JPS6010032B2 - カルボスチリル誘導体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカルボスチリル誘導体の製造法に関するもので
ある。

本発明のカルボスチリル誘導体は一般式 〔式中ＲＩは水素原子を示し、Ｒ２は水素原子または低
級アルキル基を示し、Ｒ３は水素原子または低級ァルカ
ノィル基を示す。

またＲ４およびＲ５は同一または異なって水素原子また
は炭素数１〜５個のアルキル基を示す。なおＲ４とＲ５
は互に結合してピベリジノ基またはモルホリ／基を形成
してもよい。但し、Ｒ４及びＲ５の一方が水素原子、他
方が水素原子または炭素数１〜５個のアルキル基を示す
場合には、Ｒ３は水素原子であってはならない。〕で表
わされる５一（２ーアミノ−１ーヒドロキシアルキル）
ーカルボスチリル誘導体であっていずれも新規化合物に
属し、６ーアドレナリン作働作用、腸管・子宮筋の弛緩
作用、降圧作用、脱コレステロール作用、抗壷れん作用
、消炎作用、冠拡張作用、免疫抑制作用、抗アレルギー
作用、抗パーキンソン氏病作用、利尿作用、肥満防止作
用、Ｐーアドレナリン遮断作用、制操作用、体重増加作
用、抗ウイルス作用おぐびヒスタミン日２受容体阻止作
用等を有し医薬品として重要である。本発明の一般式（
１）で表わされるカルボスチリル誘導体は次の方法によ
って製造される。すなわち、一般式〔式中Ｒ１，Ｒ２，
Ｒ３，Ｒ４およびＲ５は前記に同じ〕で表わされる５−
（Ｑーアミノアルカノィル）カルボスチリル誘導体に脱
水素剤を反応させて一般式（１）で表わされる５−（２
−アミノ−１−ヒドロキシアルキル）カルボスチリル誘
導体とする。

本発明の出発原料である一般式（０）化合物も新規化合
物であって、たとえば次の方法で製造される。

すなわち、公知の８ーヒドロキシー３，４ージヒドロカ
ルボスチリルまたは常法によりその８位の水酸基ァルキ
ル化またはアシル化して得られる一般式〔式中ＲＩおよ
びＲ３は前記に同じ〕で表わされるカルボスチリル議導
体を原料として、これにたとえばク００アセチルクロラ
イド、Ｑ−クロロプロピオニルヨーダイド、Ｑーフロモ
ブチリルプロマィド等の炭素数２〜４個の脂肪酸残基の
Ｑ位炭素およびカルボニル基に塩素、臭素または沃素等
のハロゲン原子の結合したＱ−ハロゲノアルカノイルハ
ラィドを、たとえば塩化アルミニウムのような公知のル
イス酸の存在下、二硫化炭素、ニトロベンゼン、エチル
エーテル、ジオキサン等の溶媒中で−１ｏｏＣないし溶
媒の沸点範囲で反応させて５−（ば−ハロアルカノイル
）力ルポスチリル誘導体を得、次にこの５一（Ｑ−ハロ
アルカノィル）カルポスチリル議導体に、たとえばアン
モニアまたはメチルアミン、ジメチルアミン、イソプロ
ピルアミン、モルホリン、ピベリジン等のアミン類を反
応させて得られる。

上記５一（Ｑーハロアルカノイル）カルボスチリル誘導
体とアミン類の反応は、等モルないし大過剰量のアミン
類を室温ないし１０００Ｃで１〜１０気圧下、一般には
、メタノール、エタノール、ジオキサンまたはベンゼン
等の溶媒中で行なわれる。

次に上記で得られる一般式 〔式中Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４およびＲ５は前記に同じ
〕で表わされる５一（Ｑ−アミノカルボニル）カルボス
チリル誘導体を還元することにより一般式（０）の化合
物が製造される。

この還元反応は、水素化還元剤を用いる還元法あるいは
接触還元法によって行なわれる。該還元反応を水素化還
元剤を用いて行なうには水素化還元剤としてたとえば水
素化ほう素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム等
が用いられ、これら水素化還元剤の使用量は一般式（Ｗ
）の化合物に対して等モルないし５倍モルとするのがよ
い。

