JPS60109552A - β―オキソベンゼンプロパン酸アルキルの新規な置換誘導体及びそれらの製造法 - Google Patents

β―オキソベンゼンプロパン酸アルキルの新規な置換誘導体及びそれらの製造法

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JPS60109552A
JPS60109552A JP59215312A JP21531284A JPS60109552A JP S60109552 A JPS60109552 A JP S60109552A JP 59215312 A JP59215312 A JP 59215312A JP 21531284 A JP21531284 A JP 21531284A JP S60109552 A JPS60109552 A JP S60109552A
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D277/38—Nitrogen atoms
    • C07D277/44—Acylated amino or imino radicals
    • C07D277/46—Acylated amino or imino radicals by carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、β−オキソベンゼンプロパン酸アルキルの新
規な置換誘導体、それらの製造法及び２位置換３−キノ
リンカルボキサミドの先駆体の合成への使用に関する。
この２位置換３−キノリンカルボキサミドは、詳しくは
、ヨーロッパ特許第００４０５７３号に記載の次式（Ｘ
′） （ここで、Ｘは、５．６．７又は８位にあり、水素原子
、ハロゲン原子、１〜５個の炭素原子を含有する線状若
しくは分岐状アルキル基、１〜４個　。
の炭素原子を含有する線状若しくは分岐状アルコキシ基
、トリフ／１／オｙメチル基、トリフルオルメチルチオ
基又はトリフルオルメトキシ基を表わし、Ｒ１，は、水
素原子又は１〜４個の炭素原子を含有するアルキル基を
表わし、 Ｒ１２は、水紫原子或いは次の基：チアゾリル、４．５
−ジヒドロチアゾリル、ピリジニル、オキサシリル、イ
ソオキサシリル、イミダゾリル、ピリミジル、テトラゾ
リル、チェニル、ベンゾチアゾリル及びフェニルのうち
から選ばれる基（これらの基は、（ａ）ハロ夛ン、（ｂ
）アミノ、アルキルアミノ若しくはジアルキルアミノ基
（これらのアルキル基は１〜３個の炭素原子を含有する
）で置轡された若しくは非置換の１〜４個の炭素原子を
含有するアルキル基、（Ｃ）フェニル基、（ｄ）１〜４
個の炭素原子を含有するアルコキシ基、（ｅ）とドルキ
シル基、（ｆ）トリフルオルメチル基及び（ｇ）ニド四
基よりなる群から選ばれる１個又はそれ以上の基で置換
されていてもよい）を表わし、或いは Ｒ′菫とＲ／、は、−緒になってＲ′２について前記し
た飽和又は不飽和環のいずれか一つを形成し、そしてこ
の環は二重結合によって窒素原子に結合しており、 Ｒｓは、水素原子、ハロゲン原子又は１〜４個の炭素原
子を含有するアルキル基を表わし、Ｒ４は、水素原子又
はハロゲン原子を表わし、Ｒ８は、ハロゲン原子を表わ
し、ただしＲ１、Ｒ４及びＲｓはそれぞれ同時にふっ素
原子を表わさないものとし、 Ｒ・は、水素原子、１〜８個の炭素原子を含有するアル
キル基又は２〜８個の炭素原子を含有するアシル基を俵
わす〕 に相当する化合物並びそれらの酸及び塩基付加塩である
。
前記したヨーｐツバ特許は、式（Ｘ′）の化合物の取得
を可能にするいくつかの製造法を記載している。
これらの方法の一つは、次式（Ｖｌ） （ここでＸは先に示した意味を有する）の化合物に次式
