JPS60106935A - 真空インタラプタの接点材料 - Google Patents
真空インタラプタの接点材料Info
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- JPS60106935A JPS60106935A JP21560783A JP21560783A JPS60106935A JP S60106935 A JPS60106935 A JP S60106935A JP 21560783 A JP21560783 A JP 21560783A JP 21560783 A JP21560783 A JP 21560783A JP S60106935 A JPS60106935 A JP S60106935A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
- H01H1/00—Contacts
- H01H1/02—Contacts characterised by the material thereof
- H01H1/0203—Contacts characterised by the material thereof specially adapted for vacuum switches
Landscapes
- High-Tension Arc-Extinguishing Switches Without Spraying Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、亀力用具窒しゃ断器、真空負荷開閉器等にお
ける真壁インタ2ブタの接点材料に係シ、特に低サージ
用真壁インタラプタの接点材料に関する。
ける真壁インタ2ブタの接点材料に係シ、特に低サージ
用真壁インタラプタの接点材料に関する。
従来技術
一般に、亀力用具璧しゃ断器等における真空インタラプ
タの接点材料としては、以下に述べる特性を備えること
が散水されている。
タの接点材料としては、以下に述べる特性を備えること
が散水されている。
[1)l!流しゃ断能力が烏いこと。
(2) 副電圧%性が優れていること。
(3)副溶着性が優れていること。
(4) 電流さい断値が小さいこと。
(5) 接触抵抗が小さいこと。
しかし、単一材料ですべての特性を満足することはでき
ず、また純金属でも勿論不可能であシ、現在では真空イ
ンタラプタの用途に応じ、他の特性を幾分犠牲にしても
特に必要とする%注を満足する材料を選択することが行
なわれている。
ず、また純金属でも勿論不可能であシ、現在では真空イ
ンタラプタの用途に応じ、他の特性を幾分犠牲にしても
特に必要とする%注を満足する材料を選択することが行
なわれている。
従来、低サージ用具をインタ2ブタの接点材料としては
、81(ビスマス)、sb(アンチモン)、pb(鉛)
等の低融点、高蒸気圧元素の1mあるいは2柚以上を含
有する銅合金、または特公餡51−12818号公報、
特公餡53−6710号公報勢V−記載されているよう
に、高融点、低蒸気圧のWC(タンゲスデンカ−バイト
)からなる基材にAg (欽)を数十1量%浴浸した焼
結合金等が知られている。
、81(ビスマス)、sb(アンチモン)、pb(鉛)
等の低融点、高蒸気圧元素の1mあるいは2柚以上を含
有する銅合金、または特公餡51−12818号公報、
特公餡53−6710号公報勢V−記載されているよう
に、高融点、低蒸気圧のWC(タンゲスデンカ−バイト
)からなる基材にAg (欽)を数十1量%浴浸した焼
結合金等が知られている。
しかし、系統の拡張による昇流、昇圧に伴りて亀流しゃ
断能力、耐電圧特性および接触抵抗等の他の特性をも高
めククさい断電流値の小さい接点材料が要求δれるよう
になりている。
断能力、耐電圧特性および接触抵抗等の他の特性をも高
めククさい断電流値の小さい接点材料が要求δれるよう
になりている。
また、真壁インタラプタの製造は、通常、高真全中(l
OPa以下)または高蒸気圧成分の蒸発を防止すべく低
臭壁中(l〜topa)で不活性ガスや還元性ガスを利
用し、各構成部拐をろうイ1接合して行なわれるもので
あるか、接点がCu−B1材からなる場合、真壁機器に
使用できるいかなるろう材でも81の融点よシ島いため
、電極棒にろう付できず、かしめ等の機緘的固着手段が
とら九ておυ、製造コストがかかる問題があシ、また接
点がAg−WC材からなる場合、ろう付接合は可能なも
