JPS601625A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS601625A JPS601625A JP58111269A JP11126983A JPS601625A JP S601625 A JPS601625 A JP S601625A JP 58111269 A JP58111269 A JP 58111269A JP 11126983 A JP11126983 A JP 11126983A JP S601625 A JPS601625 A JP S601625A
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- Japan
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- magnetic recording
- magnetic
- recording medium
- medium substrate
- substrate
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に関するも
のである。さらに詳しくは、磁性超微粒子を媒体基体の
表面より一定深さまで注入することにより、高密度磁気
記録が可能で高信頼性の磁気記録媒体を提供するもので
ある。
のである。さらに詳しくは、磁性超微粒子を媒体基体の
表面より一定深さまで注入することにより、高密度磁気
記録が可能で高信頼性の磁気記録媒体を提供するもので
ある。
従来例の構成とその問題点
従来より、磁気記録媒体には、大きく分けて塗布型と蒸
着型がある。
着型がある。
塗布型の磁気記録媒では、一般にFe2O3やCoを添
加したr−Fe203 等の磁性粉末をポリビニール、
ブチラール、トルエン、メチルイソブチルケトン等に混
合分散して塗料化し、媒体基体表面に4〜5μmの厚み
で塗布する方法であるか、この方法では製造が容易な半
面、磁性粉末を小さくすることに限界があり、高密度記
録用としては性能が不十分であった。
加したr−Fe203 等の磁性粉末をポリビニール、
ブチラール、トルエン、メチルイソブチルケトン等に混
合分散して塗料化し、媒体基体表面に4〜5μmの厚み
で塗布する方法であるか、この方法では製造が容易な半
面、磁性粉末を小さくすることに限界があり、高密度記
録用としては性能が不十分であった。
一方、蒸着型の磁気記録媒体では、記録密度は塗布型に
比べ良くなるが、耐久性に問題がある。
比べ良くなるが、耐久性に問題がある。
そ−こて、1000〜2000への金属を電子ビームや
スパッタ法で蒸着した」−へ、オーバーコートを行い、
さらに磁気記録媒体表面に潤滑性を与えるために滑剤を
塗布しているか、まだ十分な耐久性が得られていない現
状である。さらに、オーツく−コートや滑剤か塗布され
ているため5記録用の磁気ヘッドの磁界を和尚太きぐす
る必要かあった。
スパッタ法で蒸着した」−へ、オーバーコートを行い、
さらに磁気記録媒体表面に潤滑性を与えるために滑剤を
塗布しているか、まだ十分な耐久性が得られていない現
状である。さらに、オーツく−コートや滑剤か塗布され
ているため5記録用の磁気ヘッドの磁界を和尚太きぐす
る必要かあった。
半発明の目的
以上述べてきた従来法の欠点に鑑み、本発明の目的は、
従来の塗布法や蒸着法によらない。第3の磁気記録媒体
の製造方法を提供することにある。
従来の塗布法や蒸着法によらない。第3の磁気記録媒体
の製造方法を提供することにある。
さらに詳しくは、従来の塗布型や蒸着型の磁気記録媒体
に比べ、よシ高密度記録が可能な磁性超微粒子よりなる
磁気記録層が形成されたことを特徴とする磁気記録媒体
およびその製造方法を提供することにある。
に比べ、よシ高密度記録が可能な磁性超微粒子よりなる
磁気記録層が形成されたことを特徴とする磁気記録媒体
およびその製造方法を提供することにある。
寸だ、従来の蒸着型磁気記録媒体製造に必要であった万
一バーコートあるいは滑剤コートを必要としない磁気記
録媒体およびその製造方法を提供することにある。
一バーコートあるいは滑剤コートを必要としない磁気記
録媒体およびその製造方法を提供することにある。
発明の構成
本発明は、媒体基体中へ、所定のエネルギーでもって磁
気特性の良い磁性超微粒子を直接注入することにより、
媒体基体中の一定の深さの位置に前記超微粒子よりなる
磁気記録層を形成することを特徴とする。
気特性の良い磁性超微粒子を直接注入することにより、
媒体基体中の一定の深さの位置に前記超微粒子よりなる
磁気記録層を形成することを特徴とする。
また、媒体基体中の一定深さに磁性超微粒子層を形成す