（■） （ここでＲＩ！　、Ｒ４及びＲ，は先に示した意味を有
する）の酸を作用させ又は式（■）の酸の官能性誘導体
を作用させて次式（■） （ここでＸは前記の意味を有する） の化合物を得、この化合物に次式（■）（ここでＲ′！
及びＲ′２は先に示した意味を有する）の化合物を作用
させて次式（Ｘ） 式Ｓ （ここでＲ’１、Ｒ’、　、Ｒ３、Ｒ４及びＲＳ　は前
記の意味を有する） の化合物を得、この化合物をアルカリ試剤の存在下に環
化させて次式（Ｉ’Ａ） （ここでＸ　、　Ｒ’ｌ　、Ｒ’ｔ　、Ｒ３、Ｒ４及び
Ｒ，は前記の通りである） の化合物（これは、Ｒ６が水素原子を表わす式（Ｉ′）
の化合物に相当する）を得、所望ならば式（１’Ａ）の
化合物にエーテル化剤又はエステル化剤を作用させて次
式（１’Ｂ） （ここでＸ　％　Ｒ’１　、Ｒ’ｘ　、Ｒ３、Ｒ４及び
Ｒ，は前記の通りであり、Ｒ′１は水素を除いてＲ６に
ついて先に示した意味を有する） の化合物を得、所望ならば、式（１’Ａ）又は（Ｉ′Ｂ
）の化合物に酸又は塩基を作用させてその塩を形成させ
ることを特徴とする。
この“旧製造法１は、以下に示すように、完全に満足で
きるものではない。したがって、前記の式（１′）の化
合物−の新合成法がめられていた。この新合成法は新規
化合物を直接導くものであり、したがって、本発明は、
次式（Ｃ） （ここで、Ｘ　％　Ｒ’ｔ　、Ｒ’！　、Ｒｓ　、Ｒａ
及びＲ，は前記の意味を有し、Ｒは１〜８個の炭素原子
を含有するアルキル基を表わす） に相当する新規化合物を主題とする。
式（Ｃ）の化合物において、Ｒは好ましくはメチル、エ
チル、ｎ−プロピル又はイソプ田ビル基であり、Ｂ１１
は好ましくは水素原子であり、Ｒ′２は好ましくはチア
ゾ′リル基である。
さらに、本発明は、前記のような式（Ｃ）の化合物を製
造するにあたり、次式（Ａ） （ここでＸ％　Ｒ１１、Ｒ４及びＲｓは前記の意味を有
する） の化合物に塩基の存在下で次式（Ｂ） （ここでＲＳＲ’ｌ及びＲ１，は既に示した、意味を有
する） の化合物を作用させることを特徴とする式（Ｃ）の化合
物の製造法を主題とする。
本発明の方法中に用いられる塩基は、化合物（Ｂ）から
出発して次式 のモノアニオンを製造し、これを式（Ａ）の化合物に反
応させようとするものである。このような塩基の使用に
よって、式（Ｂ）の化合物においてＢ１１が水素原子で
あるときでさえも、単にモノアニオンが形成されるｐけ
である。
式（Ｂ）の化合物のモノアニオンを得るのに用いること
ができる塩基としては、好ましく゛は、水酸化アルカリ
金属、特に水酸化ナトリウムがあげられる。水素化ナト
リウム又はカリウム、アルカリ金属アルコラード、例え
ばナトリウムメチラート、カリウムブチラード又はマグ
ネシウムエチラート、或いはカラムアミド又はナトリウ
ムアミドのようなアミドもあげられる。
反応は、好ましくは、テトラヒトレアラン中で行われる
。しかしながら、酢酸エチ〃、ジオキサン、トルエン、
ジメチルホルムアミド又はこれらの溶媒の混合物も同様
に用いることができる。
特に、本発明は、用いられる塩基が水酸化ナトリウムで
あり、そしてテトラヒトレアラン中で周囲温度で行われ
ることを特徴とす□る前記のような製造法を目的とする
。　□ 反応プルセスを促進させるために２塩基当量を用いるの
が有益であろう。
また、本発明は、式（Ｃ）の化合物を酸媒体中で脱カル
ボアルコキシル反応に付して次式（Ｄ）（ここでＸ　％
　Ｒ’１　、Ｒ’ｚ　、Ｒ３％　Ｒ４及びＲ５は前記の
通りである） の化合物を得ることを特徴とする式（Ｃ）の化合物の使
用方法を目的とする。
本発明の目的であるこの使用方法の好ましい条件下にお
いては、脱カルボアルコキシル反応は、硫酸とジク四ル
酢酸との混合物の存在下に加熱することにより行われる
