JPS5998331A - 光デイスク用基板 - Google Patents
光デイスク用基板Info
- Publication number
- JPS5998331A JPS5998331A JP58204824A JP20482483A JPS5998331A JP S5998331 A JPS5998331 A JP S5998331A JP 58204824 A JP58204824 A JP 58204824A JP 20482483 A JP20482483 A JP 20482483A JP S5998331 A JPS5998331 A JP S5998331A
- Authority
- JP
- Japan
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- layer
- cellulose acetate
- chemically strengthened
- strengthened glass
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は）１６デイスク用基板に関するもので、化学強
化ガラスなどの硬い材質を使用した光デイスク用基板に
凹するものである。
化ガラスなどの硬い材質を使用した光デイスク用基板に
凹するものである。
）＋６デイスク用の基板としては、従来、ガラス、ニル
、塩化ビニルめ酢酸ビニルとのノ（ミ重合体などが用い
らＡしている。ノー（４反にトラッキングガイドとして
ｉＭを形成する場合には、通常、塩化ビニルを主として
含むものの場合プレス法、ポリメチルメタクリレ−１−
を主として含むものの場合射出成形法が用いられる。こ
れらの場合、溝を形成した原盤の凹凸から、ニッケルな
どの硬い金型を作り。
、塩化ビニルめ酢酸ビニルとのノ（ミ重合体などが用い
らＡしている。ノー（４反にトラッキングガイドとして
ｉＭを形成する場合には、通常、塩化ビニルを主として
含むものの場合プレス法、ポリメチルメタクリレ−１−
を主として含むものの場合射出成形法が用いられる。こ
れらの場合、溝を形成した原盤の凹凸から、ニッケルな
どの硬い金型を作り。
これに加熱した有機物を押し付ける、または流し込むこ
とによって溝を複製する。しかし、このようなＩ（製が
い■能な有機物は、常温でも変形し易く、また、表面に
傷がつきやすい。
とによって溝を複製する。しかし、このようなＩ（製が
い■能な有機物は、常温でも変形し易く、また、表面に
傷がつきやすい。
機械的加圧に対して変形しにくい硬い材質と。
）１・ｖの１１ ｇＱＪが容易な材質とを貼り合わせて
用いるのが、変形や傷を防ぐのに有効とされている。し
かし、通常−これらの−材質間には熱膨張率の差がある
ので、一方の厚さを薄くしないと、温度変ず已によって
反りが起こり忠実な複製ができない。ところが、この複
製の容易な軟かい材質が薄い場合、プレス法や射出成形
法で凹凸を複写するのが円錐とされている。
用いるのが、変形や傷を防ぐのに有効とされている。し
かし、通常−これらの−材質間には熱膨張率の差がある
ので、一方の厚さを薄くしないと、温度変ず已によって
反りが起こり忠実な複製ができない。ところが、この複
製の容易な軟かい材質が薄い場合、プレス法や射出成形
法で凹凸を複写するのが円錐とされている。
発明の目的は、１−６述の欠点の無い、極めて安定で長
ノを命の光デイスク用基板を提供することにある。
ノを命の光デイスク用基板を提供することにある。
本発明の）’６デイスク用基板は次のＩＪ、１１き構造
となす。
となす。
化学強化ガラスなどで代表される硬質材ｔトより２Ｊ〕
る〃、板の１・部に＋ｐτノソが１〜ラツキング用凹凸
の平均４７＋Ｇ幅より人なる第２の有機材ｉ′１層と、
４１０１１に注入し、て成型さ］した第１の有機材料層
とが少なくとも不問層さＪ（、ろ。
る〃、板の１・部に＋ｐτノソが１〜ラツキング用凹凸
の平均４７＋Ｇ幅より人なる第２の有機材ｉ′１層と、
４１０１１に注入し、て成型さ］した第１の有機材料層
とが少なくとも不問層さＪ（、ろ。
本発明はｌｉホの（）〉に、２層の有機材料層からなる
。まず第１のイ■ｉＣ笠材料Ｍ膜を常温で有機溶剤で溶
かしたり１．ｌつるいはｌｌ（粘度の有機材料溶液を１
〜ラツキング用ｔｆ’？または孔の隅々まで行き渡らせ