水素化還元剤による還元反応は水、メタノール、エタノ
ール、イソプロ／ぐノール、テトラヒドロフラン、エチ
ルエーテル等の適宜の溶媒中、ｏｏＣないし溶媒の沸点
で反応させるのがよい。なお水素化アルミニウムリチウ
ムを還元剤として用いる場合はエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等の無水溶媒を用いるのがよい。また一般
式（Ｗ）の化合物を接触還元法によって還元するには、
還元触媒としてたとえば酸化白金、パラジウム黒、パラ
ジウム炭素、ラネーニッケル等の通常用いられる接触還
元用触媒が用いられる。使用される触媒の量は一般式（
Ｗ）の化合物に対し０．２〜０．３音重量とするのがよ
い。本接触還元は、水、メタノール、エタノール、ィソ
プロパノール、テトラヒドロフラン、、エチルエーテル
等の溶媒中、１〜１偽気圧の水素ふん囲気中でよくふり
まぜて反応させるのがよい。反応は一般にｏｏＣないし
溶媒の沸点範囲で行なわれる。上記還元反応において０
０Ｃないし室温程度の低温域で接触還元する場合、およ
び水素化還元剤を用いて還元する場合、３，４一位炭素
間２重結合は還元されることなく、５位のカルボニル基
のみが還元された一般式（０）のカルボスチリル誘導体
を得る。

該カルボスチリル誘導体は４ｙＣ以上の温城での接触還
元によって３，４−位炭素結合が還元されて３，４ージ
ヒド。カルボスチリル譲導体を得る。なお一般式（０）
で表わされる化合物中８位にアルコキシ基またはアシル
オキシ基を有する化合物は、たとえば水、メタノール、
エタノール、ィソプロパ／−ル等溶媒中、塩酸、臭化水
素酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の酸性また
は塩基性触媒の存在下室温ないし溶媒の沸点範囲で加水
分解されて８位にヒドロキシル基を有するカルポスチリ
ル誘導体とされる。

また逆に８位にヒドｏキシル基を有する一般式（０）の
カルボスチリル誘導体について一般式Ｒ３× （
Ｖ） 〔式中Ｒ３は低級アルキル基または低級アルカノイル基
を示し、×はハロゲン原子を示す。

〕で表わされるアルキル化剤またはアシル化剤を使用す
るか、あるいは一般式（Ｒ３′○）２Ｓ０２ （Ｗ
） 〔式中Ｒ８′は低級アルキル基を示す。

〕で表わされるアルキル化剤を使用してアルキル化また
はアシル化を行なう。これらアルキル化剤の例としては
メチルヨーダイド、エチルクロライド、ｔｅｒｔ−ブチ
ルブロマイド等の低級アルキルハライドあるいは硫酸ジ
メチル、硫酸ジェチル等が挙げられ、その他ジアゾメタ
ン等のアルキル化剤を使用することもできる。アシル化
剤としてはアセチルク。ライド、アセチルヨーダイド、
プロピオニルフロマイド、ブチリルョーダィド等が挙げ
られる。８ーヒドロキシル基のアルキル化またはアシル
化反応はアセトン、ベンゼン、トルェン、ピリジン等の
適宜の溶媒中氷袷ないし溶媒の沸点範囲で塩基性の下、
上記ァルキル化剤またはアシル化剤を８−ヒドロキシ基
を有する一般式（ロ）の化合物に対して、その等モル量
ないし３倍モル量を反応させて行なわれる。

一般式（ロ）で表わされる３，４ジヒドロカルボスチリ
ル誘導体に脱水素剤を反応させて一般式（１）で表わさ
れるカルボスチリル誘導体とすることができる。

本脱水素反応に用いられる脱水素剤としては、たとえば
クロロアニル、ジクロロジシアノ−１，４ーベンゾキノ
ン、パラジウム黒、酸化白金およびラネーニツケル等が
挙げられる。本脱水素反応はベンゼン、トルェン、キシ
レン・フエネトール、クロロベンゼン、メタノール、エ
タノ…ル、イソフ。ロ／ぐノール、ｔｅｎーブタノール
、ジオキサン、アセトンまたは水等適宜な溶媒中上記脱
水素剤の存在下室温ないし溶媒の沸点の範囲で反応させ
ることができる。一般式（１）の化合物は、要すれば医
薬として許容される酸付加塩としてもよい。

