JPS5977438A - 色分解フイルタ用ゼラチンパタ−ンの形成方法 - Google Patents
色分解フイルタ用ゼラチンパタ−ンの形成方法Info
- Publication number
- JPS5977438A JPS5977438A JP57188563A JP18856382A JPS5977438A JP S5977438 A JPS5977438 A JP S5977438A JP 57188563 A JP57188563 A JP 57188563A JP 18856382 A JP18856382 A JP 18856382A JP S5977438 A JPS5977438 A JP S5977438A
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- JP
- Japan
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- light
- gelatin
- mask
- wavelength
- exposure
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/04—Chromates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明け、カラーイメージセンサ等に使用する色分解フ
ィルタ用ゼラチンパターンの形成方法に関するものであ
る。
ィルタ用ゼラチンパターンの形成方法に関するものであ
る。
従来この種の色分解フィルタの製造法としては、例えば
特公昭５２−１７３７５号公報に記載されるように次の
ような方法が広く採用されている。すカわち、ゼラチン
やポリビニルアルコールなどの水溶性樹脂に感光性を付
与した感光液をガラス等からなる基板の面上に均一に塗
布し、乾燥させて感光膜を形成した後、写真製版技術を
用いてストライブやモザイク状など所望パターンの画像
を形成し、この画像部分を所定の分光特性を有する染料
を用いて染色法等で着色する。引続き、透明な中間層を
被覆し、次いで再び感光膜を形成し、写真製版技術を用
いて所望パターンの画像を形成し、これを着色する工程
を順次繰返して所望パターンの着色画像を形成した後、
最上面に透明な保護膜を形成する。
特公昭５２−１７３７５号公報に記載されるように次の
ような方法が広く採用されている。すカわち、ゼラチン
やポリビニルアルコールなどの水溶性樹脂に感光性を付
与した感光液をガラス等からなる基板の面上に均一に塗
布し、乾燥させて感光膜を形成した後、写真製版技術を
用いてストライブやモザイク状など所望パターンの画像
を形成し、この画像部分を所定の分光特性を有する染料
を用いて染色法等で着色する。引続き、透明な中間層を
被覆し、次いで再び感光膜を形成し、写真製版技術を用
いて所望パターンの画像を形成し、これを着色する工程
を順次繰返して所望パターンの着色画像を形成した後、
最上面に透明な保護膜を形成する。
ここで、感光性を付与して染色土台とする材料としては
、感光性付与が容易なこと、塗膜性、基板への密着性、
解像度、染色性の良好なこと々どの点からゼラチンが最
も多く使用されている。事実、ゼラチン水溶液に重クロ
ム酸塩を加えて感光性を付与したものは、高圧水銀灯で
十分露光可能であり、しかも可視域に感光性を有するに
もかかわらず、現像後は可視域の吸収性は消滅し、染色
土台としてきわめて良好力特性を有している。
、感光性付与が容易なこと、塗膜性、基板への密着性、
解像度、染色性の良好なこと々どの点からゼラチンが最
も多く使用されている。事実、ゼラチン水溶液に重クロ
ム酸塩を加えて感光性を付与したものは、高圧水銀灯で
十分露光可能であり、しかも可視域に感光性を有するに
もかかわらず、現像後は可視域の吸収性は消滅し、染色
土台としてきわめて良好力特性を有している。
第１図は、ゼラチン−重クロム酸塩の分光感度を示す図
（佐々木、「重クロム酸塩の感光機構」。
（佐々木、「重クロム酸塩の感光機構」。
「日本印刷学会論文集」第１６巻第１号ｖｐｐ−１２〜
２１．１９７６年の第１８頁に記載のもの）に高圧水銀
灯の分光出力を示す図を重ねて示したもので、曲線Ａが
ゼラチン−重クロム酸塩の分光感度曲線、ｌｕｎｇがそ
れぞれ高圧水銀灯の分光出力の１線（波長３６５ｎｍ）
ｔ ｈ線（同４０５ｎｍ） 、 ｇ線（４３６ｎｍ）
を示す。図から明らかなように、ゼラチン−重クロム酸
塩感光液は可視域に感光性を有し、ｇ＃などによるバタ
ーニングが可能である。
２１．１９７６年の第１８頁に記載のもの）に高圧水銀
灯の分光出力を示す図を重ねて示したもので、曲線Ａが
ゼラチン−重クロム酸塩の分光感度曲線、ｌｕｎｇがそ
れぞれ高圧水銀灯の分光出力の１線（波長３６５ｎｍ）
ｔ ｈ線（同４０５ｎｍ） 、 ｇ線（４３６ｎｍ）
を示す。図から明らかなように、ゼラチン−重クロム酸
塩感光液は可視域に感光性を有し、ｇ＃などによるバタ
ーニングが可能である。
しかしながら、反面、このゼラチン−重クロム酸塩感光
液は、通常の露光装置において用いられる可視域から近
紫外域の光に対して低感度であるため、露光に長時間を
要し、したがって大量生産性に欠けるという重大な問題
を有していた。
液は、通常の露光装置において用いられる可視域から近
紫外域の光に対して低感度であるため、露光に長時間を
要し、したがって大量生産性に欠けるという重大な問題
