JPS596539A - パタ−ン測定装置 - Google Patents
パタ−ン測定装置Info
- Publication number
- JPS596539A JPS596539A JP57115435A JP11543582A JPS596539A JP S596539 A JPS596539 A JP S596539A JP 57115435 A JP57115435 A JP 57115435A JP 11543582 A JP11543582 A JP 11543582A JP S596539 A JPS596539 A JP S596539A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- angle
- edge
- measurement
- detection signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、パターン測定装置に係9、特に基準線に対し
傾斜した斜めパターンの寸法を測定する場合に使用する
のに好適な斜めパターン測定装置に関する。
傾斜した斜めパターンの寸法を測定する場合に使用する
のに好適な斜めパターン測定装置に関する。
一般に、半導体装置の製造工程においてに、ホトマスク
またはウェハ上に形成さ几たパターンの寸法を測定検査
することか行なわnており、従来から、この寸法測定検
査を目視によらず自動的に遂行できる寸法検査装置も開
発さnている。
またはウェハ上に形成さ几たパターンの寸法を測定検査
することか行なわnており、従来から、この寸法測定検
査を目視によらず自動的に遂行できる寸法検査装置も開
発さnている。
この種の寸法検査装置として、例えば、パターンのエツ
ジに光を走査させて照射し、このエツジにおける散乱光
を検出するこ゛とによりエツジの位it會知得し、エツ
ジ間隔にニジパターンの寸法會求めるようにしたものが
める。
ジに光を走査させて照射し、このエツジにおける散乱光
を検出するこ゛とによりエツジの位it會知得し、エツ
ジ間隔にニジパターンの寸法會求めるようにしたものが
める。
しかしながら、このような寸法検査装置にめっては、基
準線tこ対し傾斜した斜めパターンの寸法を測定検査す
ることができないという欠点がある。
準線tこ対し傾斜した斜めパターンの寸法を測定検査す
ることができないという欠点がある。
そして、今後さらにパターンの微細化およびパターンの
集積度が高くなると、基準線に対し傾斜した斜めパター
ン會形成することが必要となり、この必要に伴って斜め
パターンの寸法を高精度かつ高能率に測定することが必
要となる。
集積度が高くなると、基準線に対し傾斜した斜めパター
ン會形成することが必要となり、この必要に伴って斜め
パターンの寸法を高精度かつ高能率に測定することが必
要となる。
本発明の目的は、前記従来技術の欠点t%消し、斜めパ
ターンの寸法を高精度かつ高能率に測定することが実現
化可能なパターン測定装置全提供するにある。
ターンの寸法を高精度かつ高能率に測定することが実現
化可能なパターン測定装置全提供するにある。
この目的を達成するため、本発明に、任急の傾斜角會有
する斜めパターンの寸法測定上行なう場合、パターンを
測定走査軸線に対して段階的に回動させながら、エツジ
間隔の測定tHIり返えし、各測定結果のlit比戟し
て最大値を示す回動角度を求め、当該求めた角度に斜め
パターンを位置設定し、この状態で刷めパターンの寸法
測定を行なえるようにしたものである。
する斜めパターンの寸法測定上行なう場合、パターンを
測定走査軸線に対して段階的に回動させながら、エツジ
間隔の測定tHIり返えし、各測定結果のlit比戟し
て最大値を示す回動角度を求め、当該求めた角度に斜め
パターンを位置設定し、この状態で刷めパターンの寸法
測定を行なえるようにしたものである。