、後、同化させるので溝又は孔の形状が正確か−） 、
＋！ｌ。
。まず第１のイ■ｉＣ笠材料Ｍ膜を常温で有機溶剤で溶
かしたり１．ｌつるいはｌｌ（粘度の有機材料溶液を１
〜ラツキング用ｔｆ’？または孔の隅々まで行き渡らせ
、後、同化させるので溝又は孔の形状が正確か−） 、
＋！ｌ。
実に転写される。しかも、この第１の有機材別薄ｎ笥層
１−に、子連の所定の厚さで第２の有機材Ｆ）薄膜層が
形成されているので機械的強度が保たれる。
１−に、子連の所定の厚さで第２の有機材Ｆ）薄膜層が
形成されているので機械的強度が保たれる。
また、この様になりく形成されているので基板と貼り合
わせても反り、歪、クラックなどの導入が無く高感度で
記録孔が小さいという優れた記ｔｉ特性が′Ｉ５らＩ＋
、る。
わせても反り、歪、クラックなどの導入が無く高感度で
記録孔が小さいという優れた記ｔｉ特性が′Ｉ５らＩ＋
、る。
以下実施例を用いて詳細に説明する。
第１図１８乃至１ｆは、本発明の一実施例としての光デ
イスク用基板の製造工程概略図である。
イスク用基板の製造工程概略図である。
図はいずれも基板断面図である。基板は円形で。
その中心に回転軸が通さオしる開孔が存在する例である
。
。
硬い材質の基板として厚さ］、 、 ］ ｍｍ、外径３
３０ｍｎ１．内径７０ｍｍの、イオン交換法による化学
強化ガラスを、そして軟かい有機材薄膜として厚さ０．
０５ｎ＋＋＋＋のセルロースアセテート膜を予じめ用意
した。
３０ｍｎ１．内径７０ｍｍの、イオン交換法による化学
強化ガラスを、そして軟かい有機材薄膜として厚さ０．
０５ｎ＋＋＋＋のセルロースアセテート膜を予じめ用意
した。
まずトラッキングガイＹである溝状の凹凸を持った金型
１に酢酸メチル２を流して一様に濡れさせ、セルロース
アセテートシー１へ３を貼り付けた。
１に酢酸メチル２を流して一様に濡れさせ、セルロース
アセテートシー１へ３を貼り付けた。
この時、酢酸メチルで溶解されたセルロースアセテ−Ｉ
〜が層２を形成し、同化する。次にこのセルロースアセ
テートシートの反対側の面にエポキシ系接着剤４を塗り
、上記の化学強化ガラス５を貼すイ、］Ｌづた。次に金
型１を一端から剥したところ、セルロースアセテ−１−
３は化学強化ガラス側に残り、）かを持った面が表われ
た。次にこの基板を真空蒸着装置に入れ、セルロースア
セテ−１〜層２上にＡ’５−ｔｅ−８ｅ系記録膜８を約
４．０層ｍの膜厚に蒸着した。次に該膜８の周辺の一部
をアセ１−ンｉＪ〕とで拭きとる。次にこのディスクの
蒸着膜を着けた側の内周および外周に厚さＯ，１ｍｍの
スペーサー６を貼り伺け、厚さ、内径、外径が１−記の
ものと同し保訝用化学強化ガラス７を貼すイ・１けた。
〜が層２を形成し、同化する。次にこのセルロースアセ
テートシートの反対側の面にエポキシ系接着剤４を塗り
、上記の化学強化ガラス５を貼すイ、］Ｌづた。次に金
型１を一端から剥したところ、セルロースアセテ−１−
３は化学強化ガラス側に残り、）かを持った面が表われ
た。次にこの基板を真空蒸着装置に入れ、セルロースア
セテ−１〜層２上にＡ’５−ｔｅ−８ｅ系記録膜８を約
４．０層ｍの膜厚に蒸着した。次に該膜８の周辺の一部
をアセ１−ンｉＪ〕とで拭きとる。次にこのディスクの
蒸着膜を着けた側の内周および外周に厚さＯ，１ｍｍの
スペーサー６を貼り伺け、厚さ、内径、外径が１−記の
ものと同し保訝用化学強化ガラス７を貼すイ・１けた。
この化学強化ガラスにも、対向する化学強化ガラス側の
面に何機物のシート（図示せず）を貼すイ（１け、補強
すればさＩ）によい。スペーサー６の部分には、この有
樗物シー１〜や、セルロースアセテ−１〜シートが無い
方が、接着がさらに強くなる。
面に何機物のシート（図示せず）を貼すイ（１け、補強
すればさＩ）によい。スペーサー６の部分には、この有
樗物シー１〜や、セルロースアセテ−１〜シートが無い
方が、接着がさらに強くなる。
記録や読出しのレーザ光は、透明基板である化学強化ガ
ラス５側から入射させても、保護用化学強化ガラス７
ｆｆ１１１から入射させてもよい。
ラス５側から入射させても、保護用化学強化ガラス７
ｆｆ１１１から入射させてもよい。
化学強化ガラスはいりくすることができ、強度も大きい
ので、基板用および保護用として最適である。
ので、基板用および保護用として最適である。