。また、これをトリフルオル酢酸、ぎ酸−メタンスルホ
ン酸混合物、又は酢酸−硫酸混合物の存在下に１００℃
程度の温度に加熱して行うこともできる。
式（Ｄ）の化合物は、前述した式（１′）の２位置換３
−キノリンカルボキサミドの製造中間体であるＯ アルカリ試剤の存在下で行われる式（Ｄ）の化合物の環
化、次いで場合による行うエステル化又はエーテル化は
、事実、式（Ｉ′）の化合物を導き、これはさらに塩基
の作用により塩形成することができる。このような反応
は、公告されたヨージッパ特許第００４０５７５号に記
載されている。
ヨーロッパ特許第００４０５７３号及び本発明において
それぞれ用いられ又は製造された化合物の称呼について
は、両者の差異は次の通りである。
本発明の方法で出発物質として用いられる式α）の化合
物は、ヨーロッパ特許第００４０５７３号の式（■）の
化合物である。置換基Ｒｊ　％　Ｒ４、Ｒ１及びＸの好
ましい意味はヨージッパ特許第００４０５７３号に示さ
れたものと同一である。
式（Ｂ）の化合物と反応させる成因の化合物は、ヨージ
ッパ特許第００４０５７３号で用いられる式（■）の化
合物と異なる。
式（Ｃ）の化合物の脱カルボアルコキシル反応の後に得
られる式（Ｄ）の化合物は、ヨージッパ特許第００４０
５７３号の方法の式（３）の化合物である。
本発明に従う式（Ｃ）の化合物の新製造法並びに式（Ｄ
）の化合物の製造への使用は、ヨーロッパ特許第００４
０５７３号により既に知られた方法と比較して、明確で
あることが証明されたいくつかの利点を与える。これら
の利点は、特に次のようなものである。
旧製造法においては、式（■）の化合物と式（Ｋ）の化
合物との間の反応は、強塩基の存在下に行われる。これ
は式（■）のアニオンを形成させ、次いでこれが式（■
）の化合物と反応する。
特に、このような強塩基は、ｎ−ブチルリチウムのよう
な有機リチウム又はジイソプロピルリチウムアミドのよ
うなリチウムアミドである。ところで、この種の試薬は
、高価であり、さらに注意して取り扱わねばならないと
いう不都合を与える。
事実、生成するアニオンは非常に反応性であるので、式
（■）の化合物に対するその反応は一７０℃程度の低温
で実施することによって緩和させなければならない。こ
の種の操作条件は、工業的規模にプ四セスを変換するに
は全く適していない。
さらに、Ｒ′１が水素原子である式（ＩＸ）の化合物の
場合には、次式 Ｏ のジアニオンが形成される。
したがって、このジアニオンの形成は、２当量の高価な
薬剤を必要とするので多量の塩基を要求する。したがっ
て、ｎ−ブチルリチウムのような強塩基をそれほど厄介
でなく、使用上の安全性が高く、しかも少量で使用でき
る薬剤で代替でき、かつ、非常に低温での冷却を省くこ
とができる新規な合成法を見出すことは有益であったの
である。
本発明の方法において、式（Ａ）の化合物と弐〇）の化
合物との間の反応時に用いられ、そして弐〇）の化合物
のモノアミンを取得せしめる塩基は、旧製造法で用いら
れるものよりも強くない塩基であって、しかも使用する
のにより便利で且つ安価なものである。
さらに、形成される千ノアニオンは、旧製造法で形成さ
′れるアニオンよりももっと反応性が少ない。
その結果、式（４）の化合物と式（Ｂ）の化合物との間
の反応は、非常に低い温度に冷却するとと又は反応媒体
を加熱することを要求しないことになる。
特に、冷却を省いたことは、合成の実施にあたってそれ
自体で大きな改善をなすものである（即ち、制御が容易
であり、コストが低下することなどである）。
前記のように、好ましい塩基は、テトラヒドロフラン中
で周囲温度で用いられる水酸化ナトリウムである。
ヨーｐツバ特許第００４０５７３号の方法で用いられる
強塩基性試剤と比較して、本発明の方法に従う塩基性試
