JPS6013371A - 磁気デイスク装置 - Google Patents
磁気デイスク装置Info
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- JPS6013371A JPS6013371A JP12009883A JP12009883A JPS6013371A JP S6013371 A JPS6013371 A JP S6013371A JP 12009883 A JP12009883 A JP 12009883A JP 12009883 A JP12009883 A JP 12009883A JP S6013371 A JPS6013371 A JP S6013371A
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- Japan
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- magnetic disc
- magnetic disk
- lubricating
- film
- lubricating film
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B25/00—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus
- G11B25/04—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card
- G11B25/043—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card using rotating discs
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers
- G11B23/507—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers combined with means for reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B33/00—Constructional parts, details or accessories not provided for in the other groups of this subclass
- G11B33/14—Reducing influence of physical parameters, e.g. temperature change, moisture, dust
- G11B33/148—Reducing friction, adhesion, drag
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
+a+ 発明の技術分野
本発明は磁気ディスク装置に係り、更に詳細には該装置
内に装着された磁気ディスクの表面に被覆して成る潤滑
膜の膜厚、及び潤滑特性を、常に定常状態に維持し得る
ようにした装置構成に関するものである。
内に装着された磁気ディスクの表面に被覆して成る潤滑
膜の膜厚、及び潤滑特性を、常に定常状態に維持し得る
ようにした装置構成に関するものである。
山)技術の背景
近年、磁気ディスク装置においては、磁気ディスクの磁
性膜の薄膜化、磁気ヘッドの低浮上化等によって高記録
密度化が図られている。そして上記磁気ヘッドの低浮上
化に加えて、更に停止時においては磁気ヘッドが磁気デ
ィスク面上に接触した状態であり、回転速度の上昇と共
に該磁気ヘッドを微少に浮上させるようにした、所謂C
3S (Contact 5tart 5top)方式
の採用が進むにつれて、回転起動・停止時の接触摺動に
より磁気ヘッド及び磁気ディスク表面に摩耗、損傷等の
へソドクラッシュが発生し易くなり、これを防止する為
、磁気ディスク表面に潤滑剤を塗布するか、或いは潤滑
膜を被複するなどの特別な表面処理を施すことが一般に
行われている。
性膜の薄膜化、磁気ヘッドの低浮上化等によって高記録
密度化が図られている。そして上記磁気ヘッドの低浮上
化に加えて、更に停止時においては磁気ヘッドが磁気デ
ィスク面上に接触した状態であり、回転速度の上昇と共
に該磁気ヘッドを微少に浮上させるようにした、所謂C
3S (Contact 5tart 5top)方式
の採用が進むにつれて、回転起動・停止時の接触摺動に
より磁気ヘッド及び磁気ディスク表面に摩耗、損傷等の
