−ジフェニルアントラキノ
ン、アント2キノンのナトリウム塩、アルファースルホ
ン酸、6−クロロ−2−メチルアントラキノ/、レチン
キノン、7,8,9゜10−テトラヒドロナフタセンキ
ノン、および1.2,3.4テトラヒドロペンツ(a)
アントラセン−7,12−ジオンを含む。同じく有用で
あるその他の光重合開始剤は米国特許第2,760,8
65号中に記載されておりそしてジアセチルベンジル等
のようなビンナルケタルドニル化合物、ペンゾインピバ
ロイン、等のような一ケタルドニルアルコール類、アシ
ロインエーテル等、例えばベンゾインメチルおよびエチ
ルエーテル、等、−メチルベンゾイン、−了りルペンゾ
インおよび一フェニルベンゾインおよび2,2ジアルコ
キシ−2−フェニルアセトフェノンを含む一炭化水素置
換芳香族アシロインを含む。
添加する光重合開始剤の量は100部の全ニジストマー
を基にして0.1から10重鷺チまでにすべきであり、
好ましい範囲は1から4%までである0 感光性組成物は四ツの本質的成分、即ち(1)高分子i
+t 7’タジ工ン/アクリロニトリルカルボキシル含
有共貞合体、(2)高分子量ブタジェン/アクリロニト
リル非カルボキシル含有共重合体、(3)相溶性のエチ
レン系不飽和交叉結合剤、および(4)遊離基発生系を
混合することによってつくる。均質単相への混合は塩素
化炭化水素、例えばトリクロロエチレン、トリクロロエ
タンおよびクロロトルエン、ケトン、例えばメチルエチ
ルケトン、ジエチルケトン、およびメチルイソブチルケ
トン;芳香族炭化水素、例えばトルエンおよびテトラヒ
ドロフランのような好適な溶剤中で溶剤配合によって達
成することができる。混合は鎖成分を均一に配合するの
に充分長い時間通常は数分間開放混練または密閉式ミキ
サー中で達成されるであろう。
を基にして0.1から10重鷺チまでにすべきであり、
好ましい範囲は1から4%までである0 感光性組成物は四ツの本質的成分、即ち(1)高分子i
+t 7’タジ工ン/アクリロニトリルカルボキシル含
有共貞合体、(2)高分子量ブタジェン/アクリロニト
リル非カルボキシル含有共重合体、(3)相溶性のエチ
レン系不飽和交叉結合剤、および(4)遊離基発生系を
混合することによってつくる。均質単相への混合は塩素
化炭化水素、例えばトリクロロエチレン、トリクロロエ
タンおよびクロロトルエン、ケトン、例えばメチルエチ
ルケトン、ジエチルケトン、およびメチルイソブチルケ
トン;芳香族炭化水素、例えばトルエンおよびテトラヒ
ドロフランのような好適な溶剤中で溶剤配合によって達
成することができる。混合は鎖成分を均一に配合するの
に充分長い時間通常は数分間開放混練または密閉式ミキ
サー中で達成されるであろう。
均質な、単相で光を散乱しない組成物は次いで何等かの
望む方法で0.0005インチから[]、250インチ
までのシートに形造る。そのような方法は、例えば、溶
液流延法、熱圧、室温または冒d度におけるカレンダー
圧延または押出しである。シートは成形中好適な支持体
によって支えることができまたはシートは成形後に支持
体に適用される。
望む方法で0.0005インチから[]、250インチ
までのシートに形造る。そのような方法は、例えば、溶
液流延法、熱圧、室温または冒d度におけるカレンダー
圧延または押出しである。シートは成形中好適な支持体
によって支えることができまたはシートは成形後に支持
体に適用される。
支持体は可撓性のまたは堅いフィルムまたはシート形態
で存在する何れの天然のまたは合成の支持体でもよい。
で存在する何れの天然のまたは合成の支持体でもよい。
フレキソ印刷においてこの組成物の使用のために通常使
われる支持体は鋼または錫を被覆した鋼のような金属シ
ートおよびポリエステルまたはポリアミドのようなプラ
スチックフィルムを含む。好ましい支持体は寸法が安定
でありそして洗浄除去溶液に耐えるものである。
われる支持体は鋼または錫を被覆した鋼のような金属シ
ートおよびポリエステルまたはポリアミドのようなプラ
スチックフィルムを含む。好ましい支持体は寸法が安定
でありそして洗浄除去溶液に耐えるものである。
これらのものは光活性化系であるから、上に述べたシー
トを露出前の貯蔵中に汚れおよび粉塵による表面汚染か
ら保護しそして洗浄して仕上った像を形成したレリーフ
にすることが必要である。
トを露出前の貯蔵中に汚れおよび粉塵による表面汚染か
ら保護しそして洗浄して仕上った像を形成したレリーフ
にすることが必要である。
このことは積層になしまたは支持体の反対側の要素側に
可撓性保護被覆シートを適用することにより達成される
。これらの要素は粘着性にできるので、保護被覆シート
の適用前に要素の表面に剥離フィルムを適用することも
望ましい。ごの剥離フィルムはポリアミド共重合体また
は酢酸ビニル共重合体のような0.0002インチの厚
さの口■撓性皿合体状フィルムで構成することができる
。同様によく知られている剥離剤、例えば、シリコーン
、フルオロカーボン、ワックスをそれらが透明でありそ
して化学線に対する露出を妨げない限りこの目的に対し
て使うこともできる。これらの剥離剤またはフィルムは
支持体に向き合っている要素の表面と要素に適用された
像を有するネガまたは透明画間の良好な密接接触を助け
る。この密接接触は要素上の像の精密な再生に対しては
不可欠である0 レリーフ印刷版は本発明の組成物から上記のシートによ
ってつくられる。構造は支持体の反対側上ノ0.000
2インチ厚さのポリアミド共重合体剥離フィルムを塗付
した0、010インチから0.0250インチまでの厚
さの組成物のシートに接着した0、001インチから0
.020インチまでのそして好ましくは0.005イン
チのポリエステル支持体から成っている。このポリアミ
ドフイ、tムは保護被僚シートである第二のポリエステ
ルフィルムc o、o o sインチ)に覆われそして
接着する。この構造物は次いで、もしも厚さに応じて必
要ならば支持体を通して化学線に露光して、付方1重合
によって版のレリーフ裏貼りのない区域を交叉結合させ
る。この露光は版の中に生じるしIJ−フの深さを調節
するであろう。薄い版はこの段階乞必要としない。版は
次いで裏返しにして保護被覆シートを除く。像乞つくり
出すために使う透明および不透明区域を有するネガまた
は透明画またはその他家を有する媒体を本発明の組成物
のシートのポリアミド剥離剤を塗付した表面と密着接触
して置く。ネガと剥離表面間の良好な接触はネガをシー
ト表面に対して圧し着ける減圧系によって与えられる。
可撓性保護被覆シートを適用することにより達成される
。これらの要素は粘着性にできるので、保護被覆シート
の適用前に要素の表面に剥離フィルムを適用することも
望ましい。ごの剥離フィルムはポリアミド共重合体また
は酢酸ビニル共重合体のような0.0002インチの厚
さの口■撓性皿合体状フィルムで構成することができる
。同様によく知られている剥離剤、例えば、シリコーン
、フルオロカーボン、ワックスをそれらが透明でありそ
して化学線に対する露出を妨げない限りこの目的に対し
て使うこともできる。これらの剥離剤またはフィルムは
支持体に向き合っている要素の表面と要素に適用された