剤、特に水酸化ナトリウムの使用は、ベンゾオキサジン
の２位炭素上の中間体アニオンの副反応的攻撃による次
式 の誘導体を形成させることなく、断値の化合物を導くと
いう利点を与える。
弐（ｃｌの化合物に異性化することができず、したがっ
て完全に無用な反応幅生物をなし、反応媒体から分離す
る必要のある上記の誘導体は、ヨーｐツバ特許第００４
０５７３号の強塩基性試剤が用いられる場合には著しい
割合で形成される。
本発明に従う使用方法において行われる式（Ｃ）の化合
物から式（９）の化合物への脱カルボアルコキシル反応
は、旧製造法では必要ではなかった。
しかし、この追加工程にもかかわらず、式（２）の化合
物の収率が旧製造法で得られるよりもはるかに高いこと
が見出されたことは驚くべきことである。
前述のように、式（Ｄ）の化合物は、ヨーｐツバ特許第
００４０５７３号に記載の２位置換３−キノリンカルボ
キサミドの合成における中間体である。
また、式（９）の化合物は、ベルギー特許第８９６８４
１号に記載され、そして２位の鎮上にエステル化されて
もよいとドシキシル官能基を含む他の２位置換３−キノ
リンカルボキサミドの合成中間体として同様に用いるこ
とができる。
下記の実施例は本発明を例示するものであって、それを
何ら制限しない。
７５ｃｃのテトラヒトレアランと２．７４ｆの水素化ナ
トリウムの５５％油中懸濁液とを混合し、次いで＋１４
〜１５℃で１２．８５ｆの３−（２−チアゾリルアミノ
）−３−オキソプロパン酸エチル（Ｊ、　Ａｍ、　Ｃｈ
ｅｍ、　Ｓｏｅ、　６４．２７１２．３．１９６４に記
載）と２５０ｃｃのテトラヒト１：１７ランを滴下する
。この混合物を＋５℃に冷却し、この温度で１７．８８
　ｆの２−（ジク四ルメチ／Ｉ／）−８−（トリフルオ
ルメチル）−４Ｈ−４１−ベンゾオキサジン−４−オン
（ヨーｐツバ特許第００４０５７５号の実施例１２（工
程Ａ）で製造される）と２５０ＣＣのテトラヒドロフラ
ンを加える。１５分間かきまぜた後、その溶液を、１０
０ＣＣの２ＮＨＣ１を加えた１ｔの水に注ぎ、エーテル
で抽出する。得られた有機抽出物を脱水し、減圧下に濃
縮する。得られた残留物をエーテルから再結晶し、次い
で分離し、エーテルで洗い、減圧下に乾燥する。１８０
〜１８２℃で融解する２２Ｖの所期生成物が得られた。
一工１−：脱カルベトキシル反応。、２．−、、（ジク
ｐルアセチルアミノ）−β−オキソ−Ｎ−（２−チアゾ
リル）−！Ｓ−）リア／Ｉ／オルメチルベンゼンプロパ
ンアミドの製造 ５．１ｔの工程Ａで得られた生成物と２５ｃ１１：の純
酢酸と（Ｌ５！Ｉｃｃの濃硫酸とを混合し、ガスの発生
が止むまで１００℃に４５分間加熱する。得られた溶液
にｅｏｃｃの水を加え、分離し、水洗し、減圧下に１０
０℃で乾燥した後、２１６〜２１８℃に向けて融解する
４ｆの所期化合物が得られた。
１：　２−　（ジクマルア七チルアミノ）−β−オキソ
−Ｎ−（２−チアゾリル　−３−トリフルオルメチルベ
ンゼンプロパンアミド チル）アミノ〕−−−オキソーα−〔（２−チアゾリル
アミノ）カルボニル）−３−（）リフルオルメチル）ベ
ンゼンプシパン酸エチル ２０℃で１５０２の２−ジクレルメチルー〇−トリフル
オルメチル−４Ｋ　−４１−ベンゾオキサジン−４−オ
ンと１２０１の３−（２−チアゾリルアミノ）−３−オ
キソプロパン酸エチルとｔ５ｔのテトラヒドロ７ランと
を混合し、５０分間かきまぜ、次いで２０℃に保ちなが
ら４０９の７レーク状水酸化ナトリウムを加える。この
混合物を２０℃で２時間かきまぜ続けた後、これを４．
５ｔの水と１５Ｑｃｃの濃塩酸との混合物に注ぎ、これ
を０〜＋５℃で３０分間かきまぜる。生じた結晶を分離
し、水洗し、乾燥する。２５５ｆの所期化合物が得られ
た。ｍｐ＝＋９０℃。