を有していた。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、そ
の目的は、露光時間を大幅に短縮することが可能な色分
解フィルタ用ゼラチンパターンの形成方法を提供すると
とにある。
の目的は、露光時間を大幅に短縮することが可能な色分
解フィルタ用ゼラチンパターンの形成方法を提供すると
とにある。
このような目的を達成するために本発明は、石英基板を
有するマスクを介し、可視光よシ短波長域の光によって
露光を行なうものである。
有するマスクを介し、可視光よシ短波長域の光によって
露光を行なうものである。
第１図から明らかなように、ゼラチン−重クロム酸塩感
光液においては、その分光感度の点で可視光より短波長
域、特に３７０〜２ＱＯｎｍの紫外域力いし遠紫外域の
光を活用することが有効と考えられる。しかし、そのよ
うな短波長光を利用する場合にはマスクによる吸収が問
題となる。そこで種々検討の結果、基板材質として紫外
ないし遠紫外域の光の吸収が非常に少ない石英を用いる
ことが有効であることが明らかとなった。すなわち、石
英基板を用いたクロムもしくは低反射クロムマスクを介
して、可視光よシ短波長の４００ｎｍ以下の光、特に好
ましくは３７０〜２００ ｎｍの紫外ないし遠紫外光を
用いて基板上に塗布したゼラチン−重クロム酸塩感光膜
の露光を行なうことにより、露光時間の大幅な短縮が可
能であシ、かつ解像性に優れたパターンが得られる。光
源としては例えば第２図に示すような分光出力を有する
超高圧キセノン−水銀灯を用いることができる。
光液においては、その分光感度の点で可視光より短波長
域、特に３７０〜２ＱＯｎｍの紫外域力いし遠紫外域の
光を活用することが有効と考えられる。しかし、そのよ
うな短波長光を利用する場合にはマスクによる吸収が問
題となる。そこで種々検討の結果、基板材質として紫外
ないし遠紫外域の光の吸収が非常に少ない石英を用いる
ことが有効であることが明らかとなった。すなわち、石
英基板を用いたクロムもしくは低反射クロムマスクを介
して、可視光よシ短波長の４００ｎｍ以下の光、特に好
ましくは３７０〜２００ ｎｍの紫外ないし遠紫外光を
用いて基板上に塗布したゼラチン−重クロム酸塩感光膜
の露光を行なうことにより、露光時間の大幅な短縮が可
能であシ、かつ解像性に優れたパターンが得られる。光
源としては例えば第２図に示すような分光出力を有する
超高圧キセノン−水銀灯を用いることができる。
以下、実施例を用いて本発明の詳細な説明する。
実施例１
４０℃における粘度がそれぞれ３００，２００および１
００ｍＰであるゼラチン水溶液にそれぞれ重クロム酸ア
ンモニウムを１０ ＰＨＲ（Ｐｅｒ Ｈａｎｄｒｅ ｄ
Ｒｅｓｉｎ）加えてゼラチン感光液を調整した。これら
の各感光液をそれぞれ基板上に所定の回転数で回転塗布
し、乾燥して厚さ約１．０μｍの感光膜を得た。
００ｍＰであるゼラチン水溶液にそれぞれ重クロム酸ア
ンモニウムを１０ ＰＨＲ（Ｐｅｒ Ｈａｎｄｒｅ ｄ
Ｒｅｓｉｎ）加えてゼラチン感光液を調整した。これら
の各感光液をそれぞれ基板上に所定の回転数で回転塗布
し、乾燥して厚さ約１．０μｍの感光膜を得た。
各感光膜を、超高圧キセノン−水銀灯（５００Ｗ）を光
源とし、石英基板を用いたクロムマスクを介して波長３
７０〜２００ｎｍの光によシ近接露光（ギャップ３０μ
ｍ）した。その結果、各感光膜について適正な露光が可
能な露光時間範囲を第１表に矢印で示す。同表には、可
視光ないし近紫外光欣いた通常の高圧水銀灯による露光
装置（ミラー投射形１２５０Ｗ、ｉｌｌ ｈ線およびｇ
線を使用）により同様に露光した結果を併せて示した（
比較例１）。
源とし、石英基板を用いたクロムマスクを介して波長３
７０〜２００ｎｍの光によシ近接露光（ギャップ３０μ
ｍ）した。その結果、各感光膜について適正な露光が可
能な露光時間範囲を第１表に矢印で示す。同表には、可
視光ないし近紫外光欣いた通常の高圧水銀灯による露光
装置（ミラー投射形１２５０Ｗ、ｉｌｌ ｈ線およびｇ
線を使用）により同様に露光した結果を併せて示した（
比較例１）。
なお、露光後の現像はいずれも室温中で６０秒間行なっ
た。
た。
第 １ 表
第１表から明らかなよグに、本発明によるパターン形成
方法を用いた場合には従来法に比較して２桁以上の露光
時間の短縮が可能となった。また、抜きパターンが６μ
ｍ角、残しパターンが４μｍ角と解像性も良好で、従来
法によるものに比較して差はなかった。
方法を用いた場合には従来法に比較して２桁以上の露光
時間の短縮が可能となった。また、抜きパターンが６μ
ｍ角、残しパターンが４μｍ角と解像性も良好で、従来
法によるものに比較して差はなかった。
実施例２
６０℃における粘度がそれぞれ５１，２９および１５ｍ
Ｐのゼラチン水溶液を用い、実施例１と同様にしてそれ
ぞれ厚さ約０．６μｍの感光膜を塗布した。各感光膜を
、実施例１と同様の光源を用い、石英マスクを介してン
フトコンタクト露光した結果を第２表に示す。第１表と
同様、矢印は適正露光可能々露光時間範囲を示し、高圧
水銀灯（５００Ｗ）を用いた従来法によった結果を併せ
て示した（比較例２）。
Ｐのゼラチン水溶液を用い、実施例１と同様にしてそれ
ぞれ厚さ約０．６μｍの感光膜を塗布した。各感光膜を
、実施例１と同様の光源を用い、石英マスクを介してン
フトコンタクト露光した結果を第２表に示す。第１表と
同様、矢印は適正露光可能々露光時間範囲を示し、高圧
水銀灯（５００Ｗ）を用いた従来法によった結果を併せ