像を有するネガまたは透明画間の良好な密接接触を助け
る。この密接接触は要素上の像の精密な再生に対しては
不可欠である0 レリーフ印刷版は本発明の組成物から上記のシートによ
ってつくられる。構造は支持体の反対側上ノ0.000
2インチ厚さのポリアミド共重合体剥離フィルムを塗付
した0、010インチから0.0250インチまでの厚
さの組成物のシートに接着した0、001インチから0
.020インチまでのそして好ましくは0.005イン
チのポリエステル支持体から成っている。このポリアミ
ドフイ、tムは保護被僚シートである第二のポリエステ
ルフィルムc o、o o sインチ)に覆われそして
接着する。この構造物は次いで、もしも厚さに応じて必
要ならば支持体を通して化学線に露光して、付方1重合
によって版のレリーフ裏貼りのない区域を交叉結合させ
る。この露光は版の中に生じるしIJ−フの深さを調節
するであろう。薄い版はこの段階乞必要としない。版は
次いで裏返しにして保護被覆シートを除く。像乞つくり
出すために使う透明および不透明区域を有するネガまた
は透明画またはその他家を有する媒体を本発明の組成物
のシートのポリアミド剥離剤を塗付した表面と密着接触
して置く。ネガと剥離表面間の良好な接触はネガをシー
ト表面に対して圧し着ける減圧系によって与えられる。
このサンドイッチを次いで化学線、くは560OAの波
長の紫外線照射に、当てる。露光したときにネガの透明
な区域は付加重合または交叉結合を起こす。露光は支持
体にまたは予め交叉結合させたシート裏貼りに像?交叉
結合させるのに充分持続する時間である。交叉結合はシ
ートの露光した区域(ネガの透明な区域)にのみ起りシ
ートの像が露光されない区域(ネガの不透明な区域)に
は著しい交叉結合は起らない。
長の紫外線照射に、当てる。露光したときにネガの透明
な区域は付加重合または交叉結合を起こす。露光は支持
体にまたは予め交叉結合させたシート裏貼りに像?交叉
結合させるのに充分持続する時間である。交叉結合はシ
ートの露光した区域(ネガの透明な区域)にのみ起りシ
ートの像が露光されない区域(ネガの不透明な区域)に
は著しい交叉結合は起らない。
化学線は炭素アークおよび高圧水銀灯のような何れの線
源からでも与えることができる。好ましい線源はその紫
外線対赤外線出力が高比率であるため極めて高出刃の暗
光螢光型のものである。露光時間はランプの出方、ラン
プからの距sL希望するレリーフの深さおよび版の厚さ
に応じて変るであろう。露光時間は数秒から数分まで変
化するであろう。
源からでも与えることができる。好ましい線源はその紫
外線対赤外線出力が高比率であるため極めて高出刃の暗
光螢光型のものである。露光時間はランプの出方、ラン
プからの距sL希望するレリーフの深さおよび版の厚さ
に応じて変るであろう。露光時間は数秒から数分まで変
化するであろう。
露光終了後ネガを除きそして露光させたシートは二つの
好ましい方法、即ち溶剤または半〜水性塩基性溶液の何
れかによってレリーフ像の現像をいつでも行うことがで
きる。これらの洗浄系は未露光の、未交叉結合組成物を
露光したシートから除去しそして滓出したレリーフ像ヲ
形成する露光した、交叉結合した組成物に逆に作用しな
い。
好ましい方法、即ち溶剤または半〜水性塩基性溶液の何
れかによってレリーフ像の現像をいつでも行うことがで
きる。これらの洗浄系は未露光の、未交叉結合組成物を
露光したシートから除去しそして滓出したレリーフ像ヲ
形成する露光した、交叉結合した組成物に逆に作用しな
い。
溶剤洗浄は先行技術におけるように2−シタノン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、トリクロルメタン、トリク
ロルエチレン、テトラクロロエチレン、メチルクロロホ
ルムのような有機溶剤、およびテトラクロロエチレン/
n−ゾメノールのような溶剤混合物によって達成するこ
とができる。
ゼン、トルエン、キシレン、トリクロルメタン、トリク
ロルエチレン、テトラクロロエチレン、メチルクロロホ
ルムのような有機溶剤、およびテトラクロロエチレン/
n−ゾメノールのような溶剤混合物によって達成するこ
とができる。
有機溶剤中特に塩素化有機溶剤、例えば、テトラクロロ
エチレン中でのこの組成物の洗い落しは予期しないこと
である、なぜなれば高分子量カルボキシル化共重合体は
この溶剤によって溶解しまたは軟化させることができず
従って先行技術で使用する可塑剤、低分子量ポリマー状
可塑剤またはワックスのような溶解化する低分子量材料
と配合するのでなければ洗浄除去はできない。高分子量
ブタジェン/アクリロニトリルカルボキシル化共重合体
の混合物が第ニーの高分子量非カルボキシル化シタジエ
ン/アクリロニトリル共重合体の65から45%までの
好ましい水準における添加によってテトラクロロエチレ
ン中で処理しうるようになし得ることは全く予期しない
ことである。
エチレン中でのこの組成物の洗い落しは予期しないこと
である、なぜなれば高分子量カルボキシル化共重合体は
この溶剤によって溶解しまたは軟化させることができず
従って先行技術で使用する可塑剤、低分子量ポリマー状
可塑剤またはワックスのような溶解化する低分子量材料
と配合するのでなければ洗浄除去はできない。高分子量
ブタジェン/アクリロニトリルカルボキシル化共重合体
の混合物が第ニーの高分子量非カルボキシル化シタジエ
ン/アクリロニトリル共重合体の65から45%までの
好ましい水準における添加によってテトラクロロエチレ
ン中で処理しうるようになし得ることは全く予期しない
ことである。
テトラクロロエチレン中で処理しつるよりにした同一組
成物が下記のように半一水性塩基性溶液中で同じく良好
な処理性を有することもまた全く予期しないことである
。本発明の組成物は、好ましい洗浄浴剤の純粋テトラク
ロロエチレンを使用して刷毛補助洗浄除去において付加
されたそして予期しない引延ばされた洗浄除去性質を有
する。引延ばされた洗浄除去は高分子量カルボキシル化
ブタジェン/アクリロニトリル共重合体の溶剤からの全
く予期しなかった自然分離によって生じる。
成物が下記のように半一水性塩基性溶液中で同じく良好
な処理性を有することもまた全く予期しないことである
。本発明の組成物は、好ましい洗浄浴剤の純粋テトラク
ロロエチレンを使用して刷毛補助洗浄除去において付加
されたそして予期しない引延ばされた洗浄除去性質を有
する。引延ばされた洗浄除去は高分子量カルボキシル化
ブタジェン/アクリロニトリル共重合体の溶剤からの全
く予期しなかった自然分離によって生じる。
非カルボキシル化共重合体”はそのアクリロニトリル含
量および分子量に応じて溶剤から分離しまたは分離しな
い。攪拌せずに静置したときのテトラクロロエチレンか
らのこの共重体の分離は洗浄除去溶剤からの洗滌したポ
リマーの簡単な急速な機械的除去を可能にしそして濾過
または蒸留によって変化させまたは再循環させずに溶剤
の繰返し再使用を許容する。テトラクロロエチレンに少
しし力・漬けない材料(可塑剤)の使用もまた溶剤の汚
染を遅らせそして引延ばした洗浄除去をもたらす。