ることにより、オーバーコートが不用となる。
ることにより、オーバーコートが不用となる。
さらにまた、前記媒体表面を反応性のプラズマで処理す
ることにより、記録媒体表面の潤滑性を向上させたり、
硬度を上げることにより耐久性を向上させたことを特徴
とする。
ることにより、記録媒体表面の潤滑性を向上させたり、
硬度を上げることにより耐久性を向上させたことを特徴
とする。
実施例の説明
第1図に示すように、例えば、円板上の媒体基体1(有
機高分子膜を用いる場合にはポリエステルやポリイミド
フィルム等、金属を用いる場合には、非磁性金属である
AQ、Cu板等)に表面よりイオン化した磁性金属原子
あるいは磁性金属酸化物分子ビーム2を一定の加速電圧
でもって全面に注入する。
機高分子膜を用いる場合にはポリエステルやポリイミド
フィルム等、金属を用いる場合には、非磁性金属である
AQ、Cu板等)に表面よりイオン化した磁性金属原子
あるいは磁性金属酸化物分子ビーム2を一定の加速電圧
でもって全面に注入する。
例えば、媒体基体1の表面よりo、iμmの深さにFe
、Ni、Cr、Coや希土類金属等の磁性金属超微粒子
の磁気記録層3を形成するためには、各金属原子をイオ
ン化し、加速電圧100KV程度で媒体基体1表面より
原子数で1o18ヤcnffi程度、注入してやれば良
い。このときできる磁気記録媒体4の断面構造を第2図
に示す。なお、磁気記@層3は前記金属の酸化物であっ
てもよい。
、Ni、Cr、Coや希土類金属等の磁性金属超微粒子
の磁気記録層3を形成するためには、各金属原子をイオ
ン化し、加速電圧100KV程度で媒体基体1表面より
原子数で1o18ヤcnffi程度、注入してやれば良
い。このときできる磁気記録媒体4の断面構造を第2図
に示す。なお、磁気記@層3は前記金属の酸化物であっ
てもよい。
さらに、磁気記録層3を、異る材質の磁性金属による2
層構造とする場合には、材質により加速電圧を変えてお
けばよい。例えば、磁気記録層3を、Co−Cr層とN
i−Fe層の2層構造とする場合には、Co、Crを第
1の加速電圧で注入し、さらにN1とFe を第1より
高め第2の加速電圧で注入することによシ、第3図に示
すような断面構造?得ることができる。すなわち、Co
−Cr1蓄5を媒体基体1の表面に近い部分に、さらに
、Ni−Fe層6をその下部に形成した磁気記録媒体を
製1告することができる。
層構造とする場合には、材質により加速電圧を変えてお
けばよい。例えば、磁気記録層3を、Co−Cr層とN
i−Fe層の2層構造とする場合には、Co、Crを第
1の加速電圧で注入し、さらにN1とFe を第1より
高め第2の加速電圧で注入することによシ、第3図に示
すような断面構造?得ることができる。すなわち、Co
−Cr1蓄5を媒体基体1の表面に近い部分に、さらに
、Ni−Fe層6をその下部に形成した磁気記録媒体を
製1告することができる。
一力、より高密度記録を実現するためには、」二連の如
く媒体基体3中へ磁性金属イオンを注入する際、さらに
、媒体基体裏面より磁場を印加しておくことにより、磁
化容易軸をそろえる。すなわち、注入され、た磁性金属
微粒子の磁気モーメントを一定に配向させることが可能
である。例えば、第4図に示すように、磁気モーメント
7を媒体基体面に対し垂直に配向させる場合には、媒体
基体裏面より垂直成分の優勢な磁場8を媒体基体表面に
対し略垂直に印加しておけばよい。
く媒体基体3中へ磁性金属イオンを注入する際、さらに
、媒体基体裏面より磁場を印加しておくことにより、磁
化容易軸をそろえる。すなわち、注入され、た磁性金属
微粒子の磁気モーメントを一定に配向させることが可能
である。例えば、第4図に示すように、磁気モーメント
7を媒体基体面に対し垂直に配向させる場合には、媒体
基体裏面より垂直成分の優勢な磁場8を媒体基体表面に
対し略垂直に印加しておけばよい。
さらに、磁気モーメントの方向を交互に変えたい場合に
は、前記磁場として交流磁石9を用い、媒体基体の送り
(第4図中、矢印Bにて記載〕に同期させて磁場を変え
ながらイオン注入を行ってやれば良b0 さらに一方、磁気記録層を均一に製造するためには、イ
オノビームをランダムに走査してやれば良いが、さらに
より均一に行うためには、媒体基体が円板状の場合には
、イオン注入時、媒体基体を回転させておけば(第1図
矢印Aにて記S)、注入むらを極限捷で低くすることが
できる。寸だ、媒体基体がテープ状であれば、第4図の
ごとく送り方向に対して垂直にイオンビームを走査して
やればよい。
は、前記磁場として交流磁石9を用い、媒体基体の送り
(第4図中、矢印Bにて記載〕に同期させて磁場を変え