以下、本発明を図面に示す実施例にしたかつてさらに説
明する。
明する。
第1図は本発明によるノくターン測定装置勿廁めパター
ンの寸法検査装置に適用した場合の一実施例を示すもの
である。
ンの寸法検査装置に適用した場合の一実施例を示すもの
である。
第1図において、XYテーブル1上には表面上にパター
ン3を形成さnたホトマスク2が載置状態に保持されて
いる。ホトマスク2はウニノー上に同一のチップパター
ン像を多数撮影できるように、例えば、第2図に示す如
く多数のチップ部4を仮想的に画成さnた上で、各チッ
プ部4に同一のノくターン3をそれぞれ形成さnている
。このノくターン3は、例えば、第3図に示すように、
互に、直交する基準線6に、67に対してそnぞn傾斜
する(図示例では45度そrt、−’Hn傾斜するもの
とする。)斜め部5を有している。なお、第3図中(他
の図でも同じ。)、7は後記するターンテーブルの回動
中心の帆長点(以下、回動中心という。)、8は後記す
るレーザの照射スポット、9はXYテーブル1の送9万
同10に伴って相対的に生ずる前記スポット8のパター
ン3に対する走査方向、である。
ン3を形成さnたホトマスク2が載置状態に保持されて
いる。ホトマスク2はウニノー上に同一のチップパター
ン像を多数撮影できるように、例えば、第2図に示す如
く多数のチップ部4を仮想的に画成さnた上で、各チッ
プ部4に同一のノくターン3をそれぞれ形成さnている
。このノくターン3は、例えば、第3図に示すように、
互に、直交する基準線6に、67に対してそnぞn傾斜
する(図示例では45度そrt、−’Hn傾斜するもの
とする。)斜め部5を有している。なお、第3図中(他
の図でも同じ。)、7は後記するターンテーブルの回動
中心の帆長点(以下、回動中心という。)、8は後記す
るレーザの照射スポット、9はXYテーブル1の送9万
同10に伴って相対的に生ずる前記スポット8のパター
ン3に対する走査方向、である。
前i;(jXYテーブル1上にはターンテーブル11が
設備さnl ターンテーブル11は駆動装置12によっ
てXYテーブル1上にて基準(XYテーブル11の送り
方向、スポット8の走査方向9に相当する。)に対して
回動する工うに構成さn、かつ、基準に対する回動角度
が角度検出器13によって検出さnる工うに構成さnて
いる。
設備さnl ターンテーブル11は駆動装置12によっ
てXYテーブル1上にて基準(XYテーブル11の送り
方向、スポット8の走査方向9に相当する。)に対して
回動する工うに構成さn、かつ、基準に対する回動角度
が角度検出器13によって検出さnる工うに構成さnて
いる。
XYテーブル1の上方には信号媒体としてのレーザ14
にホトマスク2の表面に照射する光学系15か設備さn
lこの光学系15はレーザ14に一ホトマスク2の表面
にほぼ直角に、がっ、第3図に示したような細い矩形状
のスポット8を形成するように構成さnている。また、
光学系15の両脇にはレーザ5のパターンエツジにおけ
る散乱光を検出するホトセル16かそnぞn配さnてい
る。
にホトマスク2の表面に照射する光学系15か設備さn
lこの光学系15はレーザ14に一ホトマスク2の表面
にほぼ直角に、がっ、第3図に示したような細い矩形状
のスポット8を形成するように構成さnている。また、
光学系15の両脇にはレーザ5のパターンエツジにおけ
る散乱光を検出するホトセル16かそnぞn配さnてい
る。
光学系15お工びホトセルからなる測定系とホトマスク
2上のパターン3とはXYテーブル1の送シにしたかっ
て相対的に移動する。
2上のパターン3とはXYテーブル1の送シにしたかっ
て相対的に移動する。
前記ホトセル16には信号処理器17か接続さnており
、この処理器17の出力端には角度演算器18と寸法演
算器19とかそnぞn接続さ九ている。角度演算器18
の入力端には前記角度検出器13も接続さn、この演算