量および分子量に応じて溶剤から分離しまたは分離しな
い。攪拌せずに静置したときのテトラクロロエチレンか
らのこの共重体の分離は洗浄除去溶剤からの洗滌したポ
リマーの簡単な急速な機械的除去を可能にしそして濾過
または蒸留によって変化させまたは再循環させずに溶剤
の繰返し再使用を許容する。テトラクロロエチレンに少
しし力・漬けない材料(可塑剤)の使用もまた溶剤の汚
染を遅らせそして引延ばした洗浄除去をもたらす。
共重合体のテトラクロロエチレンからの自然分離なしで
は、または高可塑剤水準の使用では、浴剤中のポリマー
および可塑剤が貧弱な印刷品質をもたらす量で洗浄した
版上に再沈殿する前に、60ガロンのテトラクロロエチ
レンによって50俤の像区域を有する0、035インチ
のレリーフに対して処理できるシート材料は僅かに15
[]−175平方フィートにすぎない。貧弱な品質は通
常の印刷の谷の区域、例えば「0」、raJおよび「e
」のような字の中心レリーフ区域の埋ま9A合によって
、および中間色調印刷の影区域の埋まり具合によって明
らかであろう。この時点でテトラクロロエチレンは新鮮
なものと変えなければならないであろう。共重合体およ
び可塑剤を含むテトラクロロエチレンはそこで著しい失
費において処分するかまたは、ポリマーおよび可塑剤を
蒸留によって除きそして溶剤を何便しなければならない
であろう。これらの方法の総ては費用がかかりそして時
間の浪費である。
は、または高可塑剤水準の使用では、浴剤中のポリマー
および可塑剤が貧弱な印刷品質をもたらす量で洗浄した
版上に再沈殿する前に、60ガロンのテトラクロロエチ
レンによって50俤の像区域を有する0、035インチ
のレリーフに対して処理できるシート材料は僅かに15
[]−175平方フィートにすぎない。貧弱な品質は通
常の印刷の谷の区域、例えば「0」、raJおよび「e
」のような字の中心レリーフ区域の埋ま9A合によって
、および中間色調印刷の影区域の埋まり具合によって明
らかであろう。この時点でテトラクロロエチレンは新鮮
なものと変えなければならないであろう。共重合体およ
び可塑剤を含むテトラクロロエチレンはそこで著しい失
費において処分するかまたは、ポリマーおよび可塑剤を
蒸留によって除きそして溶剤を何便しなければならない
であろう。これらの方法の総ては費用がかかりそして時
間の浪費である。
テトラクロロエチレンからの共重合体の自然分離によれ
ば50%の像区域を有する0、035インチのレリーフ
に対して60ガロンのテトラクロロエチレンによって6
00平方フイ一ト以上のシート材料を処理することがで
きる。この増加または引延ばされた溶剤使用は低減した
溶剤使用と溶剤取扱いによって著しい節約を与える。
ば50%の像区域を有する0、035インチのレリーフ
に対して60ガロンのテトラクロロエチレンによって6
00平方フイ一ト以上のシート材料を処理することがで
きる。この増加または引延ばされた溶剤使用は低減した
溶剤使用と溶剤取扱いによって著しい節約を与える。
本発明の組成物はまた先行技術におけるように好適な水
ペースの溶液によって洗浄することができこれは水溶性
有機溶剤を加えることができる水性塩基を含む。好適で
特殊な洗浄除去混合物には水酸化ナトリウム/イソゾロ
ビルアルコール/水、炭酸ナトリウム/2−シトキシエ
タノール/水、硼酸ナトリウム/2−シトキシエタノー
ル/水、珪酸ナトリウム/2−シトキシエタノール/グ
リセロール/水、炭酸ナトリウム/2−(2−ブトキシ
エトキシ)エタノール/水、゛水酸化ナトリウム/2−
(2−7’トキシエトキシ)エタノール/水および水酸
化ナトリウム/1,2−エタンジオール/水を含む。こ
れらの溶液は通常高温度において使用する。好ましい溶
液は水酸化す) IJウム/2−(2−ブトキシエトキ
シ)エタノール/水〔水中の0.5%水酸化ナトリウム
/2−(2−ブトキシエトキシ)エタノールの”/l
g 量比) ”’Q140から150”F’までで用い
る。先行技術の組成物は制限された洗浄溶液しか利用で
きず、本発明の組成物の非カルボキシル化共重合体の予
期しない自然分離はない。
ペースの溶液によって洗浄することができこれは水溶性
有機溶剤を加えることができる水性塩基を含む。好適で
特殊な洗浄除去混合物には水酸化ナトリウム/イソゾロ
ビルアルコール/水、炭酸ナトリウム/2−シトキシエ
タノール/水、硼酸ナトリウム/2−シトキシエタノー
ル/水、珪酸ナトリウム/2−シトキシエタノール/グ
リセロール/水、炭酸ナトリウム/2−(2−ブトキシ
エトキシ)エタノール/水、゛水酸化ナトリウム/2−
(2−7’トキシエトキシ)エタノール/水および水酸
化ナトリウム/1,2−エタンジオール/水を含む。こ
れらの溶液は通常高温度において使用する。好ましい溶
液は水酸化す) IJウム/2−(2−ブトキシエトキ
シ)エタノール/水〔水中の0.5%水酸化ナトリウム
/2−(2−ブトキシエトキシ)エタノールの”/l
g 量比) ”’Q140から150”F’までで用い
る。先行技術の組成物は制限された洗浄溶液しか利用で
きず、本発明の組成物の非カルボキシル化共重合体の予
期しない自然分離はない。
洗浄溶液から共重合体の自然分離がなければ、好ましい
ものとして上に引用した60ガロンの水酸化ナトリウム
/2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール/水溶液を
使用して50%の像区域を有する0、065インチレリ
ーフに対し僅かに40−50平方フイートのシート材料
しか処理できな′い。この時点で洗浄速度は実用的でな
い程遅くなり、そして溶液中のポリマーが高水準になる
ため、洗浄溶液は取換えなければならない。この必要条
件は時間の浪費と原価高である。
ものとして上に引用した60ガロンの水酸化ナトリウム
/2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール/水溶液を
使用して50%の像区域を有する0、065インチレリ
ーフに対し僅かに40−50平方フイートのシート材料
しか処理できな′い。この時点で洗浄速度は実用的でな
い程遅くなり、そして溶液中のポリマーが高水準になる
ため、洗浄溶液は取換えなければならない。この必要条
件は時間の浪費と原価高である。
非カルボキシル化共重合の浴液からの自然分離によって
前に好ましいと引用した水酸化ナトリウム/ 2−(2
−−t”トキシエトキシ)エタノール/水溶液の60ガ
ロンによって5o%の像面41t’zr:有する0、6
5インチのレリーフに対し150平方フイ一ト以上のシ
ート材料を処理することができる。
前に好ましいと引用した水酸化ナトリウム/ 2−(2
−−t”トキシエトキシ)エタノール/水溶液の60ガ
ロンによって5o%の像面41t’zr:有する0、6
5インチのレリーフに対し150平方フイ一ト以上のシ
ート材料を処理することができる。
この増加または引延ばされた溶液使用は低減した溶剤使
用と溶剤取扱いを通して著しい節約を与える。
用と溶剤取扱いを通して著しい節約を与える。
上記の組成物は凸版、レターセラ) (letters
et)およびフレキソ印刷のような滓出した像の印刷方