のの低融点ろう材(Ag系)を使用しなければならない
ため他の構成部材とろう何工程を別にしなけれはならな
い問題があ勺、ろう何工程を一工程とするには、ろう付
温度を低下せしめるべく端板、シールド等を構成するス
テンレス鋼等の濡れ性の悪い部材の接合面へ事前のニッ
ケルメツ−#吟の処置が必要となる等の問題がある。
OPa以下)または高蒸気圧成分の蒸発を防止すべく低
臭壁中(l〜topa)で不活性ガスや還元性ガスを利
用し、各構成部拐をろうイ1接合して行なわれるもので
あるか、接点がCu−B1材からなる場合、真壁機器に
使用できるいかなるろう材でも81の融点よシ島いため
、電極棒にろう付できず、かしめ等の機緘的固着手段が
とら九ておυ、製造コストがかかる問題があシ、また接
点がAg−WC材からなる場合、ろう付接合は可能なも
のの低融点ろう材(Ag系)を使用しなければならない
ため他の構成部材とろう何工程を別にしなけれはならな
い問題があ勺、ろう何工程を一工程とするには、ろう付
温度を低下せしめるべく端板、シールド等を構成するス
テンレス鋼等の濡れ性の悪い部材の接合面へ事前のニッ
ケルメツ−#吟の処置が必要となる等の問題がある。
発明の目的
本発明は、上述した問題に鑑み、従来とS等の低さい断
電流値を有し、しかもtIL流しゃ断能力、接触抵抗、
1Tr1亀圧特性およびiJ真壁度劣化特性に優れ、か
つ他の構成部拐とろう何工程等を−にし得るt、窒イン
クシックの接点材料の提供を目的とする。
電流値を有し、しかもtIL流しゃ断能力、接触抵抗、
1Tr1亀圧特性およびiJ真壁度劣化特性に優れ、か
つ他の構成部拐とろう何工程等を−にし得るt、窒イン
クシックの接点材料の提供を目的とする。
発ψ」の構成
本発明は、上記目的を達成すべく、lO〜30体積幅の
Cr2O5と、1〜10体8を係のCrと残部Cuの焼
結合金からなるものであり、かかる焼結合金は、6.1
9〜7.69シーの比重、63〜84 H良の硬度およ
びLO〜65憾の導電率(IAC8)を示すものである
。
Cr2O5と、1〜10体8を係のCrと残部Cuの焼
結合金からなるものであり、かかる焼結合金は、6.1
9〜7.69シーの比重、63〜84 H良の硬度およ
びLO〜65憾の導電率(IAC8)を示すものである
。
実施例
以下、図面を参照してこの発明の詳細な説明する。
本発明の接点材料を製造するには、まず、325メツシ
ユ以下のCu(銅)粉と、325メツシユ以下のCr2
o5 (三酸化ニクロム)粉と、325メツシユ以下の
Cr(クロム)粉とをそれぞれ所定組成となるように一
定量(たとえば5Kf)秤量し、Cu粉、Cr2O5粉
およびCr粉を均一に混合するためトリクレシルホスフ
ァート(商品名:トリクレン〕溶媒中にてアト2イタ−
混合機にて混合を2時間行ない、しかる後にトリクレン
を回収して混合粉末とする。
ユ以下のCu(銅)粉と、325メツシユ以下のCr2
o5 (三酸化ニクロム)粉と、325メツシユ以下の
Cr(クロム)粉とをそれぞれ所定組成となるように一
定量(たとえば5Kf)秤量し、Cu粉、Cr2O5粉
およびCr粉を均一に混合するためトリクレシルホスフ
ァート(商品名:トリクレン〕溶媒中にてアト2イタ−
混合機にて混合を2時間行ない、しかる後にトリクレン
を回収して混合粉末とする。
ついで、混合粉末を直径30mの金型を用い2to′n
Ad(1,962X 10 M Pa )の圧力で型押
しして圧粉体とし、しかる後に圧粉体を露点−20℃の
Hz(水素)ガス雰囲気中において1000℃の温度で
3時間焼結する。
Ad(1,962X 10 M Pa )の圧力で型押
しして圧粉体とし、しかる後に圧粉体を露点−20℃の
Hz(水素)ガス雰囲気中において1000℃の温度で
3時間焼結する。
そして、この焼結体を直径父■の金型を用いて4 to
n/! (3,92X 10 MPa ) でコイニン
グしてから、f&に2中(10〜10 Torr =
1.338IO−1〜1.33 xlOPa ) にお
いて1000℃の温度で3時間焼結して脱ガス及び焼結
を行なう。
n/! (3,92X 10 MPa ) でコイニン
グしてから、f&に2中(10〜10 Torr =
1.338IO−1〜1.33 xlOPa ) にお
いて1000℃の温度で3時間焼結して脱ガス及び焼結
を行なう。
最後に、真空処理した焼結体を存置直径305mの金証
を用い4 toTV/l、d (3,92X 10 M