器18の出力端には前記ターンテーブル駆動装置111
2が接続さnている。また、寸法演算器19には、ディ
スプレイ装置やプリンタ等からなる検査結果出方器2o
が接続されている。
、この処理器17の出力端には角度演算器18と寸法演
算器19とかそnぞn接続さ九ている。角度演算器18
の入力端には前記角度検出器13も接続さn、この演算
器18の出力端には前記ターンテーブル駆動装置111
2が接続さnている。また、寸法演算器19には、ディ
スプレイ装置やプリンタ等からなる検査結果出方器2o
が接続されている。
次に作用を説明する。
葦ず、ホトマスク20基準線6x、6yと、XYテーブ
ルlのX軸、Y軸の送り方向とを一致させる。この状態
で、第3図に示すように、XYテーブル1を破線矢印1
0の方向に送シ、レーザスポット8を相対的に実線矢印
9の方向に走査させ、スポット81tパターン3を幅方
向に直交する工うに横切らせる。このスポット8を形成
しつつホトマスク2の表面に直角に照射するレーザ14
は、第4図に示すように、パターン3のエツジに照射し
たとき、正反射方向以外にも散乱する。この散乱光21
は原則的にエツジにおいてのみ発生するとしてよいから
エツジの存在を示す悄@葡釆せた信号を実儒的に構成し
ており、したかって、この散乱光21會検出丁nはエツ
ジの存在全知ることかできる。この散乱光21にホトセ
ル16で検出さnる。
ルlのX軸、Y軸の送り方向とを一致させる。この状態
で、第3図に示すように、XYテーブル1を破線矢印1
0の方向に送シ、レーザスポット8を相対的に実線矢印
9の方向に走査させ、スポット81tパターン3を幅方
向に直交する工うに横切らせる。このスポット8を形成
しつつホトマスク2の表面に直角に照射するレーザ14
は、第4図に示すように、パターン3のエツジに照射し
たとき、正反射方向以外にも散乱する。この散乱光21
は原則的にエツジにおいてのみ発生するとしてよいから
エツジの存在を示す悄@葡釆せた信号を実儒的に構成し
ており、したかって、この散乱光21會検出丁nはエツ
ジの存在全知ることかできる。この散乱光21にホトセ
ル16で検出さnる。
ライン状のパターン3はその幅方向につき一対のエツジ
を有しているから、ホトセル16の検出信号は第5図に
示すように両エツジに対応して2つの箇所(原始的には
時点)にお込てそnぞn発生さnる。この検出信号は、
イぎ号処理器17に印加し、ここで波形整形や増巾等の
処理を受けた後、寸法演算器19に印加さnる。この寸
法演算器19は、両エツジの信号検出時の位置音測定ス
ポット8の走査距離ケ求めるレーザ測長系から求めるこ
とができ、こnらtaXして寸法Wとして求める。
を有しているから、ホトセル16の検出信号は第5図に
示すように両エツジに対応して2つの箇所(原始的には
時点)にお込てそnぞn発生さnる。この検出信号は、
イぎ号処理器17に印加し、ここで波形整形や増巾等の
処理を受けた後、寸法演算器19に印加さnる。この寸
法演算器19は、両エツジの信号検出時の位置音測定ス
ポット8の走査距離ケ求めるレーザ測長系から求めるこ
とができ、こnらtaXして寸法Wとして求める。
このようにして求めらnたパターンの幅寸法Wに、寸法
演鼻519から検査結果出力器20に目J加さn5ここ
でテレビモニタや印字等適当な態様で衆がさnる〇 なお、検査結果出力器20に、xYテーブル1の位[?
検出する位置検出器(不図示)から人力されてくる位置
検出信号と、寸法演算器19から入力されてぐる幅寸法
Wの信号とを用い、ホトマスク2(iたに検査対象チッ
プ部4)上における寸法測定対応箇所全モニタに写し出
したり、プリンタ嶌隻に工りXY座標にて打ち出したり
する等の適当な態様で表示する。
演鼻519から検査結果出力器20に目J加さn5ここ
でテレビモニタや印字等適当な態様で衆がさnる〇 なお、検査結果出力器20に、xYテーブル1の位[?