法に好ましいM用件がある、しかし、この組成物はまた
像形成がホトレジスト、平版印刷版、「スクリーン印刷
」およびステンシルのように利用されるその他の用途忙
も有用である。
et)およびフレキソ印刷のような滓出した像の印刷方
法に好ましいM用件がある、しかし、この組成物はまた
像形成がホトレジスト、平版印刷版、「スクリーン印刷
」およびステンシルのように利用されるその他の用途忙
も有用である。
以下の実施例で本発明を説明する。
実施例1
161.5 gのKrynac 211、高分子量ブタ
ジェン/アクリロ冊トリル共重合体(Po1ysary
Inc。
ジェン/アクリロ冊トリル共重合体(Po1ysary
Inc。
のもので製造者の報告によれば数平均分子請i o o
、o o o ;アクリロニトリル含131−34チ、
カルボキシル含量9%)、108.2g(7)Para
Cril BP %高分子量ブタジェンアクリロニトリ
ル共重合体(Uniroyal、 Inc、のもので数
平均分子fit、 70,000.アクリロニトリル金
蓋29.5チ、カルボキシル含量0.0%)、27.0
gのトリメチロールプロパントリアクリラー) (T
MPTA )および2.7gの2,2−ジメトキシ−2
−ツエニルアセトフエノン(DMPAP ) Y含む処
方物をこれらの成分乞456.5 、Vのトルエンおよ
び152.2gのメチルエチルケトンの配合物中に溶か
してつくっり。次いで均一な溶剤混合物をドクターブレ
ードによって、多相にポリエステルフィルム(0,00
5インチ)の支持体シート上に流延して厚さ0.075
インチの乾燥フィルムに感光性組成物を構成した。ドク
ターブレードはポリエステル支持体または支持フィルム
の上に流延開始時に0.006インチに合わせそして厚
さが0.075インチに増えたときに流延材料の上に0
.006インチに調節した。付加通過ごとに70−80
″Fにおいて5分間風乾しそして次に130−150
’Hにおいて5分間炉で乾燥した後に次の通過を行なう
。希望する0、075インチの寸法に達したときに、版
を次にi′5o−iso”pで6時間炉で乾かして残り
のM剤を除去する。
、o o o ;アクリロニトリル含131−34チ、
カルボキシル含量9%)、108.2g(7)Para
Cril BP %高分子量ブタジェンアクリロニトリ
ル共重合体(Uniroyal、 Inc、のもので数
平均分子fit、 70,000.アクリロニトリル金
蓋29.5チ、カルボキシル含量0.0%)、27.0
gのトリメチロールプロパントリアクリラー) (T
MPTA )および2.7gの2,2−ジメトキシ−2
−ツエニルアセトフエノン(DMPAP ) Y含む処
方物をこれらの成分乞456.5 、Vのトルエンおよ
び152.2gのメチルエチルケトンの配合物中に溶か
してつくっり。次いで均一な溶剤混合物をドクターブレ
ードによって、多相にポリエステルフィルム(0,00
5インチ)の支持体シート上に流延して厚さ0.075
インチの乾燥フィルムに感光性組成物を構成した。ドク
ターブレードはポリエステル支持体または支持フィルム
の上に流延開始時に0.006インチに合わせそして厚
さが0.075インチに増えたときに流延材料の上に0
.006インチに調節した。付加通過ごとに70−80
″Fにおいて5分間風乾しそして次に130−150
’Hにおいて5分間炉で乾燥した後に次の通過を行なう
。希望する0、075インチの寸法に達したときに、版
を次にi′5o−iso”pで6時間炉で乾かして残り
のM剤を除去する。
次にポリエステル支持体の反対側に乾式剥離高分子瀘ワ
ックスを版に吹きつける。次いで版の背面に、ポリエス
テル支持体通して、Flex−Ligh’を露出単位M
ode14821 k使用して21列の紫外線ランプ(
5ylvania暗光超高出力ランプ、FR−48T4
2−B/L−vHo−180)によって45秒間露光し
た。ランプは中心に対して2インチ離して間隔を保った
。版はランプから2インチの間隔をとった。背面露光後
、版を表面を上にして(ポリエステル裏打を下にして)
ランプの下に置いた。Bychrome @分率−検量
したスクリーン着色ネガを露光装置の減圧枠を使用して
剥離剤塗付表面と密接に接触させて置いた。ネガを通し
て版乞紫外線に10分間露光した。露光後ネガを除きそ
して純テトラクロロエチレンを使用して1442Fle
x −Light 回転刷毛処理機中で版を20分間
洗った。洗浄後、強制空気炉中150’Fで1時間版乞
乾かした。その結果得られた版は0.30インチのレリ
ーフ像を有していた(洗浄速度0.0015インチ/′
分によって)。像の鮮明度は優れていた。
ックスを版に吹きつける。次いで版の背面に、ポリエス
テル支持体通して、Flex−Ligh’を露出単位M
ode14821 k使用して21列の紫外線ランプ(
5ylvania暗光超高出力ランプ、FR−48T4
2−B/L−vHo−180)によって45秒間露光し
た。ランプは中心に対して2インチ離して間隔を保った
。版はランプから2インチの間隔をとった。背面露光後
、版を表面を上にして(ポリエステル裏打を下にして)
ランプの下に置いた。Bychrome @分率−検量
したスクリーン着色ネガを露光装置の減圧枠を使用して
剥離剤塗付表面と密接に接触させて置いた。ネガを通し
て版乞紫外線に10分間露光した。露光後ネガを除きそ
して純テトラクロロエチレンを使用して1442Fle
x −Light 回転刷毛処理機中で版を20分間
洗った。洗浄後、強制空気炉中150’Fで1時間版乞
乾かした。その結果得られた版は0.30インチのレリ
ーフ像を有していた(洗浄速度0.0015インチ/′
分によって)。像の鮮明度は優れていた。
版は65ftMから150線までの半階調のネガにおい
て5から90%までの階調を再生した。これは優れた階
調再現を表わす。版の硬度は50シヨアーAでありそし
て版は180°でそれ自身の上に曲げても亀裂を生じな
かった。
て5から90%までの階調を再生した。これは優れた階
調再現を表わす。版の硬度は50シヨアーAでありそし
て版は180°でそれ自身の上に曲げても亀裂を生じな
かった。
下記の組成物を使用し実施例1のようにして二つの対照
版をつくった: 実施例2 実施例6 269.7gKrynac211(1)269.7gP
aracrilBP”27.0gTMPTA(2)
27.OgTMPTAt2)2.7 gDMPAP
(312,7gDMPAP(3’465g トルエン
465.5fi )ルエン152g
メチルエチルケトン 152.2gメチルエチルケト
ン(1) Krynac 211はPo1ysar
Inc、によってつくられた製品の商標であって製造者
の報告によれば数平均分子量100,000、アクリロ
ニトリル含量31−54チ、カルボキシル含量9.0%
を有する高分子蓋ブタジェン/アクリロニトリル共重合
体である。
版をつくった: 実施例2 実施例6 269.7gKrynac211(1)269.7gP
aracrilBP”27.0gTMPTA(2)
27.OgTMPTAt2)2.7 gDMPAP
(312,7gDMPAP(3’465g トルエン