Pa )でコイニングするとDr望の接点材料が完成す
る。
を用い4 toTV/l、d (3,92X 10 M
Pa )でコイニングするとDr望の接点材料が完成す
る。
なお、焼結合金の4V性の安定化を図るためには、Cu
中にCr2O5とCrを均一に分散させることが必要で
ある。しかし、Cu 、!: Cr2O3とは相互の濡
れ注が悪く、かつ焼結体の密度を高めるためには、粒径
をできるだけ小さく(2μm以下)とするとともに、適
宜の混合機(たとえばボールミル、振動ミルまたはアト
ライター等)を用いて均一に混合することが必要である
。
中にCr2O5とCrを均一に分散させることが必要で
ある。しかし、Cu 、!: Cr2O3とは相互の濡
れ注が悪く、かつ焼結体の密度を高めるためには、粒径
をできるだけ小さく(2μm以下)とするとともに、適
宜の混合機(たとえばボールミル、振動ミルまたはアト
ライター等)を用いて均一に混合することが必要である
。
また、焼結は、各粉末の融点以下の900〜too。
℃の温度範囲にして、かり還元性界囲気が好ましく、雰
四気の露点は、焼結性に作用するので一20℃以下が必
要である。しかし、芽囲気は、還元性界囲気に限らず、
たとえば高真空中、窒素ガス中またはアルゴンガス中等
であってもよい。
四気の露点は、焼結性に作用するので一20℃以下が必
要である。しかし、芽囲気は、還元性界囲気に限らず、
たとえば高真空中、窒素ガス中またはアルゴンガス中等
であってもよい。
さらに、焼結体の気孔率は、Cr2O5およびcrの含
有量とともに増加し、両者の合計が初体積(vo 1)
qbでは9憾、40vol−憾では20憾である。この
ため、焼結体の密度を高めるべく、焼結後、冷間での鍛
造、熱間での鍛造もしくは静水圧プレス工程を施して残
存空隙を減少することが有効である。
有量とともに増加し、両者の合計が初体積(vo 1)
qbでは9憾、40vol−憾では20憾である。この
ため、焼結体の密度を高めるべく、焼結後、冷間での鍛
造、熱間での鍛造もしくは静水圧プレス工程を施して残
存空隙を減少することが有効である。
次に上述した製法によシ、Cr2O5、CrおよびCu
の組成を変えて製造された焼結合金の特注は、第1表に
示すようになった。
の組成を変えて製造された焼結合金の特注は、第1表に
示すようになった。
第 1 表 ′
なお、(:r203を40vol%以上含有せしめた鋒
金は、焼結後のコイニングによ#)側面に亀裂が生じ、
製造が困難であった。
金は、焼結後のコイニングによ#)側面に亀裂が生じ、
製造が困難であった。
また、前述した製法によシ製造されたCr2O5、cr
およびCu の焼結合金の接点材料としての特性は、以
下に述べるようになった。
およびCu の焼結合金の接点材料としての特性は、以
下に述べるようになった。
第1図は、さい断電流特性図で、横軸に(1:r203
のvol憾、縦軸にさい断電流値(6)をとシ、Crを
1〜10 vo1%、11〜15 vol %および1
6〜20 vol %としたものをそれぞれ曲線A、B
およびCで表わしである。
のvol憾、縦軸にさい断電流値(6)をとシ、Crを
1〜10 vo1%、11〜15 vol %および1
6〜20 vol %としたものをそれぞれ曲線A、B
およびCで表わしである。
同図から明らかなように、Crが1〜1Ovol憾で、
かりCr2O5か40 vol 1以上であればさい断
電流値鉱IA以下となシ、従来の接点材料と同等の性能
を有することか判る。
かりCr2O5か40 vol 1以上であればさい断
電流値鉱IA以下となシ、従来の接点材料と同等の性能
を有することか判る。
第2図は、接点tl−直径30111111の円板状に
形成した場合の亀流しゃ断特注図で、横軸にCr2O5
のvol鳴、縦軸にしゃ断を流値(KA)をとフ、Cr
を1〜10vollを含有せしめたものを直線A、Cr
を含有せしめないものを直線Bで表わしておる。
形成した場合の亀流しゃ断特注図で、横軸にCr2O5
のvol鳴、縦軸にしゃ断を流値(KA)をとフ、Cr
を1〜10vollを含有せしめたものを直線A、Cr
を含有せしめないものを直線Bで表わしておる。
したがりて、に来の接点材料からなる同径、同形状の接
点のしゃ断電流値が6〜8 KAであることを考慮すれ
tj、Crを1N10マo1%とし、かつCr2O3を
30V係以下とすることによフ、性能が2.5倍程度と