検出する位置検出器(不図示)から人力されてくる位置
検出信号と、寸法演算器19から入力されてぐる幅寸法
Wの信号とを用い、ホトマスク2(iたに検査対象チッ
プ部4)上における寸法測定対応箇所全モニタに写し出
したり、プリンタ嶌隻に工りXY座標にて打ち出したり
する等の適当な態様で表示する。
仄に、パターンの斜め部の幅寸法を測定する場合につき
説明する。
説明する。
この場合、第6図に示すように、スポット8をパターン
3の斜め部50幅方向に対し傾斜した状態で走査させる
と、第7図に示す工うなエツジ検出信号波形か得らnる
。この場合、スポット8がパターンエツジに瞬時点的に
父差して通過するのではなく、走査方向9と斜め部5の
エツジとが直交せずに傾斜していることから、スポット
8と斜め部エツジとの51.差が時間を持つとともに、
当該交M点がスポット8とエツジとt相対的に移動する
ため、エツジ検出信号は、そのビークPの出力レベル(
イぎ号値の大きさ)Lが小さく、かつ、緩やかな山形の
信号になってしまう。したかって、真のピー221丁な
わちエツジ検出信号の発生筒P)rk探査することは困
難であシ、2つのエツジ16号間隔Di求めることは極
めて困難である。
3の斜め部50幅方向に対し傾斜した状態で走査させる
と、第7図に示す工うなエツジ検出信号波形か得らnる
。この場合、スポット8がパターンエツジに瞬時点的に
父差して通過するのではなく、走査方向9と斜め部5の
エツジとが直交せずに傾斜していることから、スポット
8と斜め部エツジとの51.差が時間を持つとともに、
当該交M点がスポット8とエツジとt相対的に移動する
ため、エツジ検出信号は、そのビークPの出力レベル(
イぎ号値の大きさ)Lが小さく、かつ、緩やかな山形の
信号になってしまう。したかって、真のピー221丁な
わちエツジ検出信号の発生筒P)rk探査することは困
難であシ、2つのエツジ16号間隔Di求めることは極
めて困難である。
仮に、この場合のエツジ信号間隔りが求められたとして
も、この間隔りはパターン斜め部5の幅寸法の直でにな
h0斜め部501編寸法はこの間隔りの直と、斜め部5
の基準、1J5xまたに61に対する傾斜角度とにニジ
求めらnる値である。この斜め部の傾斜角度の直として
、例えば、パターン設計時における直tそのまま導入で
き几は、斜め部5の嘱寸法直も求め祷る。
も、この間隔りはパターン斜め部5の幅寸法の直でにな
h0斜め部501編寸法はこの間隔りの直と、斜め部5
の基準、1J5xまたに61に対する傾斜角度とにニジ
求めらnる値である。この斜め部の傾斜角度の直として
、例えば、パターン設計時における直tそのまま導入で
き几は、斜め部5の嘱寸法直も求め祷る。
しかしながら、パターンが所定の設置it直通9に形成
きれているかt測定検査するこの種の寸法横歪において
、設#を直音そのまま導入することに望ましいことでに
なく、検査M果についての信頼度に低くなろう。
きれているかt測定検査するこの種の寸法横歪において
、設#を直音そのまま導入することに望ましいことでに
なく、検査M果についての信頼度に低くなろう。
本発明は、前述した困難性全克服し、かつ、高り信頼度
を祷るためになさnてたものであるといっても工い。
を祷るためになさnてたものであるといっても工い。
第1図に示した寸法検査装置おいて、駆動装置12にニ
ジターンテーブル11は例えば10度刻みに基準状態か
ら90度まで回動停止全順次繰り返えしていき、XYテ
ーブルl、光学系15お工びホトセル16等は各回動角
度の停止ごとにパターン3の斜め部5につ込てのエツジ
測定金随時繰ル返して実施する。
ジターンテーブル11は例えば10度刻みに基準状態か
ら90度まで回動停止全順次繰り返えしていき、XYテ
ーブルl、光学系15お工びホトセル16等は各回動角
度の停止ごとにパターン3の斜め部5につ込てのエツジ
測定金随時繰ル返して実施する。
すなわち、ターンテーブル1lt−回動させることによ
シ、例えば、第8図に示すように、基準線6xと、スポ
ット8の走査方向9とがなす角度θの1’2io度刻み
に増加し変更設定していく。回動させるとき、襟測定パ
ターン3の斜め部5にターンテーブルの回動中心7が近
接していることが望ましい。なぜなら、回動中心7と被
測定斜め部5とが離間していると、回動に伴って斜め部
5が回動中心7を遊星運動し、スポット8が斜め部5を
走査しない場合か発生し、ある角度において斜め部5の