へソドクラッシュが発生し易くなり、これを防止する為
、磁気ディスク表面に潤滑剤を塗布するか、或いは潤滑
膜を被複するなどの特別な表面処理を施すことが一般に
行われている。
fcl 従来技術と問題点
ところで磁気ディスク装置の高記録密度化に伴って磁気
ヘッドの低浮上化は益々重要となり、前記磁気ディスク
表面に施された潤滑膜も次第に薄膜化されて、最近にお
いては100人前後の極めて薄い潤滑耐久性の優れた潤
滑膜が要求されている。
ヘッドの低浮上化は益々重要となり、前記磁気ディスク
表面に施された潤滑膜も次第に薄膜化されて、最近にお
いては100人前後の極めて薄い潤滑耐久性の優れた潤
滑膜が要求されている。
又一方磁気ディスク装置としては、塵埃の混入に起因す
るヘッドクラッシュを防止するために、密封型に移行さ
れつつある。しかし、このような密封型磁気ディスク装
置にあっては、磁気ディスクの高速回転に伴って生ずる
空気摩1察(風損)によって密封装置内の温度が上昇す
るため、通常該内部の雰囲気を自己循環空冷方式によっ
て冷却しているが、使用条件によってはそれでもなお6
0〜70℃程度の温度」1昇は避けられず、かかる温度
上昇に起因して磁気ディスク表面に施された潤滑膜が蒸
発消失して、その潤滑特性が劣化する不都合があり、こ
のような不都合を解消し得る耐熱性の優れた潤滑膜も強
く要望されている。
るヘッドクラッシュを防止するために、密封型に移行さ
れつつある。しかし、このような密封型磁気ディスク装
置にあっては、磁気ディスクの高速回転に伴って生ずる
空気摩1察(風損)によって密封装置内の温度が上昇す
るため、通常該内部の雰囲気を自己循環空冷方式によっ
て冷却しているが、使用条件によってはそれでもなお6
0〜70℃程度の温度」1昇は避けられず、かかる温度
上昇に起因して磁気ディスク表面に施された潤滑膜が蒸
発消失して、その潤滑特性が劣化する不都合があり、こ
のような不都合を解消し得る耐熱性の優れた潤滑膜も強
く要望されている。
ちなみに、このような諸要求に対して、従来磁気ディス
ク表面に潤?r!膜を形成する場合に用いられている一
般的な潤滑剤としては、例えばパラフィン、高級アルコ
ール、高級脂肪酸、高級脂肪酸のエステル化物等の炭化
水素系の潤滑剤、或いはそれらの弗化物である例えばフ
ロロカーボン系油、5t−3t結合基から成るシリコン
系油等からなる潤滑剤、更に二硫化モリブデン、二硫化
タングステン、黒鉛、弗化黒鉛等からなる固体潤滑剤が
あり、これらは単独、又は複合の形で用いられている。
ク表面に潤?r!膜を形成する場合に用いられている一
般的な潤滑剤としては、例えばパラフィン、高級アルコ
ール、高級脂肪酸、高級脂肪酸のエステル化物等の炭化
水素系の潤滑剤、或いはそれらの弗化物である例えばフ
ロロカーボン系油、5t−3t結合基から成るシリコン
系油等からなる潤滑剤、更に二硫化モリブデン、二硫化
タングステン、黒鉛、弗化黒鉛等からなる固体潤滑剤が
あり、これらは単独、又は複合の形で用いられている。
上記潤滑剤の内、炭化水素系の潤滑剤、特に高級脂肪酸
やそのエステル化物によって形成された潤滑膜は、潤滑
特性が優れているため、潤滑耐久性の向上に優れた効果
があるが、その反面、60〜70℃の高温雰囲気中にお
いて徐々に蒸発消失して潤滑性が失われて行くといった
耐熱性が劣る欠点がある。またフロロカーボン系油やシ
リコン系油等によって形成された潤滑膜は、耐熱性では
優れた特性を有しているが、潤滑特性が劣る。更に二硫
化モリブデン等からなる固体潤滑剤は、微粉末状である
為、一般に液状又は半固体グリース状の潤滑剤と混合し
て用いられているが、該潤滑剤の粒径がミクロンオーダ
である為薄膜化が難しい。
やそのエステル化物によって形成された潤滑膜は、潤滑
特性が優れているため、潤滑耐久性の向上に優れた効果
があるが、その反面、60〜70℃の高温雰囲気中にお
いて徐々に蒸発消失して潤滑性が失われて行くといった
耐熱性が劣る欠点がある。またフロロカーボン系油やシ
リコン系油等によって形成された潤滑膜は、耐熱性では
優れた特性を有しているが、潤滑特性が劣る。更に二硫
化モリブデン等からなる固体潤滑剤は、微粉末状である
為、一般に液状又は半固体グリース状の潤滑剤と混合し
て用いられているが、該潤滑剤の粒径がミクロンオーダ
である為薄膜化が難しい。
従って、高記録密度化の為の潤滑耐久性、耐熱性に優れ
た超薄膜の潤滑膜を得ることが至難であることはもとよ
り、このような潤滑膜を被覆形成した磁気ディスクを密
封型磁気ディスク装置に用いた場合、ヘッドクラッシュ
障害は免れず、高密度記録或いは再生を行うことが困難
であった。
