JPS6016967A - 3,3′−ジアミノジフエニルスルホンの製造方法 - Google Patents

3,3′−ジアミノジフエニルスルホンの製造方法

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JPS6016967A
JPS6016967A JP12482883A JP12482883A JPS6016967A JP S6016967 A JPS6016967 A JP S6016967A JP 12482883 A JP12482883 A JP 12482883A JP 12482883 A JP12482883 A JP 12482883A JP S6016967 A JPS6016967 A JP S6016967A
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JP
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diaminodiphenylsulfone
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formic acid
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palladium
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Teruhiro Yamaguchi
彰宏 山口
Keisaburo Yamaguchi
桂三郎 山口
Kenichi Sugimoto
賢一 杉本
Yoshimitsu Tanabe
良満 田辺
Saburo Kawashima
川島 三郎
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はろ、3′−ジアミノジフェニルスルホンの新規
な製造方法に関するものであり、特に工業的に実施する
うえで極めて有利な方法を提供するものである。
さらに詳しくは、一般式(1) (式中、Xは水素原子または塩素原子を示し、Yは塩素
原子を示し、4−位または6−位である)で表わされる
ジフェニルスルポン化合物をパラジウム触媒の存在下に
、ギ酸またはギ酸塩で還元し脱塩素化させることを特徴
とする3、3′−ジアミノジフェニルスルホンの製造方
法に関する。
5.3′−ジアミノジフェニルスルホンは、面]熱性高
分子単量体、農医薬および染料中間体等に有用であり、
特に耐熱性ポリアミド、ポリイミド樹脂の原料となる重
要な物質である。
3I3′−ジアミノジフェニルスルポンは、従来、3.
3’−ジニトロジフェニルスルポンを1!元して製造す
る方法が公知である( N、 P、G献yら。
An〃、 maAaemJ Qムm、 、 49(1)
 135(1976)、正置ら、特開昭56−2515
0号、N、 R,A、yynnyr、+ら。
S→I、J cvm、wnLct−tLtyyy、64
0 (1981)、にσ蛎麺ら、 0%、 158.4
69 ; OJLemA4J+、 、 8416955
J((1976))。
この方法では、原料となる6、6′−ジニトロジフェニ
ルスルホンはジフェニルスルホン化合物によりニトロ化
して製)査する方法(’ 0. A、 しdLeA、ら
2.■。
Cjcg、 34m、、迭 2(S2(19ろ9 ) 
、 J、 T、atyuyLz 、BdP。
S6C,0&y+、、351436−50(1924)
; Ckm。
1、&ja、、 19980 )か、ジフェニルスルフ
ィドを発煙硝1酸により、酸fヒと同時にニトロ化して
製造する方法(13aj!& Q#yccaら、Ga1
a、 Qbyr) 工hJ−,。
76 115−19(1946);Ckm、A励、、4
07153(1946)、)がある。
また、ベンゼンを無水硫j竣の存在下でニトロ化した場
合の副生物として単離している方法〔毘A 、Iamn
ら、BLJ−〜’αJ去〜Aンd、 T、J 、 13
5763(1964); Ohm、A’3Ja−、,7
334962z(1970)〕カアリ、さらには、ニト
ロベンゼンをスルホン化してm、−二トロベンゼンスル
ホン酸を製造する際の副生物として単離している方法(
Hapto、nvyn ラT4. KBm、、 K綴、
T、eMyuy−1,、178=9 (1969) ;
CI−on、 AILsL−0,733,496,2m
(1970) ]が知られている。
しかしながら、3,6′−ジニトロジフェニルスルホン
ヲシフェニルスルホンならびニジフェニルスルフィドか
ら製造する方法では、ニトロ化により得られる反応生成
物が異性体等を含む混合物でアルタめに、ろ、3′−ジ
ニトロジフェニルスルホンを単離するためには多量の溶
剤な使用し、再結晶精製を繰り返し行なわなければなら
ない。
このため、収率は大d〕に低下し、また、精製に用いた
浴剤の回収および残渣の処理、ニトロfヒに使用した多
量の廃酸の処理等の煩雑な工程を必要とする等の欠点が
ある。
一方、無水硫酸中でのベンゼンの二)O化ならびにニト
ロベンゼンのスルホン化により、副生物としてろ、6′
−ジニトロジフェニルスルホンヲ得ル場合、収率は低く
、かつそれ自身が主目的として製造されていないために
、供給た問題があり、さらに、需要の増大に対して必要
量の確保ができないという欠点がある。
本発明者らは、上記のような欠点のない3.3’−ジア
ミノジフェニルスルホンの製造方法について鋭意検討し
た。