なることが判る。また、図中A、BよルCr1l l〜
10vo1%含有しているものが、含有してなrものに
比べ、しゃ断電流値が高いことが判る。
点のしゃ断電流値が6〜8 KAであることを考慮すれ
tj、Crを1N10マo1%とし、かつCr2O3を
30V係以下とすることによフ、性能が2.5倍程度と
なることが判る。また、図中A、BよルCr1l l〜
10vo1%含有しているものが、含有してなrものに
比べ、しゃ断電流値が高いことが判る。
第3図は、剛真を反省化特性図で、横軸に小電流開閉回
数的、縦軸に真空インタラプタ内の真空度(Pa)をと
!’、Cr2O5を20 vol 91A 、Crを1
Ovol優、残部CUとしたものを折れ線A 、 Cr
2O5を20 vo196 、Crt l vo1%、
残部Cuとしたものを折れ線Bで表わし、Crを含有せ
しめずCr2O2を20vo1%、残部Cuとしたもの
を折れ線Cで表わしである。
数的、縦軸に真空インタラプタ内の真空度(Pa)をと
!’、Cr2O5を20 vol 91A 、Crを1
Ovol優、残部CUとしたものを折れ線A 、 Cr
2O5を20 vo196 、Crt l vo1%、
残部Cuとしたものを折れ線Bで表わし、Crを含有せ
しめずCr2O2を20vo1%、残部Cuとしたもの
を折れ線Cで表わしである。
したがりて、Crを1〜10 vol 憾含有せしめた
場合には、小電流の開閉回数が増加したとしても真空イ
ンタ2ブタ内の真空度は然程劣化しないがCrを含有せ
しめない場合には、開閉回数の増加に伴って真空度が劣
化傾向にあることが判る。
場合には、小電流の開閉回数が増加したとしても真空イ
ンタ2ブタ内の真空度は然程劣化しないがCrを含有せ
しめない場合には、開閉回数の増加に伴って真空度が劣
化傾向にあることが判る。
このように真空度か劣化しない要因は、Crがない場合
には、亀流しゃ断時のアークによる熱エネルギーによル
、cr2o3がCrとo(@X)とに分層してペーパ2
イズされるとともに、このペーパライズされたOが結合
して02 となシ真空度を劣化せしめるものの、Orが
ある場合には、ペーパ2イズした0がこれと親和力の大
きいCrと再び結合するためであると考えられる。
には、亀流しゃ断時のアークによる熱エネルギーによル
、cr2o3がCrとo(@X)とに分層してペーパ2
イズされるとともに、このペーパライズされたOが結合
して02 となシ真空度を劣化せしめるものの、Orが
ある場合には、ペーパ2イズした0がこれと親和力の大
きいCrと再び結合するためであると考えられる。
なお、20voleIIのCr2O5と、5vollの
Crと、残部CUの焼結合金からなる電極Aと、20v
ol憾のCr2O5と残部Cuの焼結合金からなる電極
Bとの、小電流の25XlO回の開閉前後におけるx1
M回折による電極表面の構造変化は、第2表に示すよう
になった。
Crと、残部CUの焼結合金からなる電極Aと、20v
ol憾のCr2O5と残部Cuの焼結合金からなる電極
Bとの、小電流の25XlO回の開閉前後におけるx1
M回折による電極表面の構造変化は、第2表に示すよう
になった。
第2表
注) B(D小電流開閉後におけるCr2O5の回折強
度は小さく、Cr5011か多い。
度は小さく、Cr5011か多い。
したがって、電極Aの小電流開閉後においては、金l5
Crはなく、CrzO3およびCr30gが形成されて
おハCrがCr2O3に変化し、真空度の劣化を防止し
ているものと思われる。
Crはなく、CrzO3およびCr30gが形成されて
おハCrがCr2O3に変化し、真空度の劣化を防止し
ているものと思われる。
第4図は、接触抵抗特性図で、横軸にCr2O5のvo
l係、縦軸に接触抵抗(μΩ)をとり、Crを1〜1O
vo191とした場合について表わしである。
l係、縦軸に接触抵抗(μΩ)をとり、Crを1〜1O
vo191とした場合について表わしである。
したがりて、従来の接点材料(たとえばAg 35重量
係と残部WCの焼結合金)の接触抵抗値が80〜120
μΩであることを考慮すれは、Cr2O5を(資)VO
I憾以下とすることによル、接触抵抗値を105μΩ以
下にでき、通電効率をある程度向上し得ることが判る。
係と残部WCの焼結合金)の接触抵抗値が80〜120
μΩであることを考慮すれは、Cr2O5を(資)VO
I憾以下とすることによル、接触抵抗値を105μΩ以
下にでき、通電効率をある程度向上し得ることが判る。