た超薄膜の潤滑膜を得ることが至難であることはもとよ
り、このような潤滑膜を被覆形成した磁気ディスクを密
封型磁気ディスク装置に用いた場合、ヘッドクラッシュ
障害は免れず、高密度記録或いは再生を行うことが困難
であった。
(d) 発明の目的
本発明は上記従来の実情に鑑み、蒸発する条件下にある
物質は、その物質の飽和蒸気の雰囲気中において蒸発し
ないと云う原理に基づいて、密封型磁気ディスク装置内
で回転駆動中の磁気ディスク表面の潤滑膜の蒸発消失を
抑制して、該潤滑膜を常に良好な潤滑特性を有する定常
状態に維持し得る新規な磁気ディスク装置を提供するこ
とを目的とするものである。
物質は、その物質の飽和蒸気の雰囲気中において蒸発し
ないと云う原理に基づいて、密封型磁気ディスク装置内
で回転駆動中の磁気ディスク表面の潤滑膜の蒸発消失を
抑制して、該潤滑膜を常に良好な潤滑特性を有する定常
状態に維持し得る新規な磁気ディスク装置を提供するこ
とを目的とするものである。
(e) 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、表面に潤滑膜が被覆
された磁気ディスクが、気密収容蓋体内に密封された磁
気ディスク装置構成において、上記気密収容蓋体の内壁
面に、該収容蓋体内の温度上昇によって蒸発する蒸発源
潤滑膜を付設して成ること、又上記蒸発源潤滑膜を付設
した気密収容蓋体の内壁面が粗面状、或いは多孔面状を
なしていることを特徴とする磁気ディスク装置を提供す
ることによって達成される。
された磁気ディスクが、気密収容蓋体内に密封された磁
気ディスク装置構成において、上記気密収容蓋体の内壁
面に、該収容蓋体内の温度上昇によって蒸発する蒸発源
潤滑膜を付設して成ること、又上記蒸発源潤滑膜を付設
した気密収容蓋体の内壁面が粗面状、或いは多孔面状を
なしていることを特徴とする磁気ディスク装置を提供す
ることによって達成される。
ff) 発明の実施例
以下図面を用いて本発明の一実施例について詳細に説明
する。
する。
図はかかる実施例を概念的に示す要部断面図である。図
において、1は表裏面に例えば高級脂肪酸の一種である
ステアリン酸からなる潤滑剤を用いて約100人の厚さ
に潤滑膜(図示省略)を被覆形成して成る磁気ディスク
、2は複数の磁気ディスク1が一体に支持され、かつデ
ィスク回転駆動機構5の回転軸6に装着されたハブ機構
部、3はハブ機構部2の中心通気穴、4は前記中心通気
穴3と連通して各磁気ディスク1相互間に循環雰囲気を
流出させる通気小孔であり、前記中心通気穴3の内壁面
には、各通気小孔40を覆うようにフィルタ7が添設さ
れている。又8は前記磁気ディスク1をベース部11上
に密封した気密収容蓋体であり、その内壁面9には、例
えば該内壁面9を凹凸な粗面状、或いは多孔面状に加工
処理した状態、即ち本実施例では凹凸な粗面状の内壁面
9に、例えば60〜70℃の温度で蒸気を発生ずるステ
アリン酸からなる潤滑剤を蒸着法等により被着した蒸発
源潤滑膜10が付設されている。
において、1は表裏面に例えば高級脂肪酸の一種である
ステアリン酸からなる潤滑剤を用いて約100人の厚さ
に潤滑膜(図示省略)を被覆形成して成る磁気ディスク
、2は複数の磁気ディスク1が一体に支持され、かつデ
ィスク回転駆動機構5の回転軸6に装着されたハブ機構
部、3はハブ機構部2の中心通気穴、4は前記中心通気
穴3と連通して各磁気ディスク1相互間に循環雰囲気を
流出させる通気小孔であり、前記中心通気穴3の内壁面
には、各通気小孔40を覆うようにフィルタ7が添設さ
れている。又8は前記磁気ディスク1をベース部11上
に密封した気密収容蓋体であり、その内壁面9には、例
えば該内壁面9を凹凸な粗面状、或いは多孔面状に加工
処理した状態、即ち本実施例では凹凸な粗面状の内壁面
9に、例えば60〜70℃の温度で蒸気を発生ずるステ
アリン酸からなる潤滑剤を蒸着法等により被着した蒸発
源潤滑膜10が付設されている。
尚、上記気密収容蓋体8の内壁面9を凹凸な粗面状、或
いは多孔面状にする所以は、a ?f!I剤の密着性を
高めると共に、該付着面積を広くして付着量、蒸発量を
増やす為である。又5図においては説明を簡単化するた
め、従来と構成が特に変わらない磁気ヘッド、及びヘッ
ドアクチュエータ等は省略している。
いは多孔面状にする所以は、a ?f!I剤の密着性を
高めると共に、該付着面積を広くして付着量、蒸発量を
増やす為である。又5図においては説明を簡単化するた
め、従来と構成が特に変わらない磁気ヘッド、及びヘッ
ドアクチュエータ等は省略している。
上記のように磁気ディスク装置における気密収容蓋体8