化学強化ガラスと、セルロースアセテ−１〜その他との
貼り合わせは、］−述の接着剤を用いる方法に限らず、
溶媒を塗布して貼り付け、固化させる方法、熱圧着、な
ど種々の方法を用いることもできる。これＬ二、−、）
いては後述する。また、」；述のセルロースアセテ−１
−以外でも、溶媒に溶けた後急速に同化するタイプの有
機物は使用可能である。
貼り合わせは、］−述の接着剤を用いる方法に限らず、
溶媒を塗布して貼り付け、固化させる方法、熱圧着、な
ど種々の方法を用いることもできる。これＬ二、−、）
いては後述する。また、」；述のセルロースアセテ−１
−以外でも、溶媒に溶けた後急速に同化するタイプの有
機物は使用可能である。
また、本発明のディスクは８１−述の様に、化学強化ガ
ラスなどの硬い材質を基板の主要に用いるので、変形し
庇、＜＜、キズがつき難＜＜、経時変化が起らない。こ
の化学強化ガラスは、イオン交換法などによって、ガラ
ス表面に半径の大きな原子。
ラスなどの硬い材質を基板の主要に用いるので、変形し
庇、＜＜、キズがつき難＜＜、経時変化が起らない。こ
の化学強化ガラスは、イオン交換法などによって、ガラ
ス表面に半径の大きな原子。
分子、イオンなどを導入し、圧縮応力を生じさせること
によって強度が高められている。
によって強度が高められている。
第２図２８乃至２ｅは１本発明の他の実施例としての光
デイスク用基板の製造工程概略図である。
デイスク用基板の製造工程概略図である。
硬い材質の基板として厚さ１１ＴＩＩＴｌ、外径３３０
ｍｍ、内径７０ｍｎ＋のドーナツ状ＰＭＭＡ板と、軟か
い有機材薄膜として濃度（溶媒と溶質の重量比）または
溶質の分子量が異なる２種類のセルロースアセテ−１〜
溶液（溶媒はシクロヘキサノン）を用意する。凹凸を持
った金型２１に、まず薄い膜を得るのに適した濃度また
は分子量のセルロースアセテ−１−溶液を、スピンナー
を用いて約１５０ｎｍの平均膜厚に塗布して乾燥させ、
第１の塗布層２２とした（２ａ）。 次に、厚い膜を得
るのに適したたとえば粘度の高いセルロースアセテート
溶液をこの］・に流しく２１＋）、上記のＰＭＭＡ仮２
５を、気泡が出ないように一端から押し付けてゆき、完
全に貼り付（ブた（ ２ ｃ： ）。第２のセルロース
アセテ−１〜層２：３が固化した後金型２１と分離した
（２ｄ）。金型２１がビデオ、音声、ディジタルなどの
情報を持ったものの場合、このようにして形成したレプ
リカの凹凸面に金属を蒸着してそのまま情報を読出すこ
とができる。金型２１が１〜ラツキングガイド用の凹凸
を持ったものの場合、このように形成したレプリカを基
板とし、この上に情報記録用部材を被着し、前述の実施
例１と同様にし、て記録可能なディスクとすることがで
きる（２ｅ）。なお２６はスペーサ、２７は保護用化学
強化ガラスである。セルロースアセテート２３のノ１さ
は、ＰＭＭΔ＋Ｆｉ２５の厚さの１／２である０−５ｍ
ｍｆ！：越すと、金型と分離後大きな反りを生じ、記録
や読出しが困難となるのでこれ以下の厚みであることが
必要である。一方、セルロースアセテート層２３の平均
の厚さが、凹凸の平均振幅である８０ｎｍ以下であると
、凹凸の底部のセルロースアセテート層の厚さが不均一
となるので、これ以−ヒの厚みが必要である。またセル
ロースアセテ−１・層２３が特に薄くなるとＰＭＭＡＪ
ｆｉ２５の貼り付けに紫外線硬化接着剤（例えば商品名
フォ゛１〜ボンド）を用いるとなおよい。
ｍｍ、内径７０ｍｎ＋のドーナツ状ＰＭＭＡ板と、軟か
い有機材薄膜として濃度（溶媒と溶質の重量比）または
溶質の分子量が異なる２種類のセルロースアセテ−１〜
溶液（溶媒はシクロヘキサノン）を用意する。凹凸を持
った金型２１に、まず薄い膜を得るのに適した濃度また
は分子量のセルロースアセテ−１−溶液を、スピンナー
を用いて約１５０ｎｍの平均膜厚に塗布して乾燥させ、
第１の塗布層２２とした（２ａ）。 次に、厚い膜を得
るのに適したたとえば粘度の高いセルロースアセテート
溶液をこの］・に流しく２１＋）、上記のＰＭＭＡ仮２
５を、気泡が出ないように一端から押し付けてゆき、完
全に貼り付（ブた（ ２ ｃ： ）。第２のセルロース
アセテ−１〜層２：３が固化した後金型２１と分離した
（２ｄ）。金型２１がビデオ、音声、ディジタルなどの
情報を持ったものの場合、このようにして形成したレプ
