JPS5976893A - 金合金の製造方法 - Google Patents

金合金の製造方法

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JPS5976893A
JPS5976893A JP18557282A JP18557282A JPS5976893A JP S5976893 A JPS5976893 A JP S5976893A JP 18557282 A JP18557282 A JP 18557282A JP 18557282 A JP18557282 A JP 18557282A JP S5976893 A JPS5976893 A JP S5976893A
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JP
Japan
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gold
silver
copper
alloy
plating
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JP18557282A
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JPH0147558B2 (ja
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Eiji Togawa
戸川 栄司
Mitsutaka Nishikawa
西川 光貴
Masami Kasai
笠井 昌巳
Shigeo Toda
茂生 戸田
Yoshiyuki Miyasaka
宮坂 善之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HAMASAWA KOGYO KK
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
HAMASAWA KOGYO KK
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、メッキと熱拡散によって形成する金Φ銀・銅
合金に関するものである。(以下、金はAu、銀はAg
%銅はOuと表現する。)従来より、Au合金メッキは
数多く開発・実用(Vされている。Auが95係以上の
メッキを除(と、Au合金メッキ浴としては、A u 
−A g 。
A  u−Ou、  A  u−Z  ns  A  
u−P eL % A  u −Od等の2元合金メッ
キ卦工びこれらを組合わせた6元以上の合金が実用化さ
れている。一方、溶解法ではA u −A g −Ou
合金が形も一般的、であり、色調番制食性等の機能を備
えているだめ多片されている。例を18カラツトKff
・げると、Au75チ、Ag12.5’l、0u12.
5%のようにAgとOuが同等かそれに近い比率で配合
されているものが多い。
しかしながら、メッキ171−いてはA u −A g
 −Ouが同時に、しかも希望する比率で析出させるよ
うな浴は実用化されていない。一般的にはAu−Ag%
A u −Ouのいずれかに属し、AgとOuを自由に
析出させることは極めて困難であった。一部にはそのよ
うな浴も開発されているがA、gとOuの比率は制限さ
れ、しかも浴は安定性罠之しく実年的ではなかった。こ
れはAu、Ag、Ouの析出型1位、特にAgとOuの
析出1g1位が大きく前れているため同時析出が困静で
あり、未だに両者の析小浦位を近づけるような安定した
錯体が発見されていないためであみ。
本発明は上れ【1の欠点を克服して、メッキ法によって
希望する組成のA u −A g −Ou合金の製造方
法を力えるものである。
前述したように、A u −A g合金メッキとAu−
Ou合金メッキはすでに実年f[―れており、一般的に
はともにアル力II *シアンfP合物によってつくら
れている。両者の違いは析出型1位とこれを左右する錯
イオン仕合物である。
木琴明け、弱アルカjl炭酸化合物を’FT(緩衝剤と
する低遊削シアンの、A u −A g −Cuを含む
アルカリ複シアンf「物からなるメッキ液が、同一電流
密度条件で、あるかくはん速度を境にこれより低かくは
ん速度ではA u −Ouで95チ以上の、かくはん速
度によってほとんど組成の変化のない合金析出物を、こ
れより高くか(はん速度ではAu−Agで959g以上
の、かくはん速度によって#丘とんど組成の変化のない
合金析出物を形成することを発見した。Au−Ag5 
Au−0u合金析出物はそれぞれわずかにOu%ABを
含有しているが、ここでは便宜上A u−A g、 A
 u−Ou合金とieす。
A u−A B%A u−Ouの合金組成は、メ゛ンキ
液中のAu、Ag%Cuの濃度、FH1遊細遊子シアン
度および電流密度などによって決定されるが、これらの
条件7fL:設定することに工って希望する組成のA 
u −A g −Ou合金を得ることができる。
A u −A p、 −Cu合金の組成側算全下記に示
す。
< A u−A g合金〉・・・・・・高がくはん速度
A u −= A 4、A g ・B%、0u−OTo
  (A+B≧95)比重D (g /lyl )、メ
ッキ厚・・・E(μ)(A u −Ou合金)・・・・
・・低かくはん速度A u −F %、Ou ”−G 
’ly、A g ・B% (F+G≧95)比重工(g
 /* ’)、メッキ厚・・・J(μ)く熱拡散後のA
u、A(7,Ouの組成)DXE+工×J DXFi+IXJ 熱拡散後に希望する組成のA u −A g −Ou合
金を得るためには、A u −A g 、 A u −
Ou合金を、それぞれある厚みでメッキする。
Au−AgとA u −Ouの厚みの比はそれぞれの組
成と、拡散波に得ようとする合金組成によって決定され
るが、一層の厚みは0.1μ以上が望ましい。これは、
メッキが高か(はん速度と低かくはん速度で交互に行な
われるため、メッキ析出組成が安定f[するのに必要な
厚さである。0.1μ以上の上限については、熱拡散の
温度・時間によって拡散厚みが決定上れるため、本発明
では上限にはこだわらない。オた、熱拡散の温度は20
0℃以上A u −A g −Ou合金の融点以下であ
ればよく、基材に上記のメッキ・拡散処理を行なう場合
には基材の軟化温度e融点等を考慮して拡散温度・時間
を決定すればよい。
次に、本発明に工って希望するA u −A g −O
u金合金得るための手順の一例を示す。
(1) Au−Ag%Au−Cuの組成を決定する。
すなわち、浴中のAu%Ag、Ouの濃度、FH1遊離
シアンを電流密度を設定する。
(2)  A u −A g 、 A u −Ouのメ
ッキ厚比を前述の計算大忙したがって設定する。
(3)高かくはん速度、低かくはん速度でAu−Ag%
A u −Ouを交互に所定の厚み寸でメッキする。
(11200℃以上で熱拡散処理を行なう。
次に、本発明の実施例を以下に示す。
