JPS5995629U - レジスト塗布装置 - Google Patents

レジスト塗布装置

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Publication number
JPS5995629U
JPS5995629U JP19124682U JP19124682U JPS5995629U JP S5995629 U JPS5995629 U JP S5995629U JP 19124682 U JP19124682 U JP 19124682U JP 19124682 U JP19124682 U JP 19124682U JP S5995629 U JPS5995629 U JP S5995629U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
suction
resist
resist coating
envelope
Prior art date
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Pending
Application number
JP19124682U
Other languages
English (en)
Inventor
圭一 柴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP19124682U priority Critical patent/JPS5995629U/ja
Publication of JPS5995629U publication Critical patent/JPS5995629U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の装置を示す断面図、第２図は本考案の一
実施例を示す断面図、第３図は排気量調節装置の一例を
示す断面図、第４図は塗布時間とレジストの微粒体との
増加率および発生状態を示す図、第５図は排気量調節操
作を示す図である。 １・・・吸着板、３・・・駆動装置、４・・・ノズル、
６・・・外囲器、７・・・ダクト、１０・・・排気量調
節装置、１１・・・制御装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体ウェハを吸着保持して回転させる回転機構と、上
    記回転機構の半導体ウェハ保持部を取り囲み飛散物を収
    容する外囲器と、上記吸着保持されて回転される半導体
    ウェハにレジストを同心的に滴下させるレジスト供給装
    置と、上記外囲器に接続する通気路を介して上記吸着保
    持部の周囲に排気流を発生させる排気装置と、上記排気
    装置の排気量をレジスト塗布時間に合わせて変化させる
    調節装置とを備えたレジスト塗布装置。
JP19124682U 1982-12-20 1982-12-20 レジスト塗布装置 Pending JPS5995629U (ja)

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JPS5995629U true JPS5995629U (ja) 1984-06-28

Family

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JP19124682U Pending JPS5995629U (ja) 1982-12-20 1982-12-20 レジスト塗布装置

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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5612206B2 (ja) * 1973-06-08 1981-03-19
JPS5652745A (en) * 1979-10-05 1981-05-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method and apparatus for applying photosensitive resin
JPS5666044A (en) * 1979-11-05 1981-06-04 Toshiba Corp Semiconductor device
JPS5918636A (ja) * 1982-07-22 1984-01-31 Nec Corp ホトレジストの被着方法
JPS5950438B2 (ja) * 1975-03-25 1984-12-08 カワサキユコウ カブシキガイシヤ 高速油圧プレス

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPS5652745A (en) * 1979-10-05 1981-05-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method and apparatus for applying photosensitive resin
JPS5666044A (en) * 1979-11-05 1981-06-04 Toshiba Corp Semiconductor device
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