465.5fi )ルエン152g
メチルエチルケトン 152.2gメチルエチルケト
ン(1) Krynac 211はPo1ysar
Inc、によってつくられた製品の商標であって製造者
の報告によれば数平均分子量100,000、アクリロ
ニトリル含量31−54チ、カルボキシル含量9.0%
を有する高分子蓋ブタジェン/アクリロニトリル共重合
体である。
(2) TMPTA &! ) りメチロールゾロノぐ
ントリアク1ノラートである。
ントリアク1ノラートである。
(3) DMPAPは2,2−ジメトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノンである。
ニルアセトフェノンである。
(41Paracr、il BPはUniroyal
Inc、によってつくられた製品の商標であって製造者
の報告によれば数平均分子t7 Q、000、アクリロ
ニトリル含量29.5%、カルボキシル含量0.0%を
有する高分子量ブタジェン/アクリロニトリル共重合体
である。
Inc、によってつくられた製品の商標であって製造者
の報告によれば数平均分子t7 Q、000、アクリロ
ニトリル含量29.5%、カルボキシル含量0.0%を
有する高分子量ブタジェン/アクリロニトリル共重合体
である。
版は実施例1のようにして流延しそして乾1)した。
二つの試料を次いで実施例1のようにして3W光しそし
て洗浄しそして乾かした。生じたレリーフ(ま実施例2
に対しては0.002インチであり実施汐す6に対して
は0.030インチであった。この結果はカルボキシル
化高分子量共爪合体単独(実施f112)は法だ遅い洗
浄速度をテトラクロロエチレン中で有しく 0.000
1インチ/分)そして1μ力ルボキシル化高分子11L
共重合体単独(実施例6)をまより著しく早い洗浄速度
(0,0015インチ/分)を有することを示す。この
結果は実施例1の組成物が非カルボキシル化高分子量共
重合体と同−洗浄速度(0,0015インチ/分)を有
するという予期しなかった結果を例証する。この技術に
熟練した人々が普通予期することは純粋のテトラクロロ
エチレン溶剤中で洗ったときのカルボキシル化および非
カルボキシル化高分子量共重合体の洗浄速度はおよそ中
間であろうということであろう。
て洗浄しそして乾かした。生じたレリーフ(ま実施例2
に対しては0.002インチであり実施汐す6に対して
は0.030インチであった。この結果はカルボキシル
化高分子量共爪合体単独(実施f112)は法だ遅い洗
浄速度をテトラクロロエチレン中で有しく 0.000
1インチ/分)そして1μ力ルボキシル化高分子11L
共重合体単独(実施例6)をまより著しく早い洗浄速度
(0,0015インチ/分)を有することを示す。この
結果は実施例1の組成物が非カルボキシル化高分子量共
重合体と同−洗浄速度(0,0015インチ/分)を有
するという予期しなかった結果を例証する。この技術に
熟練した人々が普通予期することは純粋のテトラクロロ
エチレン溶剤中で洗ったときのカルボキシル化および非
カルボキシル化高分子量共重合体の洗浄速度はおよそ中
間であろうということであろう。
対照版はショアーA硬度50−52を有しそして実施例
60版は良好な解造力を有していた。
60版は良好な解造力を有していた。
実施例4
この実施例は非カルボキシル化抵アクリロニトリル含量
ブタジェンアクリロニトリル共重合体の使用を例解する
0175.3!;’のKrynac 211.94.4
、fi’ (’)非カルボキー、//l/化Para
cril 1880LM (Paracril 188
0 LMはUniroyal、 Inc。
ブタジェンアクリロニトリル共重合体の使用を例解する
0175.3!;’のKrynac 211.94.4
、fi’ (’)非カルボキー、//l/化Para
cril 1880LM (Paracril 188
0 LMはUniroyal、 Inc。
の商標でありそして高分子量ブタジェン/アクリコニ)
IJル共重合体で数平均分子量アクリロニトリル含量
22.8%を有する)、27.0 !Jの1,6ヘキサ
ンジオールジアクリラート、2.7gのDkイPAPを
含む配合物を各成分Y2本ロールミル上で200 ’F
で60分間混合してつくった。混合物に次いで6 X
6 X O,070インチの版に圧縮成形し片側表面に
0.005インチのポリエステル支持体をそして反対の
面上にシリコーン剥離剤を施こした。次いで版を実施例
1のようにして1分間ポリエステル支持体を通して背面
にそして14分間ラインプロセス(1ine proc
ess )ネガを通して表面に露光した。次いで実施例
1のようにして版χ純テトラクロロエチレン中で洗浄し
そして乾燥させた。生じた版は0.Q 23インチのレ
リーフ、ショアーAジュロメータ−55および良好な解
像力を有した。
IJル共重合体で数平均分子量アクリロニトリル含量
22.8%を有する)、27.0 !Jの1,6ヘキサ
ンジオールジアクリラート、2.7gのDkイPAPを
含む配合物を各成分Y2本ロールミル上で200 ’F
で60分間混合してつくった。混合物に次いで6 X
6 X O,070インチの版に圧縮成形し片側表面に
0.005インチのポリエステル支持体をそして反対の
面上にシリコーン剥離剤を施こした。次いで版を実施例
1のようにして1分間ポリエステル支持体を通して背面
にそして14分間ラインプロセス(1ine proc
ess )ネガを通して表面に露光した。次いで実施例
1のようにして版χ純テトラクロロエチレン中で洗浄し
そして乾燥させた。生じた版は0.Q 23インチのレ
リーフ、ショアーAジュロメータ−55および良好な解
像力を有した。
実施例5
この実施例は非カルボキシル化高アクリロニトリル含有
シタジエン/アクリロニトリル共重合体の使用を例解す
る。175.3 iのKrynac 2 ’11.94
.4 gの非カルボキシル化Paracril CJL
T(Paracril CJLTはUniroyalの
商標であり、そして高分子量ブタジェン/アクリロニト
リル共重合体で、数平均分子量82,000.アクリロ
ニトリル含量69.5%である)共重合体、27.0
&のTMPTA 、および2.7gのDMPAPを含む
配合物を実施例1のようにしてつくった。次いで版を実
施例1のようにして1分間背後にそして10分間表開に
ラインプロセスネガを通して露光した。次いで版を実施
例1のようにして純ペルクロロエチレン中で洗浄しそし
て乾かした。生じた版はレリーフを有せずそしてショア
ーAジュロメータ−は58であった。この結果は中間な
いし低アクリロニトリル共重合体(20−30%アクリ
ロニトリル)のみが配合により希望するテトラクロロエ
チレン洗浄性を与えることt例証する。
シタジエン/アクリロニトリル共重合体の使用を例解す
る。175.3 iのKrynac 2 ’11.94
.4 gの非カルボキシル化Paracril CJL
T(Paracril CJLTはUniroyalの
商標であり、そして高分子量ブタジェン/アクリロニト
リル共重合体で、数平均分子量82,000.アクリロ