エツジ會測定しないことがあるからである。
シ、例えば、第8図に示すように、基準線6xと、スポ
ット8の走査方向9とがなす角度θの1’2io度刻み
に増加し変更設定していく。回動させるとき、襟測定パ
ターン3の斜め部5にターンテーブルの回動中心7が近
接していることが望ましい。なぜなら、回動中心7と被
測定斜め部5とが離間していると、回動に伴って斜め部
5が回動中心7を遊星運動し、スポット8が斜め部5を
走査しない場合か発生し、ある角度において斜め部5の
エツジ會測定しないことがあるからである。
第8図に示しfc工うに、基準状態(基準線6xと走査
方向9とか一致した状a)からある角度θだけ回動じた
設定状態において、スポット8rパターンの剰め部5に
対して矢印9のように走査させると、第9図に示すよう
なエツジ検出信号波形が傅らnる。
方向9とか一致した状a)からある角度θだけ回動じた
設定状態において、スポット8rパターンの剰め部5に
対して矢印9のように走査させると、第9図に示すよう
なエツジ検出信号波形が傅らnる。
第9図に示すように、回動角度θにおけるエツジ検出信
号のピータPθの出力レベルLθは、第6図に示した出
力レベルLニジも犬すく、かつ山形の裾およびピーク間
隔Dθは狭小になる。
号のピータPθの出力レベルLθは、第6図に示した出
力レベルLニジも犬すく、かつ山形の裾およびピーク間
隔Dθは狭小になる。
このようなエツジ検出信号にホトセル16から信号処理
器17を経て角度演算器18に随時印加さnる。この演
算器18は、角度検出器13から入力さnるターンテー
ブル110回動角度θの直にそれぞn対応して、各回動
角度θにおける測定時のエツジ検出信号のピークPθの
出力レベルLθを随時記憶していく。
器17を経て角度演算器18に随時印加さnる。この演
算器18は、角度検出器13から入力さnるターンテー
ブル110回動角度θの直にそれぞn対応して、各回動
角度θにおける測定時のエツジ検出信号のピークPθの
出力レベルLθを随時記憶していく。
前記回動角度θが例えば10反刻みで増加さn90度に
達したら、演算器18は、随時配慣蓄槓した各角度θに
おける測定結果情報に基いて、第10図に示すようなグ
ラフを仮想的に作成する。
達したら、演算器18は、随時配慣蓄槓した各角度θに
おける測定結果情報に基いて、第10図に示すようなグ
ラフを仮想的に作成する。
このグラフに、回動角度θを横軸に、エツジ検出信号の
ピークにおける出力レベルLθを縦軸にそnぞnとり、
各角度における各出力レベルを求めることにより作成さ
nる。第10図に示すように、このグラフはある角度]
直までは出力レベルが増加し、ある角度flit?(越
えると出力レベルか減少していくLとを示すグラフとな
る。
ピークにおける出力レベルLθを縦軸にそnぞnとり、
各角度における各出力レベルを求めることにより作成さ
nる。第10図に示すように、このグラフはある角度]
直までは出力レベルが増加し、ある角度flit?(越
えると出力レベルか減少していくLとを示すグラフとな
る。
続すて、演算器8はこのグラフに基いて、出力レベルが
最大@を示すある角度を含む範囲Eli演算して想定す
る。例えば、第10図に示す工うに、当該範囲8?I−
ターンテーブルの前記回動角度θにおいて40度から5
0度と想定したら、演算器8にこの想定に基すて所定の
指令信号を駆動装置12に印加する◎ 駆動装置12はこの指令信号に基き、ターンテーブル1
lk−例えば40度から50度の範囲内において1度刻
みに間欠回動させていく。ターンテーブル11の各回動
角度における間欠停止中、XYテーブル1.光学系15
お工びホトセル16寺はパターン3の―め部5について
のエツジ測犀を4時繰り返えして実施する。
最大@を示すある角度を含む範囲Eli演算して想定す
る。例えば、第10図に示す工うに、当該範囲8?I−
ターンテーブルの前記回動角度θにおいて40度から5
0度と想定したら、演算器8にこの想定に基すて所定の
指令信号を駆動装置12に印加する◎ 駆動装置12はこの指令信号に基き、ターンテーブル1
lk−例えば40度から50度の範囲内において1度刻
みに間欠回動させていく。ターンテーブル11の各回動
角度における間欠停止中、XYテーブル1.光学系15
お工びホトセル16寺はパターン3の―め部5について
のエツジ測犀を4時繰り返えして実施する。
前述と同様に、ホトセル16によるエツジ検出器ぎ号は
信号処理器17を経て角度演X器18に1度刻みの各回