工程Ｂ　：　２−　Ｃジクロルアセチルアミノ）−β−
オキソーＮ−（２−チアゾリル）−３−トリフルオルメ
チルベンゼンプロパンアミド １００ｆの工程Ａで得られた生成物を１８０ＣＣのジク
０）ｖ酢酸と混合し、２０〜２５℃で溶解するまでかき
まぜ、次いで２０〜２５℃でＳ　ＣＣの濃硫酸をゆっく
りと添加する。これにより溶液Ａを得る。
１００ｃｃのジクロル酢酸と５　ＣＣの濃硫酸とを混合
し、１０７℃となし、次いで不活性ガス雰囲気下に上記
溶液Ａをゆっくりと添加する一方で１０５〜１０７℃で
３０分間かきまぜる。次いで混合物を２０℃に冷却し、
２ｔの水にゆっくりと注ぐ。
得られた懸濁液を２０℃で１８時間かきまぜ、次いで得
られた結晶を分離し、水洗し、乾燥する。
得られた所期化合物は例１で得られたものと同等である
。
プリパンアミド 工程＋：２−［（２−りｐルー１−オキソ−５−メチル
プチル）アミノ］−−−オキソーα−〔（２−チアゾリ
ルアミノ）カルボニル）−５−）リフルオルメチルベン
ゼンプ胃パン酸エチル不活性ガス雰囲気下に５．５２９
の水素化リチウムの５５％油中懸濁液と１７５ＣＣのテ
トラヒトシフランとを混合する。
２１ｂ２２ｆの３−（２−チアゾリルアミノ）−５−オ
キソプロパン酸エチルを６９０ＣＣのテトラヒトシフラ
ンに溶解してなる溶液を２０℃でゆっくりと添加し、１
０分間かきまぜた後、５４．５ｆの２−（１−りｐルー
２−メチルプレビル）−８−トリフルオルメチル−４Ｈ
−４１−ベンゾオキサジン−４−オン（ヨーロッパ特許
ｔ１ｇ　ｏｏａｏ５ｙｓ号に記載の方法により製造）を
２１０ｃｃのテトラヒトシフランに溶解してなる溶液を
２０℃でゆっくりと添加する。２０℃で５５分間かきま
ぜた後、全体を２００ｃｃの２Ｎ塩酸中に注ぎ、エニテ
ルで抽出する。エーテル相を水洗し、乾燥し、溶媒を蒸
発させる。残留物をエーテル中ですり砕き、乾燥し、４
２．５５ｆの所期化合物を得た。ｍｐ＝１６０℃。その
後、二次収量と１．、て８．２ｆの所期生成物を得た。
ｍｐ＝１６０℃。
工程Ｂ：２−（（２−りｐルー１−オキソ−３−メチル
プチル）アミノコ−β−オキソ−Ｎ−（２−チアゾリル
）−３−）リフルオルメチルベンゼンプｐパンアミド ５０．４ｆの工程人で得た生成物と２５２ＣＣの酢酸と
５．０４　ｃｃの濃硫酸とを混合する。得られた溶液を
５０分間１００℃となし、２ｔの水、次いで５００ｃｃ
のアセトンを添加し、そして２０℃で２時間３０分間か
きまぜる。さらに１Ｌの水を加えて１５分間かきまぜ、
次いで生じた結晶を分離し、乾燥する。５５１の所期化
合物が得られた。ｍｐ＝１８６℃。
工 工程Ａ：２−［（２−り四ルー１−オキソブチＡ／）ア
ミン〕−β−オキソ−α−〔（２−チアゾリルアミノ）
カルボニル）−３−）リフルオルメチルベンゼンプ胃パ
ン酸エチル 不活性ガス雰囲気下に３．８３Ｆの水素化す）　ＩＪウ
ムの５５％油中懸濁液を１００ＣＣのテトラヒドロ７ラ
ンと混合する。次いでｊ　７．９２９の３−（２−チア
ゾリルアミノ）−３−オキソプロパン酸エチルを４００
ＣＣのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を２０℃
でかきまぜながらゆっくりと添加する。得られた溶液を
２０℃で１５分間かきまぜ、次いで２４．４　ｆの２−
（１−クロルプロピル）−８−トリフルオルメチル−４
Ｈ−４１−ベンゾオキサジン−４−オン（ベルギー特許
第８９６９４１号に記載の方法によって製造）を２５０
ＣＣのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を添加す
る。得られた溶液を１ｔの水と１００ＣＣの２Ｎ塩酸と
の混合物中に注ぎ、エーテルで抽出する。エーテル相を
水洗し、乾燥し、溶媒を蒸発させる。残留物をエーテル