ニトリル含量69.5%である)共重合体、27.0
&のTMPTA 、および2.7gのDMPAPを含む
配合物を実施例1のようにしてつくった。次いで版を実
施例1のようにして1分間背後にそして10分間表開に
ラインプロセスネガを通して露光した。次いで版を実施
例1のようにして純ペルクロロエチレン中で洗浄しそし
て乾かした。生じた版はレリーフを有せずそしてショア
ーAジュロメータ−は58であった。この結果は中間な
いし低アクリロニトリル共重合体(20−30%アクリ
ロニトリル)のみが配合により希望するテトラクロロエ
チレン洗浄性を与えることt例証する。
実施例6
実施例1のようにして試料をつくりそして露光しそして
実施例1と同−型の洗浄装置中で洗浄除去を達成したが
2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール/水(l/4
の容蓋)中の0.5%水酸化ナトリウムの溶液を145
°Fの温度で使った。刷毛処理時間は再度20分であり
続いて1時間強制窒気炉で150”Fで乾かした。生じ
た版のレリーフは0.045インチ(0,0022イン
チ/分)であった。解像力およびショアーAは実施例1
のものと同等であった。
実施例1と同−型の洗浄装置中で洗浄除去を達成したが
2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール/水(l/4
の容蓋)中の0.5%水酸化ナトリウムの溶液を145
°Fの温度で使った。刷毛処理時間は再度20分であり
続いて1時間強制窒気炉で150”Fで乾かした。生じ
た版のレリーフは0.045インチ(0,0022イン
チ/分)であった。解像力およびショアーAは実施例1
のものと同等であった。
実施例7および8
版は実施例2および乙のようにしてつくりそして実施例
1のようにして露光した。次に洗浄除去を実施例乙に記
載するようにして行った。生じたレリーフは(実施例7
の) Krynac 211ペ一スカルボキシル化共重
合体版に対しては0.046インチ(0,0024イン
チ/分)であった。Krynac211版はショアーA
ジュロメータ−52を有しそして良い解像力および可撓
性であった。ParacriBP版(実施例8)は実施
例乙に記載したようにして洗浄した場合0.002イン
チC’0.001インチ/分)の法だ遅い洗浄速度のレ
リーフを生じた。
1のようにして露光した。次に洗浄除去を実施例乙に記
載するようにして行った。生じたレリーフは(実施例7
の) Krynac 211ペ一スカルボキシル化共重
合体版に対しては0.046インチ(0,0024イン
チ/分)であった。Krynac211版はショアーA
ジュロメータ−52を有しそして良い解像力および可撓
性であった。ParacriBP版(実施例8)は実施
例乙に記載したようにして洗浄した場合0.002イン
チC’0.001インチ/分)の法だ遅い洗浄速度のレ
リーフを生じた。
この結果は実施例乙の組成物はカルボキシル化高分子量
共重体と同じ洗浄速度(0,0023インチ/分)を示
すという予期しなかった結果を例証する。配合について
精通している人々によって普通予期されるのは十−水性
溶液中で洗浄した場合抗争速度はカルボキシル化(実施
例7)と非カルボキシル化(実施例8)^分子量共重合
体の洗浄速度のおよそ中間であろうということであろう
。
共重体と同じ洗浄速度(0,0023インチ/分)を示
すという予期しなかった結果を例証する。配合について
精通している人々によって普通予期されるのは十−水性
溶液中で洗浄した場合抗争速度はカルボキシル化(実施
例7)と非カルボキシル化(実施例8)^分子量共重合
体の洗浄速度のおよそ中間であろうということであろう
。
実施例9
実施例1および乙の一般手順に従って温液配合によって
次の組成物をつくった: 65部cv Hycar 1072 CG”65部のP
aracril BF 5部の1,6ヘキサンジオ一ルジアクリラート5部(1
)116ヘキサンジオ一ルジメタクリラート1部のDM
PAP 1(11Hycar 1072CGはB、F、 Goo
drichによってつくられた製品の商標でありそして
製造者の報告によれば数平均分子量30,000、アク
リロニトリル含量27%、カルボキシル含量6.4%を
有する高分子量プタゾエン/アクリロニトリ、ル共重合
体である。
次の組成物をつくった: 65部cv Hycar 1072 CG”65部のP
aracril BF 5部の1,6ヘキサンジオ一ルジアクリラート5部(1
)116ヘキサンジオ一ルジメタクリラート1部のDM
PAP 1(11Hycar 1072CGはB、F、 Goo
drichによってつくられた製品の商標でありそして
製造者の報告によれば数平均分子量30,000、アク
リロニトリル含量27%、カルボキシル含量6.4%を
有する高分子量プタゾエン/アクリロニトリ、ル共重合
体である。
組成物は実施例1に記載するようにしてシート版につく
った。実施例1に記載するようにして露光しそして洗浄
除去すると(テトラクロロエチレン中で> 0.035
インチレリーフ(の浄速度=o、o o i sインチ
/分)、ショアーAジュロメータ−48および良い解像
力および18o0に曲げた場合に亀裂のない版を生じた
。同一処方による第二の版もまた実施例乙に記載するよ
うにして露光しそして洗浄し牟(十−水性溶液中で)。
った。実施例1に記載するようにして露光しそして洗浄
除去すると(テトラクロロエチレン中で> 0.035
インチレリーフ(の浄速度=o、o o i sインチ
/分)、ショアーAジュロメータ−48および良い解像
力および18o0に曲げた場合に亀裂のない版を生じた
。同一処方による第二の版もまた実施例乙に記載するよ
うにして露光しそして洗浄し牟(十−水性溶液中で)。
これは0.040イ:ifvリーフ(洗浄速度= 0.
0020インチ/分)およびショアーAジュロメータ4
8およびテトラクロロエチレン中の版と同様の解像力を
有する版乞生じた。
0020インチ/分)およびショアーAジュロメータ4
8およびテトラクロロエチレン中の版と同様の解像力を
有する版乞生じた。
実施例10
この実施例はテトラクロロエチレン洗浄溶剤中の本発明
の引延ばされた洗浄除去を米国特許第4,177,07
4号に従ってつくった組成物と比べて例解する。
の引延ばされた洗浄除去を米国特許第4,177,07
4号に従ってつくった組成物と比べて例解する。
実施例1のようにして版をつくった、但し0.125イ
ンチ厚さの標準寸法にした。今一つの版は130.0.
9 Hycar 1072 CG、40.01のHyc
ar CTBNX 、低分子址ブタジェン/アクリロニ
トリル共Jli合体(B、F、Goodricb 、
Inc、 %造者の報告によれば数平均分子量3400
、アクリロニトリル含−m21.8%、カルボキシル含
!3.24チである)、26.Clのトリエチレングリ
コールジアクリラートおよび4.0 、!i’のベンゾ
インイソブチルエーテルを含む処方により(米国特許第
4,177,074号から)実施例1の方法によってつ
くった。
ンチ厚さの標準寸法にした。今一つの版は130.0.