以下本発明の出発原料化合物の製造例を示す参考例およ
び本発明の実施例を示す。

参考例 １ ８−ヒドロキシーカルボスチリル５．０外こ塩化アルミ
ニウム２０夕を加えてよく混和したのち氷水袷下にクロ
ルアセチルクロラィド１０夕を徐々に加える。

４０〜４５０ Ｃで２時間加熱反応させて８ークロルア
セトキシーカルボスチリルを生成させる。

次いで７００Ｃで３時間櫨拝し袷後析出結晶を炉取し、
熱水３００の上で洗浄したのちメタノールより再結晶し
てｍｐ．２８５〜２８７０Ｃの簿黄色結晶の５−クロル
アセチル−８ーヒドロキシーカルボスチリル２．６夕を
得る。参考例 ２ 上記５−クロロアセチル−８−ヒドロキシカルボスチリ
ル１０夕をベンゼン６０の‘に懸濁し、これにモルホリ
ン９のＺを加えて加熱還流下かきまぜながら４時間反応
させる。

反応液を冷却して得られる沈澱を炉取し、これをィソプ
ロパノール６０奴に溶解させて濃塩酸を加えｐＨ２〜３
とする。得られた酸性液を氷冷して析出する析出物を炉
取し、エタノールから再結晶してｍｐ２３９〜２４１ｏ
Ｃ（分解）、白色無定形の５ーピベリジノアセチル−
８ーヒドロキシカルポスチリル塩酸塩４．２夕を得る。
参考例 ３５ーピベリジノアセチル−８ーヒドロキシカ
ルボスチリル塩酸塩１．５夕を水１００叫に溶解し、こ
れにパラジウム炭素０．５夕、パラジウム黒０．２夕を
加え常圧下水素ふん囲気中７００Ｃでふりまぜながら４
日間接触還元する。

反応終了後接触を炉去し、炉液を減圧濃縮乾固して得ら
れる残査をアセトンに加熱客解して冷却する。冷後析出
物をィソプロパノールから再結晶してｍｐ１３６〜１３
９ｏＣ（分解）、白色無定形の５−（２ピベリジノー１
−ヒドロキシエチル）一８ーヒドロキシー３．４−ジヒ
ドロカルボスチリル塩酸塩１′２水和物０．８夕を得る
。製造例 ５一（２−アミノ−１ーヒドロキシ）エチル−８ーヒド
ロキシー３，４ージヒドロカルボスチリル２．２のこク
ロロアニル２．５夕、キシレン２０机を加えて２独特間
加熱還流する。

次いで反応液を蒸留濃縮乾固して、濃縮残笹を四塩化炭
素５０の【で充分洗浄する。洗浄後残澄をメタノール３
０の‘に溶解し、塩酸ガスを導入してｐＨＩとして冷却
し、析出する結晶を炉取してメタノールから再結晶して
ｍｐ２６１〜２６〆Ｃ（分解）、無色無定形の５−（２
ーアミノ−１−ヒドロキシ）エチル−８−ヒドロキシカ
ルボスチリル塩酸塩１．５夕を得る。上記製造例に準じ
て得られる化合物の例を表−１に／示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１は水素原子を示し、Ｒ＾２は水素原子ま
   たは低級アルキル基を示し、Ｒ＾３は水素原子または低
   級アルカノイル基を示す。 またＲ＾４およびＲ＾５は同一または異なつて水素原子
   または炭素数１〜５個のアルキル基を示す。なおＲ＾４
   とＲ＾５は互に結合してピペリジノ基またはモルホリノ
   基を形成してもよい。但し、Ｒ＾４及びＲ＾５の一方が
   水素原子、他方が水素原子まは炭素数１〜５個のアルキ
   ル基を示す場合には、Ｒ＾３は水素原子であつてはなら
   ない。〕で表わされるカルボスチリル誘導体に脱水素剤
   を反応させて一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１，Ｒ＾２，Ｒ＾３，Ｒ＾４およびＲ＾５は
   前記に同じ〕で表わされる５−（２−アミノ−１−ヒド
   ロキシアルキル）−カルボスチリル誘導体とすることを
   特徴とするカルボスチリル誘導体の製造法。