リカの凹凸面に金属を蒸着してそのまま情報を読出すこ
とができる。金型２１が１〜ラツキングガイド用の凹凸
を持ったものの場合、このように形成したレプリカを基
板とし、この上に情報記録用部材を被着し、前述の実施
例１と同様にし、て記録可能なディスクとすることがで
きる（２ｅ）。なお２６はスペーサ、２７は保護用化学
強化ガラスである。セルロースアセテート２３のノ１さ
は、ＰＭＭΔ＋Ｆｉ２５の厚さの１／２である０−５ｍ
ｍｆ！：越すと、金型と分離後大きな反りを生じ、記録
や読出しが困難となるのでこれ以下の厚みであることが
必要である。一方、セルロースアセテート層２３の平均
の厚さが、凹凸の平均振幅である８０ｎｍ以下であると
、凹凸の底部のセルロースアセテート層の厚さが不均一
となるので、これ以−ヒの厚みが必要である。またセル
ロースアセテ−１・層２３が特に薄くなるとＰＭＭＡＪ
ｆｉ２５の貼り付けに紫外線硬化接着剤（例えば商品名
フォ゛１〜ボンド）を用いるとなおよい。
本実施例ではセルロースアセテ−１〜を溶媒に溶かした
ものを用いたが、モノマーや低分子量のものを塗布し、
重合させるものも工程を簡略化されるのでなおよい。
ものを用いたが、モノマーや低分子量のものを塗布し、
重合させるものも工程を簡略化されるのでなおよい。
セルロースアセテート層２３の、より好ましい平均厚さ
は３００ｎｍ以」二 ２００μｍ以下の範囲である。こ
れは層２３を形成する有機薄膜層てに共通する。
は３００ｎｍ以」二 ２００μｍ以下の範囲である。こ
れは層２３を形成する有機薄膜層てに共通する。
Ｐ Ｍ ＭΔ以外に、前述の化学強化ガラスは勿論、他
に変形しにくい他の樹脂、たとえばＣＲ−３９（ボレジ
グリコールジアリルカーボネート）、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ
樹脂（アクリロニトリル・スチレン４′１１脂）などを
用いてもよい。
に変形しにくい他の樹脂、たとえばＣＲ−３９（ボレジ
グリコールジアリルカーボネート）、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ
樹脂（アクリロニトリル・スチレン４′１１脂）などを
用いてもよい。
以十詳述したように、本発明は化学強化ガラスなどの硬
質基板−１−に所定の厚さの２層の有機薄膜層を設ける
ことによって優れた光ディスクまたは光デイスク用、１
．ｌ’、 坂が賀１７）れる点工業的利益人なるもので
ある。なＡ３実施例に述べた方法の他、プレス（コンプ
レッション、エンボッシングなどとも呼ばＪしる）法な
どによって凹凸を持った右磯物層を形成することも不可
能ではない。また、本考案は、（探）剣を用いて読出し
を行なう方式のディスクにも適用可能であることは当業
者であれば容易に類推できるであろう。基板に化学強化
ガラスを用いることは、熱磁気記録ディスクの場合や磁
気ディスクの場合も有効である。
質基板−１−に所定の厚さの２層の有機薄膜層を設ける
ことによって優れた光ディスクまたは光デイスク用、１
．ｌ’、 坂が賀１７）れる点工業的利益人なるもので
ある。なＡ３実施例に述べた方法の他、プレス（コンプ
レッション、エンボッシングなどとも呼ばＪしる）法な
どによって凹凸を持った右磯物層を形成することも不可
能ではない。また、本考案は、（探）剣を用いて読出し
を行なう方式のディスクにも適用可能であることは当業
者であれば容易に類推できるであろう。基板に化学強化
ガラスを用いることは、熱磁気記録ディスクの場合や磁
気ディスクの場合も有効である。
第１図ｔＪ本発明の一実施例の製造工程イ既略図、第２
図は本発明の他の実施例の製造工程概略図である。 １・・・金型、２・第１のセルロースアセテ−１〜層、
３・・・第２のセルロースアセテート層、４・・・接着
剤層、５・・・化学強化ガラス、６・・・スペーサ、７
・・・保護用化学強化ガラス、８・・情報用記録部材（
Ａｓ第１図 （１ｄ） （１ｄ） 第２図 Ｉ （２ｄ） 国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内
図は本発明の他の実施例の製造工程概略図である。 １・・・金型、２・第１のセルロースアセテ−１〜層、
３・・・第２のセルロースアセテート層、４・・・接着
剤層、５・・・化学強化ガラス、６・・・スペーサ、７