ながらイオン注入を行ってやれば良b0 さらに一方、磁気記録層を均一に製造するためには、イ
オノビームをランダムに走査してやれば良いが、さらに
より均一に行うためには、媒体基体が円板状の場合には
、イオン注入時、媒体基体を回転させておけば(第1図
矢印Aにて記S)、注入むらを極限捷で低くすることが
できる。寸だ、媒体基体がテープ状であれば、第4図の
ごとく送り方向に対して垂直にイオンビームを走査して
やればよい。
なお、磁界を印加するだめの電磁石内部に冷却水を通し
ておけば、媒体基体の昇温も防止することができる。
ておけば、媒体基体の昇温も防止することができる。
以上に述べてきた製造方法によると、製造された磁気記
録媒体表面は、媒体基体が露出しているだけなので、従
来のようなオーバーコートは必要とし々いが、さらに、
表面の滑化および耐摩耗性を向上させるためには次の方
法がある。
録媒体表面は、媒体基体が露出しているだけなので、従
来のようなオーバーコートは必要とし々いが、さらに、
表面の滑化および耐摩耗性を向上させるためには次の方
法がある。
例えば、媒体基体として、有機高分子物質(ポリエステ
ル、ポリイミドフィルム等〕を用いる場合、表面をフッ
素を含むガス(CF4ate )中でプラズマ処理する
ことにより、媒体基体表面を有機フッ素化合物に変化さ
せることができる。すなわち、有機7ノ素化合物は、テ
フロン(米、デュポン社商標〕でも良く知られているよ
うに、摩擦係数が小さく耐摩耗性が高いので信頼性全大
幅に向」−できる。なお、この有機フッ素化層は、媒体
基体表面が直接フッ素化されたものであるため、はぐり
することもない。例えば、媒体基体としてポリエステル
フィルムを用い、真空度0.36〜0.4torrて、
反応ガスとして四弗化炭素(CF4)ガス全流入し、2
0Wの高周波電界をかけ、プラズマ化してるガス雰囲気
中で5分間程度処理した場合の媒体基体表面のSIMS
(2次イオン質量分析)による分析結果を第5図a、b
に示す。
ル、ポリイミドフィルム等〕を用いる場合、表面をフッ
素を含むガス(CF4ate )中でプラズマ処理する
ことにより、媒体基体表面を有機フッ素化合物に変化さ
せることができる。すなわち、有機7ノ素化合物は、テ
フロン(米、デュポン社商標〕でも良く知られているよ
うに、摩擦係数が小さく耐摩耗性が高いので信頼性全大
幅に向」−できる。なお、この有機フッ素化層は、媒体
基体表面が直接フッ素化されたものであるため、はぐり
することもない。例えば、媒体基体としてポリエステル
フィルムを用い、真空度0.36〜0.4torrて、
反応ガスとして四弗化炭素(CF4)ガス全流入し、2
0Wの高周波電界をかけ、プラズマ化してるガス雰囲気
中で5分間程度処理した場合の媒体基体表面のSIMS
(2次イオン質量分析)による分析結果を第5図a、b
に示す。
第5図において縦方向は各分子の相対濃度、横方向に各
分子量を示す。第5図aはプラズマ処理を行なわなかっ
たものであシ、同すはプラズマ処理を行ったものである
。
分子量を示す。第5図aはプラズマ処理を行なわなかっ
たものであシ、同すはプラズマ処理を行ったものである
。
第5図から明らかな様に、同aでは分子量19(すなわ
ちフッ素:F)及び分子量31(すなわちフッ化カーボ
ン:CF)の位置で相対濃度(カーボン二〇に対する濃
度)がほぼゼロであるが、同すでは分子量19 、31
の位置での相対濃度が存在することがわかる。この様に
、プラズマ処理を行ったものでは、CFの結合が存在し
ていることが明らかである。
ちフッ素:F)及び分子量31(すなわちフッ化カーボ
ン:CF)の位置で相対濃度(カーボン二〇に対する濃
度)がほぼゼロであるが、同すでは分子量19 、31
の位置での相対濃度が存在することがわかる。この様に
、プラズマ処理を行ったものでは、CFの結合が存在し
ていることが明らかである。
このことは、プラズマ処理により、媒体基体表面の炭化
水素の結合が切断され、フッ素ラジカルと再結合するた
めにおこるものと考えられる。
水素の結合が切断され、フッ素ラジカルと再結合するた
めにおこるものと考えられる。
一方、媒体基体として非磁性金属、例えば、八2やCu
を用いる場合には、表面全02あるいはN2ガスプラズ
マ処理することによシ、An 203. Afi N
。
を用いる場合には、表面全02あるいはN2ガスプラズ
マ処理することによシ、An 203. Afi N
。
Cu O、Cu 3N 2等の膜を形成することができ
、耐摩耗性の向上および酸化防止効果も得られる。
、耐摩耗性の向上および酸化防止効果も得られる。
なお、これらのプラズマ処理は、磁気記録層形成の前あ
るいは後で行っても同じ効果が得られる。
るいは後で行っても同じ効果が得られる。