第5図は、接点を直径30mの円板状に形成するととも
に、ギャップを8瓢とした場合の削亀圧特性図で、横軸
にCr2O3のvol係、縦軸に衝馨波(Imp、)
絶縁破壊値(KV)をとk)、Crを1〜1Ovol%
とした場合について表わしておる。
に、ギャップを8瓢とした場合の削亀圧特性図で、横軸
にCr2O3のvol係、縦軸に衝馨波(Imp、)
絶縁破壊値(KV)をとk)、Crを1〜1Ovol%
とした場合について表わしておる。
同図から明らかなように、Crが1〜1Ovol%で、
かりCr2O3が30volq6以下であれば、従来の
接点材料からなる同径、同形状の接点と同等以上の性能
を有することが判る。
かりCr2O3が30volq6以下であれば、従来の
接点材料からなる同径、同形状の接点と同等以上の性能
を有することが判る。
第6図は、側溶着特性図で、横軸にCr2O3のvol
憾、縦軸にCuO浴着力(引外し力)を100係とした
場合の浴温力比(%)をとり、Crを1〜1Ovol
憾とした場合について表わしである。
憾、縦軸にCuO浴着力(引外し力)を100係とした
場合の浴温力比(%)をとり、Crを1〜1Ovol
憾とした場合について表わしである。
したがって、Cry)’ 1〜10 vol %で、か
ッcr2(j5か5 vo1%以上であれは、鉋の溶湘
力(引外し力)の50憾以下となシ、実用上問題とはな
らないことが判る。
ッcr2(j5か5 vo1%以上であれは、鉋の溶湘
力(引外し力)の50憾以下となシ、実用上問題とはな
らないことが判る。
第7図は、接合強度特性図で、横軸にCr2O5のvo
1%、縦軸に従来のもの(CuとCu )のろう付によ
る接合強度を100憾とした場合の接合強度比(%)を
とシ、Crを1〜1Ovol%とした場合について表わ
しである。
1%、縦軸に従来のもの(CuとCu )のろう付によ
る接合強度を100憾とした場合の接合強度比(%)を
とシ、Crを1〜1Ovol%とした場合について表わ
しである。
したがって、Crが1〜10 vol qbで、かりC
r2O3が30vo1%以下であれば、従来のものの7
5優以上の接合強度が有シ、実用上問題ないことが判る
。
r2O3が30vo1%以下であれば、従来のものの7
5優以上の接合強度が有シ、実用上問題ないことが判る
。
なお、Crz05が1Ovol優未満であると、さい断
電流値が増大し、また30vol係を超えると、焼結性
か悪化して十分な機椋的強度を得ることが困難となシ、
かつ接触抵抗が大幅に上昇するもΩである。
電流値が増大し、また30vol係を超えると、焼結性
か悪化して十分な機椋的強度を得ることが困難となシ、
かつ接触抵抗が大幅に上昇するもΩである。
また、Crが1 vol 1未満では、真空度の劣化を
招来し、また10 vol To t−超えると、さい
断電流値が増加するものであり、Crの好ましい含有量
は3〜8vo1%である。
招来し、また10 vol To t−超えると、さい
断電流値が増加するものであり、Crの好ましい含有量
は3〜8vo1%である。
発明の効果
以上の如く本発ゆ」によれば、従来技術に比し以下に述
べる種々の効果を奏する。
べる種々の効果を奏する。
(1) さい断電流値をσL来のものと同等としながら
、接触抵抗特性、#4m圧特性、耐溶着性および接合強
度特性を同等もしくは同等以上とし得、特に亀流しゃ断
能力を大幅に向上することができる。
、接触抵抗特性、#4m圧特性、耐溶着性および接合強
度特性を同等もしくは同等以上とし得、特に亀流しゃ断
能力を大幅に向上することができる。
(2) 融点がCuの融点(1083℃)よシ高く、か
つ蒸気圧かに米のものよシ低いため、他の構成部材と同
一のろう月を用いて同時にろう付接合することができる
。
つ蒸気圧かに米のものよシ低いため、他の構成部材と同
一のろう月を用いて同時にろう付接合することができる
。
(3) 小電流の多数回の開閉を行なっても戸、空度が
劣化することがない。
劣化することがない。
(4)ニ米の低さい断電流値を有する接点I料Ag−W
Cに比べ材料価格が安い。
Cに比べ材料価格が安い。
(5)本発明材料を使用する真空インタラプタの製造に
おいてろう付は接合工程がVt来月材料使用する真空イ
ンタラプタに比べ単純化し、製造コストを安くできる。
おいてろう付は接合工程がVt来月材料使用する真空イ
ンタラプタに比べ単純化し、製造コストを安くできる。