9 Hycar 1072 CG、40.01のHyc
ar CTBNX 、低分子址ブタジェン/アクリロニ
トリル共Jli合体(B、F、Goodricb 、
Inc、 %造者の報告によれば数平均分子量3400
、アクリロニトリル含−m21.8%、カルボキシル含
!3.24チである)、26.Clのトリエチレングリ
コールジアクリラートおよび4.0 、!i’のベンゾ
インイソブチルエーテルを含む処方により(米国特許第
4,177,074号から)実施例1の方法によってつ
くった。
双方の版を実施例1に記載するようにしてラインプロセ
スネガを使用して露光した。次いで各版を別個に100
000の純テトラクロロエチレン中でHobart
ミキサー(A−200型)を旋回型刷毛処理機に改造し
たものを使用して洗浄した。各組成物の6インチX6イ
ンチX O,125インチの版を洗って0.030イン
チのレリーフを生じた。
スネガを使用して露光した。次いで各版を別個に100
000の純テトラクロロエチレン中でHobart
ミキサー(A−200型)を旋回型刷毛処理機に改造し
たものを使用して洗浄した。各組成物の6インチX6イ
ンチX O,125インチの版を洗って0.030イン
チのレリーフを生じた。
この手順を2回同じ1000(30のテトラクロロエチ
レンによって反復した。洗い落した溶剤を次いで2クオ
ートのメーソン(mason )びん中に流し込みそし
て15時間静置して分離させた。この時間の後各組成物
からの使用済みテトラクロロエチレンの試料を各びんの
底から注射器によって取出した。次いで各試料の固形物
百分率を計った。実施例1からの組成物からの使用済み
テトラクロロエチレンはチ固形物ヲ0.6%有した。米
国特許第4,177,074号の組成物からの材料から
の使用済みテトラクロロエチレンはチ固形物1.2%を
有した。この事はポリマー分離のためにそして本発明に
おいてはテトラクロロエチレン可溶性可塑剤に使ってい
ないために米国特許第4,177.074号の組成物か
らの材料のおよそ2倍を本発明の組成物からの材料では
処理できることを示す。
レンによって反復した。洗い落した溶剤を次いで2クオ
ートのメーソン(mason )びん中に流し込みそし
て15時間静置して分離させた。この時間の後各組成物
からの使用済みテトラクロロエチレンの試料を各びんの
底から注射器によって取出した。次いで各試料の固形物
百分率を計った。実施例1からの組成物からの使用済み
テトラクロロエチレンはチ固形物ヲ0.6%有した。米
国特許第4,177,074号の組成物からの材料から
の使用済みテトラクロロエチレンはチ固形物1.2%を
有した。この事はポリマー分離のためにそして本発明に
おいてはテトラクロロエチレン可溶性可塑剤に使ってい
ないために米国特許第4,177.074号の組成物か
らの材料のおよそ2倍を本発明の組成物からの材料では
処理できることを示す。
実施例11
この実施例は十−水性洗浄溶剤中の本発明の引延ばされ
た洗浄除去乞米国特許第4,177,074号に従って
つくった組成物と比べて説明する。実施例10のように
して版を再度つくりそして露光した。洗浄除去は再び改
造したHobart (A −200型)中で達成した
。洗浄溶液は2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール
/水(容量で1/4)中に0.5%の水酸化ナトリウム
を含む145’F”における1000CCcv浴液であ
った。各組成物の1インチX6インチX O,125イ
ンチの版を別々に洗って0.030インチのレリーフを
つくった。洗浄除去溶液を次に2クオートのメーソンび
ん中に注ぎ入れそして15時間静置して分離させた。こ
の時間の後に各組成物からの使用済み半一水性洗浄浴液
の試料を注射器によってびんの底から採った。
た洗浄除去乞米国特許第4,177,074号に従って
つくった組成物と比べて説明する。実施例10のように
して版を再度つくりそして露光した。洗浄除去は再び改
造したHobart (A −200型)中で達成した
。洗浄溶液は2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール
/水(容量で1/4)中に0.5%の水酸化ナトリウム
を含む145’F”における1000CCcv浴液であ
った。各組成物の1インチX6インチX O,125イ
ンチの版を別々に洗って0.030インチのレリーフを
つくった。洗浄除去溶液を次に2クオートのメーソンび
ん中に注ぎ入れそして15時間静置して分離させた。こ
の時間の後に各組成物からの使用済み半一水性洗浄浴液
の試料を注射器によってびんの底から採った。
次いで各試料のチ固形物を出した。実施例1の組成物か
らの使用済半一水性洗浄浴液は正味チ固形物11%であ
った。米国特許第4,177,074号の組成物からの
使用済洗浄溶液は正味固形物6.1チであった。これは
米国特許第4,177,074号の組成物からの材料の
およそ6倍も多い本発明の組成物からの材料がポリマー
分離があるために処理できることを示す。
らの使用済半一水性洗浄浴液は正味チ固形物11%であ
った。米国特許第4,177,074号の組成物からの
使用済洗浄溶液は正味固形物6.1チであった。これは
米国特許第4,177,074号の組成物からの材料の
およそ6倍も多い本発明の組成物からの材料がポリマー
分離があるために処理できることを示す。
実施例12
この実施例は本発明の組成物の改良されたインキ相容性
を米国特許第4,177,074号に従ってつくった組
成物と比較する。実施例10に記載するようにしてつく
った版の試料を実施例10のように露光したがネガなし
で完全に硬化させた試料をつくつfc、。各組成物の硬
化させた試料を4時間および24時間純純性性エチルア
ルコール中浸漬させた。ショアーAジュロメータ−硬度
を開始時および各試験時に測定した。結果は第1表中に
示す。
を米国特許第4,177,074号に従ってつくった組
成物と比較する。実施例10に記載するようにしてつく
った版の試料を実施例10のように露光したがネガなし
で完全に硬化させた試料をつくつfc、。各組成物の硬
化させた試料を4時間および24時間純純性性エチルア
ルコール中浸漬させた。ショアーAジュロメータ−硬度
を開始時および各試験時に測定した。結果は第1表中に
示す。
第 I 表
実施例1 55 50 50米
国特許第4,177,074号の組成物のショーアーA
硬度における連続的10ポイント低下は本発明の組成物
(実施例1)の5ポイント低下と比べて変性アルコール
に対するより貧弱な抵抗を示す。
国特許第4,177,074号の組成物のショーアーA
硬度における連続的10ポイント低下は本発明の組成物
(実施例1)の5ポイント低下と比べて変性アルコール
に対するより貧弱な抵抗を示す。
エチルアルコールベースインキはフレキソ印刷法におい
て広く使用されるものである。
て広く使用されるものである。
実施例1に
の実施例は本発明の高い硬化速度を米国特許第4,17
7,074号に従ってつくった組成物と比較して例解す
る。実施例10中に記載したようにしてつくった試料乞
実施例1に記載したようにして背面露光した。背面露光
時間は1分宛の増加でOかも6分までであった。背面露
光した試料は実施例乙に記載するような装置中で洗浄し
た。
7,074号に従ってつくった組成物と比較して例解す
る。実施例10中に記載したようにしてつくった試料乞
実施例1に記載したようにして背面露光した。背面露光
時間は1分宛の増加でOかも6分までであった。背面露
光した試料は実施例乙に記載するような装置中で洗浄し
た。
試料は5分間洗浄し、150”F’で5分間強制窒気炉
中で乾燥しそして各背面露光時間をレリーフに対して測
定した。測定後、試料をさらに5分間洗い、乾かしそし
て測定した。この5分洗浄、乾燥そして測定のサイクル
を6回の5分洗浄サイクルが完了するまで繰返した。各
組成物に対するデータを次いで添付する第1および■図
中に示すように作図した。
中で乾燥しそして各背面露光時間をレリーフに対して測
定した。測定後、試料をさらに5分間洗い、乾かしそし
て測定した。この5分洗浄、乾燥そして測定のサイクル
を6回の5分洗浄サイクルが完了するまで繰返した。各
組成物に対するデータを次いで添付する第1および■図
中に示すように作図した。
この作図から背面露光の平均硬化速度7分は各背面露光
に対する硬化したフロア−(41oor )レリーフを
連結することによって形成される線の平均傾斜から測定
することができる。この方法は実施例1の組成物に対す
る背面露光のおよそo、oi。
に対する硬化したフロア−(41oor )レリーフを
連結することによって形成される線の平均傾斜から測定
することができる。この方法は実施例1の組成物に対す
る背面露光のおよそo、oi。
インチ7分の硬化速度に対し米国特許第4,177.0
74号の組成物に対してはおよそ0.005インチ/分
の硬化速度を与える。
74号の組成物に対してはおよそ0.005インチ/分
の硬化速度を与える。
姫付した図面は背面露光時間とレリーフ厚さとの関係を
5分間毎の繰返し洗浄による変化について作図したもの
であって、 第1図は米国特許第4jl’77,074号に従った組
成物からつくったシートについて行ったものであり、そ
して 第11図は本発明の組成物からつくったシートに関する
ものである。 代理人 浅 村 皓 背面館元 (G” ) ¥面8光 −2(