の内壁面9に蒸発源潤滑膜10を付設した構成とするこ
とにより、磁気ディスク1の高速回転により生ずる空気
摩擦(風損)によって温度上昇した熱空気流は、図中矢
印で示すように気密収容蓋体8の内壁面9に沿って循環
して該内壁面9に付設された蒸発源潤滑膜10を加熱し
、潤滑剤蒸気を発生させる。発生した潤滑剤蒸気は前記
熱空気流と共にハブ機構部2の中心通気穴3内に上下方
向より流入し、フィルタ7を通って潤滑剤等の粉塵、潤
沼剤蒸気の大粒子等を排除した清浄な潤滑剤蒸気が連通
ずる各通気小孔4より各磁気ディスク1相互間に流出し
、該磁気ディスク1を取り巻くように気密収容蓋体8内
を繰り返し循環される。此の時前記気密収容蓋体8内の
温度は60〜70℃程度になっている。
の内壁面9に蒸発源潤滑膜10を付設した構成とするこ
とにより、磁気ディスク1の高速回転により生ずる空気
摩擦(風損)によって温度上昇した熱空気流は、図中矢
印で示すように気密収容蓋体8の内壁面9に沿って循環
して該内壁面9に付設された蒸発源潤滑膜10を加熱し
、潤滑剤蒸気を発生させる。発生した潤滑剤蒸気は前記
熱空気流と共にハブ機構部2の中心通気穴3内に上下方
向より流入し、フィルタ7を通って潤滑剤等の粉塵、潤
沼剤蒸気の大粒子等を排除した清浄な潤滑剤蒸気が連通
ずる各通気小孔4より各磁気ディスク1相互間に流出し
、該磁気ディスク1を取り巻くように気密収容蓋体8内
を繰り返し循環される。此の時前記気密収容蓋体8内の
温度は60〜70℃程度になっている。
依って回転中の各磁気ディスク1表面の潤?F!i膜が
高速回転時の空気摩擦による温度上昇に起因して蒸発す
る際の蒸気圧と、該各磁気ディスク1表面の潤滑膜を取
り巻く前記循環潤滑剤蒸気の蒸気圧とが略平衡状態とな
り、前記回転中の各磁気ディスク1表面の潤滑膜が、常
に良好な潤滑特性を有する定常状態に、容易に維持すこ
とが可能となる。ちなみに、従来蒸発源潤?fk膜がな
い場合は50時間経過後のCSS操作で磁気ディスク1
の表面に擦傷などのへソドクラッシュが発生し、潤滑膜
の摩擦係数が0.45以上あったのに対して、上記のよ
うに磁気ディスク1を潤滑剤蒸気雰囲気中で高速回転し
た場合には200時間経過後であっても、磁気ヘッドの
c s s 11作でその磁気ディスク1表面に擦傷な
どのヘッドクラッシュの発生は見られず、又該磁気ディ
スク1表面の潤滑膜の摩擦係数も0.20〜0.24と
良好な潤滑性を有していた。この結果は、前者は磁気デ
ィスク1表面の潤滑膜が飛散・消失していることを、後
者は保持されていることを示している。
高速回転時の空気摩擦による温度上昇に起因して蒸発す
る際の蒸気圧と、該各磁気ディスク1表面の潤滑膜を取
り巻く前記循環潤滑剤蒸気の蒸気圧とが略平衡状態とな
り、前記回転中の各磁気ディスク1表面の潤滑膜が、常
に良好な潤滑特性を有する定常状態に、容易に維持すこ
とが可能となる。ちなみに、従来蒸発源潤?fk膜がな
い場合は50時間経過後のCSS操作で磁気ディスク1
の表面に擦傷などのへソドクラッシュが発生し、潤滑膜
の摩擦係数が0.45以上あったのに対して、上記のよ
うに磁気ディスク1を潤滑剤蒸気雰囲気中で高速回転し
た場合には200時間経過後であっても、磁気ヘッドの
c s s 11作でその磁気ディスク1表面に擦傷な
どのヘッドクラッシュの発生は見られず、又該磁気ディ
スク1表面の潤滑膜の摩擦係数も0.20〜0.24と
良好な潤滑性を有していた。この結果は、前者は磁気デ
ィスク1表面の潤滑膜が飛散・消失していることを、後
者は保持されていることを示している。
尚、以上の実施例では、前記気密収容容器7内の磁気デ
ィスク1表裏9面は勿論のこと、これ以外の機能部分に
も潤滑剤が被着されることになるが、当該n ?ik膜
は極めて薄く、装置の機能を特に損なうようなことはな
い。又気密収容着体8の内壁面9に蒸発源潤滑膜10を
付設する潤滑剤としては、磁気ディスク1の表裏面に被
覆形成した潤滑膜と同一物質であれば良く、本実施例で
説明したステアリン酸に限定されるものではない。例え
ばミリスチン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、或いはセロ
チン酸等からなる潤滑剤を用いた場合にも同様な効果i
!7られる。更に、高級脂肪族アルコール、高級脂肪酸
のエステル化物なども通用できることは勿論のこと、弗
素化系油、例えばDu Pont社語のKrytox
143ADを用いても同様の効果が認められた。
ィスク1表裏9面は勿論のこと、これ以外の機能部分に
も潤滑剤が被着されることになるが、当該n ?ik膜