動角度における測定ごとに随時印加き几、演算器18は
各角度に対応したエツジ検出信号のピークの出力レベル
11時記憶していき、回動角度θが50度に達したら、
演S器8に測定結果情報に基いて所定のグラフ全仮想的
に作成する。このときのグラフは第11図に示すような
ものとなる。
信号処理器17を経て角度演X器18に1度刻みの各回
動角度における測定ごとに随時印加き几、演算器18は
各角度に対応したエツジ検出信号のピークの出力レベル
11時記憶していき、回動角度θが50度に達したら、
演S器8に測定結果情報に基いて所定のグラフ全仮想的
に作成する。このときのグラフは第11図に示すような
ものとなる。
続すて、演算器/8はこのグラフに基いて出力レベルが
最大値を示すある角度葡各出力レベル相互の比較判定等
適当な手法により求める。本実施例でに、第11図に示
すように、求めらnた角度は45度でめり、この角度は
パターン3の斜め部5の基準線6xに対する傾斜角の直
と等しくなる。
最大値を示すある角度葡各出力レベル相互の比較判定等
適当な手法により求める。本実施例でに、第11図に示
すように、求めらnた角度は45度でめり、この角度は
パターン3の斜め部5の基準線6xに対する傾斜角の直
と等しくなる。
演算器/8はこの求めた角度に基いて所定の指令信号を
駆動装置1l12に印加し、駆動装置11112はこの
指令1d号に基き、例えば、第12図に示すように、基
準−6xと走査方間9とかなす角度か45度となるよう
ターンテーブル11t−回動させる。
駆動装置1l12に印加し、駆動装置11112はこの
指令1d号に基き、例えば、第12図に示すように、基
準−6xと走査方間9とかなす角度か45度となるよう
ターンテーブル11t−回動させる。
この状態で、第12図に示すように、スポット8を矢印
9方向に走査させると、スポット8はパターンの斜め部
5を幅方向[横切る。この走査による州め部5の両エツ
ジでの散乱光はホトセル16で受けらn1ホトセル16
.信号処理′a17において第13図に示すようなエツ
ジ検出信号波形が得らnる。この信号波形はスポット8
がパターン斜め部5?I−幅方向に楕切って祷られるも
のであるから、第5図に示した波形と同様なものであり
、したがって、そのピーク間隔にエツジ間隔、丁なわち
斜め部5め幅寸法w’l示している。
9方向に走査させると、スポット8はパターンの斜め部
5を幅方向[横切る。この走査による州め部5の両エツ
ジでの散乱光はホトセル16で受けらn1ホトセル16
.信号処理′a17において第13図に示すようなエツ
ジ検出信号波形が得らnる。この信号波形はスポット8
がパターン斜め部5?I−幅方向に楕切って祷られるも
のであるから、第5図に示した波形と同様なものであり
、したがって、そのピーク間隔にエツジ間隔、丁なわち
斜め部5め幅寸法w’l示している。
そして、第9図に示した46号は寸法演算器19に印加
され、この演算器19は前述した要領で斜め部50幅寸
法W%を求め、検査結果出力器20に印加し、出力器2
0は適当な態様で幅寸法kを表示する。
され、この演算器19は前述した要領で斜め部50幅寸
法W%を求め、検査結果出力器20に印加し、出力器2
0は適当な態様で幅寸法kを表示する。
なお、斜め部5の幅寸法直とともに、狛め部5の傾斜角
度(本実施例では、基準線6xに対し45度)を表示す
ると、斜め部5のf1斜が設d[圃遡りに形成さnたか
否かを測定検査し得る等の諸点で有利となるので、両者
を対応して表示することが望ましい。この伸銅角度の直
は、角度演算器18から容易に祷ることができる。
度(本実施例では、基準線6xに対し45度)を表示す
ると、斜め部5のf1斜が設d[圃遡りに形成さnたか
否かを測定検査し得る等の諸点で有利となるので、両者
を対応して表示することが望ましい。この伸銅角度の直
は、角度演算器18から容易に祷ることができる。
このようにして、本実施例によれば、多めパターンの傾
蝙角を求めた上で、この解答に基いて狛めパターンの傾
斜線と測定スポットの走査方向とを変FM整し、測定ス
ポット′II−和めパターンの幅方向に走査させてパタ
ーンエツジの検出による幅寸法測定全行雇うので、斜め
パターンの幅寸法ヶ正確に測定することができる。
蝙角を求めた上で、この解答に基いて狛めパターンの傾
斜線と測定スポットの走査方向とを変FM整し、測定ス
ポット′II−和めパターンの幅方向に走査させてパタ