中ですり砕き、生じた結晶を分離し−、乾燥する。５４
．５　Ｆの所期化合物が得られた。ｍ　ｐ　＝　１７０
℃。
工程Ｂ：２−［：（２−りｐルー１−オキソブチル）ア
ミノコ−β−オキソ−Ｎ−（２−チアゾリル）−８−ト
リフルオルメチルベンゼンプロパンアミド 工程Ａで得られた生成物を１７５ｃｃの酢酸と混合し、
５．５　ＣＣの濃硫酸を添加する。この混合物を４５分
間１００℃となし、吹いで冷却し、４００ＣＣの水′と
４０ＣＣのアセトンとの混合物上に注ぐ。
１時間かきまぜた後、生じた結晶を分離し、水洗し、乾
燥する。２２．９ｆの所期化合物が得られた。
ｍｐ＝１９０℃。
工程Ａ：２−（（２−り四ルー１−オキソー４５−ジメ
チルブチル）アミノコ−β−オキソ−α−〔（２−チア
ゾリルアミノ）カルボニル）−３−トリフルオルメチル
ベンゼンプロパン酸エチル例４の工程Ａに記載の方法と
類似の方法で操作し、出発時に７７ｆの３−（２−チア
ゾリルアミノ）−６−オキソプロパン酸エチルと１１５
５９の２−（１−りｐルー２．２−ジメチルプロピル−
８−トリフルオルメチル−４Ｈ−３，１−ベンゾオキサ
ジン−４−オン（ヨーロッパ特許第００４０５７３号に
記載の方法に従って製造）を使用することによって、１
５．６９の所期化合物を得た。ｍｐ＝１８０℃。
工程Ｂ：２−（２−りｐルー１−オキソーム５−ジメチ
ルブチル）アミノコ−β−オキソ−Ｎ−（２−チアゾリ
ル）−３−トリフルオルメチルベンゼンプロパンアミド 例４の工程Ｂに記載の方法と類似の方法で操作し、出発
時に１４ｆの工程Ａで得た生成物及び７０ＣＣの酢酸と
１４ｃｃの濃硫酸との混合物を使用することによって、
９９ｆの所期化合物を得た。
ｍ　ｐ　＝　２０６℃。
第１頁の続き ■Ｉｎｔ、ＣＩ、’　識別記号　庁内整理番号／／　Ｃ
０７Ｄ　２１３／７５　７１３８−４Ｃ＠発明者　オデ
イル・ル・マルト　フランス国パリ、アブニュ・ド・ベ
ルサイユ、４２

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）　次式（Ｃ） 〔ここで、Ｘは、５．６．７又は８位にあり、水嵩原子
    、ハロゲン原子、１〜５個の炭素原子を含有する線状若
    しくは分肢状アルキル基、１〜４個の炭素原子を含有す
    る線状若しくは分肢状アルコキシ基、トリフルオルメチ
    ル基、トリフルオルメチルチオ基又はトリフルオルメト
    キシ基を表わし、Ｒ１１は、水素原子又は１〜４個の炭
    素原子を含有するアルキル基を表わし、 Ｒ１は、水紫原子或いは次の基：チアゾリル、４．５−
    ジヒドロチアゾリル、ピリジニル、オキサシリル、イソ
    オキサシリル、イミダゾリル、ピリミジル、テトラゾリ
    ル、チェニル、ベンゾチアゾリル及びフェニルのうちか
    ら選ばれる基（これらの基は、（ａ）ハロゲン、（ｂ）
    アミノ、アルキルアミノ若しくはシアルキルアミノ基（
    これらのアルキル基は１〜３個の炭素原子を含有する）
    で置換された若しくは非置換の１〜４個の炭素原子を含
    有するアルキル基、（ｃ）フェニル基、（ｄ）１〜４個
    の炭素原子を含有するアルコキシ基、（ｅ）とドルキシ
    ル基、（ｆ）トリフルオルメチル基及び（ｇ）エトｐ基
    よりなる群から選ばれる１個又はそれ以上の基で置換さ
    れていてもよい）を表わし、或いは Ｒｔ　１とＲ′２は−、−緒になってＨＩ　、について
    前記した飽和又は不飽和環のいずれか一つを形成し、そ
    してこの環は二重結合によって窒素原子に結合しており
    、 Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子又は１〜４個の炭素原