5分間毎の繰返し洗浄による変化について作図したもの
であって、 第1図は米国特許第4jl’77,074号に従った組
成物からつくったシートについて行ったものであり、そ
して 第11図は本発明の組成物からつくったシートに関する
ものである。 代理人 浅 村 皓 背面館元 (G” ) ¥面8光 −2(
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)囚 30,000カ)ら125,000までの数
平均分子量、10から50重量%までのアクリロニトリ
ル含量、および1から15重、1%までのカルボキシル
含量を有する全組成物の40から90重量%までの局分
子址ブタジェン/アクリロニトリルカルボキシル化共重
合体、 (9) 50,000から100.0−00までの数平
均分子量、10から60重量%までのアクリロニトリル
含MY有する全組成物の5から60重量%までの高分子
量ブタジェン/アクリロニトリル非カルボキシル化共重
合体それによってカルボキシル化および非カルボキシル
化高分子を共重合体の組合わせは6から10ffi孟%
までのカルボキシル金層を有する組成物を与える。 (C) 全組成物の2から40重量%までの付加光連
合性エチレン系不飽4′t]モノマー、および(6)全
組成物の0.1から10重量%までの化学輻射によって
活性化しうる光重合開始剤、を含む印刷用に好適な均質
なエラストマー状感光性組成物。 (2)高分子量カルボキシル化共重合体と高分子量非カ
ルボキシル化共重合体が合体したときに平均カルボキシ
ル含量乞4から8%まで有する特許請求の範囲第(1)
項に記載のニジストマー状感光性組成物。 (3) 高分子量カルぜキシル化共重合体が55から
65俤の瀘で存在しそして、非カルボキシル化共重合体
が65から45%の量で存在する特許請求の範囲第(1
)項に記載のニジストマー状感光性組成物。 (4) カルボキシル化高分子量共重合体が90,0
00カー1’) 110,000までの数平均分子量を
有しそしてアクリロニトリル含量が20から40%まで
である特許請求の範囲第(3)項に記載のニジストマー
状感光性組成物。 (5) カルボキシル化高分子量共重合体が4から1
0%までのカルボキシル含量を有する特許請求の範囲第
(4)項に記載のエラストマー状感光性物品。 (6) 非カルボキシル化高分子量共重合体が55
、000から85,000までの数平均分子量を有しそ
してアクリロニトリル含量が20から60%までである
特許請求の範囲第(3)項に記載のニジストマー状感光
性物品。 (カ カルボキシル化高分子量共重合体が55から65
チまでの童で存在し、そして90,000から110.
000までの分子量および2oから4o%までのアクリ
ロニトリル含量ヲ有しそして非カルボキシル化高分子量
共重合体が65から45%までの址で存在しそして55
.OD Oから85,000までの分子量および2oか
ら60%までのアクリロニトリル含Rw有する特許請求
の範囲第(2)項に記載のニジストマー状感光性物品。 (8)(A) 30.0001−ら125,000ま
での数平均分子量、10から50重量%までのアクリロ
ニトリル含量、および1から15jti%までのカルボ
キシル含量を有する全組成物の40から9o重量斧まで
の高分子量ブタジェン/アクリロニトリルカルボキシル
化共重合体、 03) 50,000から100.[100までの故
平均分子鼠、10から60重−m%までのアクリロニト
リル含量を有する全組成物の5から60重瀘楚までの高
分子量ブタジェン/アクリロニトリル非カルボキシル化
共重合体それによってカルボキシル化および非カルボキ
シル化高分子量共重合体の組合ワセは6から10重量%
までのカルボキシル含量をMする組成物を与える、 (C) 全組成物の2から40重量%までの付加光重
合性エチレン系不飽和モノマー、およびの)全組成物の
0.1から10重量%までの化学輻射によって活性化し
うる光重合開始剤を含む組成物から構成され0.000
1インチから0.25インチまでの全厚さで支持体上に
重ねられる感光性フレキソグラフィー版。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US41358182A | 1982-08-31 | 1982-08-31 | |
| US413581 | 1982-08-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5960435A true JPS5960435A (ja) | 1984-04-06 |
| JPH0612442B2 JPH0612442B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=23637798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58158945A Expired - Lifetime JPH0612442B2 (ja) | 1982-08-31 | 1983-08-30 | 均質なエラストマ−状感光性組成物 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0104751B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0612442B2 (ja) |
| AT (1) | ATE81912T1 (ja) |
| AU (1) | AU564036B2 (ja) |
| BR (1) | BR8304534A (ja) |
| CA (1) | CA1203107A (ja) |
| DE (1) | DE3382630T2 (ja) |
| DK (1) | DK395083A (ja) |
| FI (1) | FI833082A7 (ja) |
| GR (1) | GR78977B (ja) |
| NO (1) | NO833118L (ja) |
| PT (1) | PT77266B (ja) |
| ZA (1) | ZA835926B (ja) |
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| JPH04122941A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
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-
1983
- 1983-08-09 CA CA000434153A patent/CA1203107A/en not_active Expired
- 1983-08-10 AU AU17836/83A patent/AU564036B2/en not_active Ceased
- 1983-08-11 ZA ZA835926A patent/ZA835926B/xx unknown
- 1983-08-19 EP EP83304800A patent/EP0104751B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-08-19 AT AT83304800T patent/ATE81912T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-08-19 DE DE8383304800T patent/DE3382630T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1983-08-22 BR BR8304534A patent/BR8304534A/pt unknown
- 1983-08-29 GR GR72317A patent/GR78977B/el unknown
- 1983-08-30 NO NO833118A patent/NO833118L/no unknown
- 1983-08-30 DK DK395083A patent/DK395083A/da not_active Application Discontinuation
- 1983-08-30 PT PT77266A patent/PT77266B/pt unknown
- 1983-08-30 JP JP58158945A patent/JPH0612442B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1983-08-30 FI FI833082A patent/FI833082A7/fi not_active Application Discontinuation
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| JPS62231248A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-09 | Nippon Zeon Co Ltd | 感光性エラストマ−組成物 |
| JPH04122941A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Also Published As
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