ーンエツジの検出による幅寸法測定全行雇うので、斜め
パターンの幅寸法ヶ正確に測定することができる。
また、刷めパターンの傾斜角の直、およびこれに幅寸法
【関連付けた情報等も同時に記録できるので、寸法検査
システムとしてより完成に近づけることができ、データ
の利用価値を高めることができる。
【関連付けた情報等も同時に記録できるので、寸法検査
システムとしてより完成に近づけることができ、データ
の利用価値を高めることができる。
さらに、全ての動作が自動的に行なわnるので、寸法検
査の全自動化か促進でき、省力化とともに、よシ一層の
高信頼化が期待できる。
査の全自動化か促進でき、省力化とともに、よシ一層の
高信頼化が期待できる。
なお、前記実施例では、ホトマスク側か送り移動して測
定スポットか相対的に走査される場合につき説明したが
、測定光学系1llllIが走査動作するように構成し
てもよい。散乱光をホトセルで検出してパターンエツジ
?検出する構成に限らず、光がガラスマスクは透過する
が、パターンは透過しないことt利用して透過光音ホト
セルで検出してパターンエツジを検出する構成全使用し
てもよい。
定スポットか相対的に走査される場合につき説明したが
、測定光学系1llllIが走査動作するように構成し
てもよい。散乱光をホトセルで検出してパターンエツジ
?検出する構成に限らず、光がガラスマスクは透過する
が、パターンは透過しないことt利用して透過光音ホト
セルで検出してパターンエツジを検出する構成全使用し
てもよい。
また、パターンエツジで変調さnることによりエツジの
存在を知らせる4g号會乗せ得る信号媒体はレーザに限
らず、例えば電子ビーム等?用いることもできる。当該
信号?検出する検出手段がホトセルに限定されるもので
ないことは勿論である。
存在を知らせる4g号會乗せ得る信号媒体はレーザに限
らず、例えば電子ビーム等?用いることもできる。当該
信号?検出する検出手段がホトセルに限定されるもので
ないことは勿論である。
前記実施例では、斜めパターンの寸法検査装置に適用し
次場合につき説明し次が、本発明は斜めパターンの傾斜
角の直を単に測定する場合について適用することかでき
る。
次場合につき説明し次が、本発明は斜めパターンの傾斜
角の直を単に測定する場合について適用することかでき
る。
また、斜めパターンの傾斜線と測定スポットの走査方向
との相対的な回動は手動操作で行なっても工く、例えば
オシログラフ等でエツジ検出1g号波形全目視しながら
、回動角に?変更してじき、最大検出信号値を示す角度
音束めることができる。
との相対的な回動は手動操作で行なっても工く、例えば
オシログラフ等でエツジ検出1g号波形全目視しながら
、回動角に?変更してじき、最大検出信号値を示す角度
音束めることができる。
本発明がホトマスク上に形成さ几=た剌めパターンの測
定に限らず、例えば、ウェア1等に形成さnたパターン
の測定全般に適用できることは勿論である。
定に限らず、例えば、ウェア1等に形成さnたパターン
の測定全般に適用できることは勿論である。
以上説明したように、本発明によnば、斜めノくターン
の傾斜角および寸法?正確に測定することができる。
の傾斜角および寸法?正確に測定することができる。
第1図は本発明の一実施例金示す構成図、第2図にホト
マスクの一例を示す平面図λ第3図にホトマスク上のチ
ップ部の一例奮示す拡大平面図、 第4図は測定涼埋ヲ駈明するための説明図、第5図にエ
ツジ検出信号の波形図、 第6図σ作用?説明するための説明図、鴎7図はエッジ
検出1B号の波形図、 8g8図は作用全説明する几めの説明図、第9図はエツ
ジ検出信号の波形図、 第10図および第11図は回動角とエツジ検出1M号の
出力レベルとの関係?L−(−Aぞn示す各グラ第12
図は作用全説明するための説明図、第13図はエツジ検
出信号の波形図である。 1・・・XYテーブル、2・・・ホトマスク、3・・・
)くターン、4・・・チップ部、5・・・斜め部、5x
、615’・・・基準線、8・・・測定スポット、9・
・・走査方向、10・・・送シ方向、・11・・・ター
ンテーブル、12・・・駆動装置、13・・・角度検出
器、14・・・レーザ、15・・・jt’!−系、16
・・・ホトセル、18・・・角度演算器、19・・・寸
法演算器。 第 1 図 第 2 図 第 3 間第
4 図 第 6 図 □ 7 。 第 8 図 第 9 図 第11図 第131 111r丁オク膚乃叶構 第10図 第12図