は極めて薄く、装置の機能を特に損なうようなことはな
い。又気密収容着体8の内壁面9に蒸発源潤滑膜10を
付設する潤滑剤としては、磁気ディスク1の表裏面に被
覆形成した潤滑膜と同一物質であれば良く、本実施例で
説明したステアリン酸に限定されるものではない。例え
ばミリスチン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、或いはセロ
チン酸等からなる潤滑剤を用いた場合にも同様な効果i
!7られる。更に、高級脂肪族アルコール、高級脂肪酸
のエステル化物なども通用できることは勿論のこと、弗
素化系油、例えばDu Pont社語のKrytox
143ADを用いても同様の効果が認められた。
その他、前記気密収容蓋体8の内壁面9に蒸発源潤滑膜
10を被着形成する方法としては、本実施例で説明した
蒸着法(蒸気付着法)以外に刷毛塗り法、スプレー法、
浸漬法等の種々の方法によって実施できる。
10を被着形成する方法としては、本実施例で説明した
蒸着法(蒸気付着法)以外に刷毛塗り法、スプレー法、
浸漬法等の種々の方法によって実施できる。
(酌 発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明に係る磁気ディ
スク装置の構造によれば、簡単な改良構成により、密封
装置内において回転駆動中の磁気ディスクの表面を被覆
してなる潤滑膜の蒸発消失が容易に抑制され、該?rI
J沿膜の膜厚、及び?rR滑特性を常に良好な定常状態
に維持することができる優れた利点を有する。依ってこ
の種の磁気ディスク装置、特に磁気ヘッドの低浮上化、
CSS方式等を採用した密封型磁気ディスク装置などに
適用して極めて有利である。
スク装置の構造によれば、簡単な改良構成により、密封
装置内において回転駆動中の磁気ディスクの表面を被覆
してなる潤滑膜の蒸発消失が容易に抑制され、該?rI
J沿膜の膜厚、及び?rR滑特性を常に良好な定常状態
に維持することができる優れた利点を有する。依ってこ
の種の磁気ディスク装置、特に磁気ヘッドの低浮上化、
CSS方式等を採用した密封型磁気ディスク装置などに
適用して極めて有利である。
図面は本発明に係る磁気ディスク装置の一実施例を概念
的に示す要部断面図である。 図面において、■は潤滑膜が被覆された磁気ディスク、
2はハブ機構部、3は中心通気穴、4ば通気小孔、5は
回転駆動機構、6は回転軸、7はフィルタ、8は気密収
容蓋体、9ば気密収容蓋体8の内壁面、10は蒸発源潤
滑膜、11はベース部を示す。 1】
的に示す要部断面図である。 図面において、■は潤滑膜が被覆された磁気ディスク、
2はハブ機構部、3は中心通気穴、4ば通気小孔、5は
回転駆動機構、6は回転軸、7はフィルタ、8は気密収
容蓋体、9ば気密収容蓋体8の内壁面、10は蒸発源潤
滑膜、11はベース部を示す。 1】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1,1表面に潤滑膜が被覆された磁気ディスクが、気
密収容蓋体内に密封された磁気ディスク装置において、
上記気密収容蓋体の内壁面に、該収容蓋体内の温度上昇
によって蒸発する蒸発源潤滑膜を付設して成ることを特
徴とする磁気ディスク装置。 (2)上記蒸発源潤滑膜を付設する気密収容蓋体の内壁
面が粗面状であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載の磁気ディスク装置。 (3)上記蒸発源潤滑膜を付設する気密収容蓋体の内壁
面が多孔面状であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項に記載の磁気ディスク装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12009883A JPS6013371A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 磁気デイスク装置 |
| US06/618,078 US4626941A (en) | 1983-05-26 | 1984-05-22 | Method and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of a disk storage |
| EP84303511A EP0127444B1 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | Lubricant film coated magnetic disks |