実施例1 〈メッキ液組成〉 金(KAu(0?J)雲として)     6g/l銀
(KAg(ON)−として)    0.5 g / 
l!銅(Kt Ou(ON)m として)   !+ 
5 g / lシアンf〔カリウム         
5g/l炭酸水素カリウム      100 g /
 IP  H9,0 温度              60′C電流密度 
         0,75A/dllllこのメッキ
液は、第1図に示す工うなか(はん速度−析出組成を示
す。この図かられかるように、か(はん速度が03m/
杉付近でAu−Ag合金とA u−Ou合金に分離なれ
ている。ただし、この臨界のか(けん速度は霊気密度に
よって変化する。具体的には、電流密度が高くなると臨
界のか(はん速度も速くなる。この臨界か(はん速度近
傍ではA u −A g 、 A u −Ouの出現の
し力\たけ極めて不安定であるが、安定領域ではAu−
Ag、A u−Ouの組成はかくはん速度にほとんど依
存しない。
この特性を利用して、次のような条件でN1メッキした
洋白上に、Au−16係A 11− Ouメ二ンキを交
互に行なった。
<Au−Agメッキ〉 か(はん速度     Q、35m/seeメッキ厚 
      1μ 析出組成       Au・・・85係Ag・・・1
3チ Ou・・・ 2チ < A u −Ouメッキ〉 か(はん速度     Q、 15 m / s(イ)
メッキ)撃       1.2μ 析出組成       A、 u・・・62係A g・
・・  4係 Cu・・・ 34 チ 総メッキ厚が50μのメッキ層が得られたところでこの
メッキ層を無酸化炉で600℃で2時間熱処理した結果
、Au73%、Ag9fj、0t11 B係、色調N−
ニー4(スイス時計工業規格による)のA u −A 
g −Cu合金が得られた。
実施例2 市販のA u −A g −Ou k含む合金メッキ液
オーロベースAOG(商品名:日進f?成■)を用いた
ところ、第1図とほとんど同じ(かくはん速度−析出組
成の特性が得られた。これケ用いて以下のような条件で
N1メッキした黄銅上に交互に300μメツキした。
(A u −A gメッキ〉 か(はん速度      0.35m/爾メッキ厚  
       0,8μ 醒流密度        0.7 s A /dIII
I析出組成        Au・・・82係Ag・・
・16俤 Ou・・・ 2係 (A u −Ouメッキ〉 かくけん速度      0.1m/就メッキ厚   
     064μ 電流密度        0.75−A/dm’析出組
成        Au・・・65係Ag・・・ 5チ Cu・・・50係 メッキ後、基材の黄銅、Niメッキ皮膜を剥離したのち
、無酸化炉で800℃、30分間拡散処理をした結果s
Au・・・75チ、Ag・・・12チ、Ou・・・15
係、色調N−ニー2の18カラットAu−A g −O
u合金が得られた。
次に、本発明によって得られる効果を以下に示す。
1、  Au−Ag−0u合金の組成が自由に制御でき
る。このため、カラット、色調が従来のメッキに比べ1
」広(?択できる。
2、 熱拡散したA u −A g −Ou合金である
ため、通常のメッキ皮膜より硬度が高い。
6、 耐食性が良い。
A u −Cuメッキは合金ではな(共析メッキである
と言われているが、本発明では熱拡散をして完全に合金
(Eして、耐食性を冶金的に製造した合金と回等にして
いるため、Au−16係A u −Ou単独のメッキエ
リも耐食性が著しく向上する、 4、18カラツトメツキとしてJT4いられるAu−0
u−C!d合金メッキのように危険なCdを使用しない
ため、公害対策上、作業上で安全になる。
5、 色調・組成が自由であるため、従来の高力ラット
仕上はメッキの代わりに低カラツト仕上はメッキにする
ことができ、コストが低減ばれる。
6、 9鋳に応Jflすれば、例えij;18カラツト
の金ムクの腕時計ケースが1色調拳硬度・組成(カラッ
トを含む)を満足[7た形で実現できる。
以上に示すように1本発明による金合金の製造方法は数
多(の利点・応甲を有するため、実世上極めて有甲な発
明であり、時計用外装部分等装飾部材や機卵部材に適用
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例1.2に示すメッキ液のかくはん速度
と析出A u −A g −Ou組成の関係を示すO 以上 出願人 塩尻工業株式会社 出願人 株式会社 派訪精工舎

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. それぞれアルカリ複シアンflj物からなる金・銀・銅
    メッキ浴において、金・銀で95係以上を析出する高速
    かくはん条件の合金メッキ層と、金・銅で95チ以上を
    析出する低速かくはん条件の合金メッキ層を交互にそれ
    ぞれ0.1ミクロン以上析出させ、しかるのちKP拡散
    によって金・釧・銅合金を形成したことを特徴とする金
    合金の製造方法。
JP18557282A 1982-10-22 1982-10-22 金合金の製造方法 Granted JPS5976893A (ja)

Priority Applications (1)

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JP18557282A JPS5976893A (ja) 1982-10-22 1982-10-22 金合金の製造方法

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JP18557282A JPS5976893A (ja) 1982-10-22 1982-10-22 金合金の製造方法

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JPS5976893A true JPS5976893A (ja) 1984-05-02
JPH0147558B2 JPH0147558B2 (ja) 1989-10-16

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0382788A (ja) * 1989-08-28 1991-04-08 Eagle Ind Co Ltd 多層電析層の形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0382788A (ja) * 1989-08-28 1991-04-08 Eagle Ind Co Ltd 多層電析層の形成方法

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JPH0147558B2 (ja) 1989-10-16

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