マスクの一例を示す平面図λ第3図にホトマスク上のチ
ップ部の一例奮示す拡大平面図、 第4図は測定涼埋ヲ駈明するための説明図、第5図にエ
ツジ検出信号の波形図、 第6図σ作用?説明するための説明図、鴎7図はエッジ
検出1B号の波形図、 8g8図は作用全説明する几めの説明図、第9図はエツ
ジ検出信号の波形図、 第10図および第11図は回動角とエツジ検出1M号の
出力レベルとの関係?L−(−Aぞn示す各グラ第12
図は作用全説明するための説明図、第13図はエツジ検
出信号の波形図である。 1・・・XYテーブル、2・・・ホトマスク、3・・・
)くターン、4・・・チップ部、5・・・斜め部、5x
、615’・・・基準線、8・・・測定スポット、9・
・・走査方向、10・・・送シ方向、・11・・・ター
ンテーブル、12・・・駆動装置、13・・・角度検出
器、14・・・レーザ、15・・・jt’!−系、16
・・・ホトセル、18・・・角度演算器、19・・・寸
法演算器。 第 1 図 第 2 図 第 3 間第
4 図 第 6 図 □ 7 。 第 8 図 第 9 図 第11図 第131 111r丁オク膚乃叶構 第10図 第12図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、平面に形成されたパターンに信号媒体を相対的に走
査させて照射する照射手段と、信号媒体かパターンのエ
ツジで変−されてなる1g号を検出する検出手段とを備
えたパターン測定装置において、前記平面が前記走査軸
線に対し相対的に回動自在であり、基準状態において走
査軸線に#A鋼したパターンの寸法全測定可能であるこ
と全特徴とするパターン測定装置。 2、平面に形成さnたパターンに信号媒体を相対的に走
査させて照射する照射手段と、信号媒体がバイーンのエ
ツジで変調さnてなる信号全検出する検出手段と會備え
たパターン測定装置において、JIJ ct平面か前記
走査軸線に対し相対的に回動自在でめ9、さらに、前記
検出手段には、前記平面の回動に対応してパターンと前
配走査軸紛とがなす複数の角度ごとにおける前hd検出
手段からの各検出信号11 k比軟し最大値全示す角度
を求める角度演算手段が接続さn、当該求めた角度に基
づき基準状態のパターンと走査軸線とがなす角度を得る
ことを特徴とするパターン測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115435A JPS596539A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | パタ−ン測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115435A JPS596539A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | パタ−ン測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS596539A true JPS596539A (ja) | 1984-01-13 |
Family
ID=14662487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57115435A Pending JPS596539A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | パタ−ン測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS596539A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6188357U (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-09 |
-
1982
- 1982-07-05 JP JP57115435A patent/JPS596539A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6188357U (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-09 |
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