| DE8484303511T DE3462190D1 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | Lubricant film coated magnetic disks |
| AU28569/84A AU548076B2 (en) | 1983-05-26 | 1984-05-24 | The mehod and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of disk storage |
| CA000455122A CA1217561A (en) | 1983-05-26 | 1984-05-25 | Method and apparatus for suppressing the evaporation of lubricant film coated on magnetic disks of disk storage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12009883A JPS6013371A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 磁気デイスク装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6013371A true JPS6013371A (ja) | 1985-01-23 |
| JPS6363996B2 JPS6363996B2 (ja) | 1988-12-09 |
Family
ID=14777860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12009883A Granted JPS6013371A (ja) | 1983-05-26 | 1983-06-30 | 磁気デイスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6013371A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5485327A (en) * | 1992-01-31 | 1996-01-16 | Nec Corporation | Magnetic memory device having a perfluro-polyether film coated on an inner surface of its housing for entrapping dust |
| US7349178B2 (en) * | 2002-10-07 | 2008-03-25 | Seagate Technology Llc | Method of removing particles from an airflow and a data storage system including the same |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02184001A (ja) * | 1989-01-11 | 1990-07-18 | Tdk Corp | 正特性サーミスタの製造方法 |
-
1983
- 1983-06-30 JP JP12009883A patent/JPS6013371A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5485327A (en) * | 1992-01-31 | 1996-01-16 | Nec Corporation | Magnetic memory device having a perfluro-polyether film coated on an inner surface of its housing for entrapping dust |
| US7349178B2 (en) * | 2002-10-07 | 2008-03-25 | Seagate Technology Llc | Method of removing particles from an airflow and a data storage system including the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6363996B2 (ja) | 1988-12-09 |
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