発明の効果
本発明により、
■ 磁気記録層が、高密度磁気記録に適した磁気特性の
良い磁性超微粒子で形成された磁気記録媒体を提供でき
る。
良い磁性超微粒子で形成された磁気記録媒体を提供でき
る。
■ 磁性層の磁気モーメントが媒体基体表面に垂直に並
んだ垂直磁気記録用の高密度磁気記録媒体を提供できる
。
んだ垂直磁気記録用の高密度磁気記録媒体を提供できる
。
■ オーバーコート−や潤滑剤コートが不要で、ばくり
のない高信頼性磁気記録媒体を提供できる。
のない高信頼性磁気記録媒体を提供できる。
■ なお、本発明では希土類金属のような高価な磁性材
料を用いる場合にも、材料ロスが極めて少ないため、高
性能の一気記録媒体を低コストで提供できる。
料を用いる場合にも、材料ロスが極めて少ないため、高
性能の一気記録媒体を低コストで提供できる。
第1図は本発明の詳細な説明するだめの概略図、第2図
は本発明の方法により製造した磁気記録媒体の断面図、
第3図は本発明の方法によシ↓造した磁気記録媒体で磁
気記録層を2層とした例の断面図、第4図は本発明の磁
気記録層の磁化容易軸の磁気記録媒体で表面を滑化処理
しない場合とした場合のSIMSによる分析データを示
す図である。 1・・・・媒体基体、2・・・・イオン化したビーム、
3・・・・・磁気記録層、4・・・・・磁気記録媒体、
5・・・・Co −Cr層、6・・・・・・Ni−Fe
層、8・・・・・・磁場。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 第3図 第4図 第5図 =8子量 一扮子量 特許庁長官殿 ■事件の表示 昭和58年特許願第111269号 2発明の名称 磁気記録媒体およびその製造方法 3補正をする者 事件との関係 特 許 出 願 人 住 所 大阪府門真市太字門真1006番地名 称 (
582)松下電器産業株式会社代表者 山 下 俊 彦 4代理人 〒571 住 所 大阪府門真市太字門真1006番地松下電器産
業株式会社内 6補正の対象 の内容 細書10ページ20行目の「得られる。」の後に次の文
を追加します。 「づらにまた、媒体基体としてガラス、PMMA。 ポリカーボネート等の透明基体を用いることにより、光
、磁気記録媒体として用いることが可能である。なお、
この場合、例えばcd28.6−V Yb C07f、4等のような組成を高精度に制御する必要が
ある光・磁気記録媒体の製造方法には本発明は、特に適
した方法である。」
は本発明の方法により製造した磁気記録媒体の断面図、
第3図は本発明の方法によシ↓造した磁気記録媒体で磁
気記録層を2層とした例の断面図、第4図は本発明の磁
気記録層の磁化容易軸の磁気記録媒体で表面を滑化処理
しない場合とした場合のSIMSによる分析データを示
す図である。 1・・・・媒体基体、2・・・・イオン化したビーム、
3・・・・・磁気記録層、4・・・・・磁気記録媒体、
5・・・・Co −Cr層、6・・・・・・Ni−Fe
層、8・・・・・・磁場。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 第3図 第4図 第5図 =8子量 一扮子量 特許庁長官殿 ■事件の表示 昭和58年特許願第111269号 2発明の名称 磁気記録媒体およびその製造方法 3補正をする者 事件との関係 特 許 出 願 人 住 所 大阪府門真市太字門真1006番地名 称 (
582)松下電器産業株式会社代表者 山 下 俊 彦 4代理人 〒571 住 所 大阪府門真市太字門真1006番地松下電器産
業株式会社内 6補正の対象 の内容 細書10ページ20行目の「得られる。」の後に次の文
を追加します。 「づらにまた、媒体基体としてガラス、PMMA。 ポリカーボネート等の透明基体を用いることにより、光
、磁気記録媒体として用いることが可能である。なお、
この場合、例えばcd28.6−V Yb C07f、4等のような組成を高精度に制御する必要が
ある光・磁気記録媒体の製造方法には本発明は、特に適
した方法である。」
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)媒体基体の表面から所定の深さの位置に磁性超微
粒子層が注入形成されていることを特徴とした磁気記録
媒体。 (2)超微粒子1−が、異る材質で多層構造となってい
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気記
録媒体。 (3)媒体基体面に垂直な方向に超微粒子の磁化容易軸
が向いていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の磁気記録媒体。 (4)超微粒子の桐材が、Fe、I’Ji、Co、Cr