・・・保護用化学強化ガラス、８・・情報用記録部材（
Ａｓ第１図 （１ｄ） （１ｄ） 第２図 Ｉ （２ｄ） 国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 所定の板状基板の上部に膜厚が１へランキングよう 討凹凸の平均振幅より人なる第２の有機材料層と、鋳型
に注入口で成型された第１の有機材料層とが少なくとも
１ｒ＋Ｈ層さ肛たことを特徴とする光デイスク用Ｊ、に
ｔＡ＜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58204824A JPS5998331A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 光デイスク用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58204824A JPS5998331A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 光デイスク用基板 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61258205A Division JPS62143243A (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | 光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998331A true JPS5998331A (ja) | 1984-06-06 |
| JPH031734B2 JPH031734B2 (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=16496986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58204824A Granted JPS5998331A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 光デイスク用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5998331A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4918046A (ja) * | 1972-06-08 | 1974-02-18 | ||
| JPS5423501A (en) * | 1977-07-22 | 1979-02-22 | Thomson Brandt | Method of duplicating information record disk |
| JPS54106201A (en) * | 1978-02-08 | 1979-08-21 | Toppan Printing Co Ltd | High packing density information recording carrier |
-
1983
- 1983-11-02 JP JP58204824A patent/JPS5998331A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4918046A (ja) * | 1972-06-08 | 1974-02-18 | ||
| JPS5423501A (en) * | 1977-07-22 | 1979-02-22 | Thomson Brandt | Method of duplicating information record disk |
| JPS54106201A (en) * | 1978-02-08 | 1979-08-21 | Toppan Printing Co Ltd | High packing density information recording carrier |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH031734B2 (ja) | 1991-01-11 |
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