図は本発明に係る接点材料の緒特性を表わすもので、第
1図はさい断電流特注因、第2図は亀流し・や断特性図
、第3図は耐真空度劣化4?性図、第4図は接触抵抗特
性図、第5図は面1亀圧特性図、第6図は耐溶着力特性
図、第7図は接合強IJj特註図である。 〉PL 手続補正書(自発) 昭和58年特許願第215807号 2、発明の名称 真空インタラプタの接点材料 3、 補正をする者 事件との関係 出願人 住友電気工業株式会社 (610)株式会社明 電 舎 4、代理人〒104 東京都中央区明石町1番29号 液済会ビル1を話03
(545)2251(代表)弁理士(6219)志賀富
士弥 5、補正の対象 図 面。 a 補正の内容 正 ト・1 Cr203 voJs
1図はさい断電流特注因、第2図は亀流し・や断特性図
、第3図は耐真空度劣化4?性図、第4図は接触抵抗特
性図、第5図は面1亀圧特性図、第6図は耐溶着力特性
図、第7図は接合強IJj特註図である。 〉PL 手続補正書(自発) 昭和58年特許願第215807号 2、発明の名称 真空インタラプタの接点材料 3、 補正をする者 事件との関係 出願人 住友電気工業株式会社 (610)株式会社明 電 舎 4、代理人〒104 東京都中央区明石町1番29号 液済会ビル1を話03
(545)2251(代表)弁理士(6219)志賀富
士弥 5、補正の対象 図 面。 a 補正の内容 正 ト・1 Cr203 voJs
Claims (1)
- +IJ 10〜30体積% (Z) Cr2O3と、l
〜lo体積優のCrと残部CuQ)焼結合金からなる真
9インタ2ブタの接点劇料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21560783A JPS60106935A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 真空インタラプタの接点材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21560783A JPS60106935A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 真空インタラプタの接点材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60106935A true JPS60106935A (ja) | 1985-06-12 |
Family
ID=16675224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21560783A Pending JPS60106935A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 真空インタラプタの接点材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60106935A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61266534A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-26 | Toshiba Ceramics Co Ltd | Al↓2O↓3−Al−Si系の複合材とその製造方法 |
| CN105506325B (zh) * | 2015-12-08 | 2017-03-22 | 东北大学 | CuCr或CuFe合金的原位合成制备方法 |
-
1983
- 1983-11-16 JP JP21560783A patent/JPS60106935A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61266534A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-26 | Toshiba Ceramics Co Ltd | Al↓2O↓3−Al−Si系の複合材とその製造方法 |
| CN105506325B (zh) * | 2015-12-08 | 2017-03-22 | 东北大学 | CuCr或CuFe合金的原位合成制备方法 |
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