て示した（比較例２）。
第２表
（７）
第１１
第２表から明らかなように、本発明によれば、従来法に
比較して、光源出力（５００Ｗ）その他の露光条件が全
く同様の場合でも数倍以上の露光時間の鉛線が可能とが
った。また、抜きパターンで３μｍ角、残しパターンで
２μｍ角が十分に形成でき、解像性は非常に優れ、従来
法による場合に比較して何ら遜色のないものであった。
比較して、光源出力（５００Ｗ）その他の露光条件が全
く同様の場合でも数倍以上の露光時間の鉛線が可能とが
った。また、抜きパターンで３μｍ角、残しパターンで
２μｍ角が十分に形成でき、解像性は非常に優れ、従来
法による場合に比較して何ら遜色のないものであった。
以上説明したように、本発明によれば、石英マスクを介
し、可視光より短波長の光、特に３７０〜２５０ｎｍの
紫外ないし遠紫外光を用いてゼラチン−重クロム酸塩感
光液を露光することにより、解像性を損なうことなく露
光時間の大幅な短縮が可能となり、したがって大量生産
刊を大幅に向上させることができる。
し、可視光より短波長の光、特に３７０〜２５０ｎｍの
紫外ないし遠紫外光を用いてゼラチン−重クロム酸塩感
光液を露光することにより、解像性を損なうことなく露
光時間の大幅な短縮が可能となり、したがって大量生産
刊を大幅に向上させることができる。
第１図はゼラチン−重クロム酸塩の分光感度と高圧水銀
灯の分光出力を示す図、第２図は超高圧キセノン−水銀
灯の分光出力を示す図である。 代理人 葛 野 信 − （８）
灯の分光出力を示す図、第２図は超高圧キセノン−水銀
灯の分光出力を示す図である。 代理人 葛 野 信 − （８）
Claims (2)
- （１）感光性を付与したゼラチンを基板上に塗布し、マ
スクを介して露光した後、現像して所望のパターンを形
成する色分解フィルタ用ゼラチンパターンの形成方法に
おいて、感光性を付与したゼラチンとしてゼラチン−重
クロム酸塩を用い、かつマスクとして石英基板を用いた
マスクを使用するとともに可視光より短波長域の光を用
いて露光を行なうことを特徴とする色分解フィルタ用ゼ
ラチンパターンの形成方法。 - （２）可視光よシ短波長の光として３７０〜２００ｎｒ
ｙＯ波長の光を用いることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の色分解フィルタ用ゼラチンパターンの形成
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57188563A JPS5977438A (ja) | 1982-10-25 | 1982-10-25 | 色分解フイルタ用ゼラチンパタ−ンの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57188563A JPS5977438A (ja) | 1982-10-25 | 1982-10-25 | 色分解フイルタ用ゼラチンパタ−ンの形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5977438A true JPS5977438A (ja) | 1984-05-02 |
Family
ID=16225875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57188563A Pending JPS5977438A (ja) | 1982-10-25 | 1982-10-25 | 色分解フイルタ用ゼラチンパタ−ンの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5977438A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01142605A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55144243A (en) * | 1979-04-28 | 1980-11-11 | Toshiba Ceramics Co Ltd | Photomask |
| JPS5616139A (en) * | 1979-07-18 | 1981-02-16 | Toshiba Ceramics Co Ltd | Production of quartz plate for photomask |
-
1982
- 1982-10-25 JP JP57188563A patent/JPS5977438A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55144243A (en) * | 1979-04-28 | 1980-11-11 | Toshiba Ceramics Co Ltd | Photomask |
| JPS5616139A (en) * | 1979-07-18 | 1981-02-16 | Toshiba Ceramics Co Ltd | Production of quartz plate for photomask |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01142605A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法 |
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