あるいはこれらの酸化物を主成分とするものよシなるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒
体。 (6)媒体基体が、非磁性金属あるいは有機高分子物質
でできており、形状が円板状あるいはテープ状であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒
体。 (6)媒体基体の表面から所定の深さの位置に、所定の
エネルギーを用いて磁性超微粒子を注入して磁気記録層
を形成することを特徴とした磁気記録媒体の製造方法。 (7) 磁性金属あるいはその酸化物全イオン化し、さ
らにイオン化状態で電界により加速して媒体基体内に注
入することにより、磁性超微粒子層を形成して磁気記録
層とすることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の
磁気記録媒体の製造方法。 (8)注入時に、媒体基体の注入方向とは反対面から前
記媒体基体表面に略垂直に優勢な磁場を加えておき、注
入された磁性超微粒子の磁化容易軸を前記媒体基体面と
垂直に配向させることを特徴とする特許請求の範囲第6
項記載の磁気記録媒体の製造方法。 (9)媒体基体表面を反応性プラズマで処理し、表面硬
度全向上させたり、あるいは滑化することを特徴とする
特許請求の範囲第6項記載の磁気記録媒体の製造方法。 (10)媒体基体が金属よりなり酸素あるいは窒素ガス
プラズマで処理することにより、前記媒体基体表面に酸
化物層あるいは窒化物層を形成することを特徴とする特
許請求の範囲第9項記載の磁気記録媒体の製造方法。 (11)媒体基体が有機高分子よりなり、フッ素を含む
ガス中でプラズマ処理することを特徴とする特許請求の
範囲第9項記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58111269A JPS601625A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| US07/021,594 US4751100A (en) | 1983-06-20 | 1987-03-02 | Magnetic recording medium and method for making the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58111269A JPS601625A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS601625A true JPS601625A (ja) | 1985-01-07 |
| JPH028371B2 JPH028371B2 (ja) | 1990-02-23 |
Family
ID=14556924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58111269A Granted JPS601625A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS601625A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013535094A (ja) * | 2010-05-28 | 2013-09-09 | インスティテュート オブ ジオロジカル アンド ニュークリア サイエンシズ リミティド | 磁性ナノクラスター |
-
1983
- 1983-06-20 JP JP58111269A patent/JPS601625A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013535094A (ja) * | 2010-05-28 | 2013-09-09 | インスティテュート オブ ジオロジカル アンド ニュークリア サイエンシズ リミティド | 磁性ナノクラスター |
| EP2577686A4 (en) * | 2010-05-28 | 2017-12-06 | Institute Of Geological And Nuclear Sciences Limited | Magnetic nanoclusters |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH028371B2 (ja) | 1990-02-23 |
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