    子を含有するアルキル、基を表わし、Ｒ４は、水素原子
    又はハロゲン原子を表わし、Ｒ５は、ハロゲン原子を表
    わし、 Ｒは、１〜８個の炭素原子を含有するアルキル基を表わ
    す〕 の化合物。 （２）Ｒがメチル、エチル、ｎ−プルピル又はイソプロ
    ピル基を表わす特許請求の範囲第１項記載の式（Ｃ）の
    化合物。 （３ｊ　Ｒ’１が水素原子を表わし、Ｒ′２がチアゾリ
    ル基を表わす特許請求の範囲第１又は２項記載の式％式
    ％ （４）次式（Ｃ） 〔ここで、Ｘは、５．６．７又は８位にあり、水素原子
    、ハロゲン原子、１〜５個の炭素原子を含有する線状若
    しくは分肢状アルキル基、１〜４個の炭素原子を含有す
    る線状若しくは分岐状アルコキシ基、トリフルオルメチ
    ル基、トリフルオルメチルチオ基又はトリフルオルメト
    キシ基を表わし、ＲＩ　１は、水素原子又は１〜４個の
    炭素原子を含有するアルキル基を表わし、 ＲＩ　、は、水嵩原子或いは次の基：チアゾリル、４．
    ５−ジヒドロチアゾリル、ピリジニル、オキサシリル、
    インオキサシリル、イミダゾリル、ピリミジル、テトラ
    ゾリル、チェニル、ベンゾチアゾリル及びフェニルのう
    ちから選ばれる基（これらの基は、（ａ）ハロゲン、（
    ｂ）アミノ、アルキルアミノ若しくはジアルキルアミノ
    基に、れらのアルキル基は１〜３個の炭素原子を含有す
    る）で置換された若しくは非置換の１〜４個の炭素原子
    を含有するアルキル基、（Ｃ）フェニル基、（ｄ）　１
    〜４個の炭素原子を含有する゛アルコキシ基、（ｅ）と
    ドｕキシル基、（ｆ）トリフルオルメチル基及び（ｇ）
    ニトロ基よりなる群から選ばれる１個又はそれ以上の基
    で置換されていてもよい）を表わし、或いは Ｒ１１とＲ′２は、−緒になってＢｙ、につぃて前記し
    た飽和又は不飽和環のいずれか一つを形成し、そしてこ
    の環は二重結合によって窒素原子に結合しており、 Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子又は１〜４個の炭素原
    子を含有するアルキル基を表わし、Ｒ４は、水素原子又
    はハロゲン原子を表わし、Ｒ５は、ハロゲン原子を表わ
    し、 Ｒは、１〜８個の炭素原子を含有するアルキル基を表わ
    す〕 の化合物を製造するにあたり、次式（Ａ）（ここでＸ　
    Ｓ８８　％　Ｒ４及びＲ５は前記の意味を有する） の化合物に塩基の存在下で次式（Ｂ） （ここでＲ，Ｒ’、及びＢｌ、は既に示した意味を有す
    る） の化合物を作用させることを特徴とする式（Ｃ）の化合
    物の製造法。 （５）用いられる塩基が水酸化ナトリウムであることを
    特徴とする特許請求の範囲第４項記載の製造法。 （６）　テトラヒドロフラン中で周囲温度で行われるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の製造法。 （７）特許請求の範囲第１項記載の式（Ｃ）の化合物を
    酸媒体中で脱カルボアルコキシル反応に付して次式（Ｄ
    ） （ここでＸ、Ｒ’１、Ｒ’２　、Ｒｓ　、Ｒ４及びＲ５
    は前記の通りである） の化合物を得ることを特徴とする式（Ｃ）の化合物の使
    用方法。 （８）　脱カルボアルコキシル反応が硫酸とジクロル酢
    酸との混合物又は硫酸と酢酸との混合物の存在下で加熱
    することによって行われることを特徴とする特許請求の
    範囲第７項記載の使用方法。
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