その結果、農医薬原料、染料中間体として既に工業的に
ムく利用されている一般式(1)で表わされるクロロ置
換ジアミノジフェニルスルホンヲ原料とし、それらをパ
ラジウム触媒の存在下に、ギ酸またはギ酸塩で還元し、
脱塩素化させればいずれモ高収率で6,3′−ジアミノ
ジフェニルスルホンを製造しうることを見出し本発明の
方法を完成した。
すなわち、本発明の方法は一般式(I)■ l−12N N H2 (式中、Xは水素原子または塩素壓子を示し、Yは塩素
原子を示し、4−位または6−位である)で表わされる
ジフェニルスルホン化合物をパラジウム触媒の存在下に
、ギ酸またはギ酸塩で還元し脱塩素化させることを特徴
とする3、3′−ジアミノジフェニルスルホンの製造方
法である。
本発明の方法で使用される原料は、前記一般式(1)で
表わされるクロル置換したシアEζ悶ホンであって、対
応するジニトロ化合物の歯元反応によって製造できるこ
とは公知である〔例えば、13mmLら、 zJL、 
p−uJJ l(Gm、 (L木憎−) 452704
−10(1972) ; 34m、 kpm、 、 7
88ろ962z(197ろ)、〜V、F、 f(αd、
ら、J、 09. Ckm、 、27338(1962
))。
クロル置換ジアミノジフェニルスルポンとして具体的に
は、例えば、6,5′−ジアミノ−4−クロロジンエニ
ルスルホン、3%l’−ジアミノ−6−クロロジフェニ
ルスルホン、3.3’−ジアミノ−4,4′−ジクロロ
ジフェニルスルホン、5.5’−ジアミノ−4,6’−
ジクロロジフェニルスルホンカアケラレる。
本発明の方法で使用されるパラジウム触媒は、金属の状
態で使用することが出来るが、通常は担体表面に付着さ
せて用いる。例えば、パラジウム−活性炭、パラジウム
−アルミナ、パラジウムブランク等が挙げられる。触媒
の使用量は、原料のクロル置換ジアミノジフェニルスル
ホンに対シテ0.01〜10重畦係の範囲である。
本発明の方法で[吏用されるギ酸またはギ酸塩:・ま水
溶液どして用いられる。またギ酸塩は、ギ酸すトリウム
やギ酸カリウム等のギ酸アルカリ塩、およびギ酸アンモ
ニウムである。
これらのギ酸またはギ酸塩は原料に対して理論的な必要
な量の少過剰で使用するが、15〜10倍量の範囲であ
っても差支えない。
この反応では、通常、反応溶媒を使用する。反応溶媒と
しては、反応に不活性なものであれば特に限定されるも
のでなく、通常、水と混和する溶媒が使用される。例え
ば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレング
リコール等のグリコール類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、メチルセロソルブ等のエーテル類およびN、 
N’−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性浴媒などが
挙げられる。
溶媒の使用量は原料を懸濁させるが、あるで・は完全に
溶解させるに足る量で七分であり、科に限定はないが、
通常、原料に対して05〜10重量倍で十分である。
反応温度は特に限定はないが、通常3o〜11C1℃の
範囲で行われる。
本発明の実施に際しては、一般に、原料を浴剤に溶解ま
たは@濁した状態下にギ酸またはギ[酸塩の水溶液と触
媒を加え、ついで撹拌下所定の温度で反応を行う。
いずれの場合も反応は円滑に進行して目的物の6.3′
−ジアミノジフェニルスルホンが製造できる。
反応の進行は薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマ
トグラフィーに」:り追跡できる。
上記の方法によって得られた反応液を熱口過して触媒を
除いたのち、冷却するか、または水に排出してろ、3′
−ジアミノジフェニルスルホンを結晶として析出させる
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
実施例1 6.6′−ジアミノ−4,4′−ジクロロジフェニルス
ルホン9.5 fl (0,03モル)、5%パラジウ
ム/活性炭(日本エンゲルハルト社)o、sg、86係
ギ酸43gおよびN、 N−ジメチルポルムアミド20
m1を50〜60℃で16時間攪拌した。同温度で触媒
をP別し、r液を水50m1に排出し、淡褐色の6.3
′−ジアミノジフェニルスルホンの沈’/IIを得た。
収量68g(収率92%)、融点170〜171℃。
エタノールから再結晶して微褐色プリズム結晶の純品を
得た。融点1725〜176℃。
元素分析 OHN S 計算値(%) 58.0 4.9 11.3 12.9
測定値(4) 58.3 4,4 11,0 12.1
実施例2 6.3′−ジアミノ−4I6′−ジクロロジフェニルス
ルホン9.5 jj (0,03モル)、5%パラジウ
ム/アルミナ(日本エンゲルハルト社)0.4,9.ギ
酸ナトリウム6、8 !j、水2gおよびメチルセロソ
ルブ20m1!を80〜90℃で9時間攪拌した。
70℃まで冷却したのち触媒をr別し、r液を室温まで
放冷すると6,6′−ジアミノジフェニルスルホンが淡
褐色結晶として析出した。結晶を沢別、水洗した後乾燥
した。
収量65g(収率88係)、融点170〜172℃。
実施例3 0.6′−ジアミノ−4−クロロジフェニルスルホ75
.6jj(0,2モル)、パラジウムプラック0、4 
g、ギ酸カリウム23g1水1gおよびエチレングリ’
:1−# 25 mlを100〜105℃で8時間撹拌
した。70℃まで冷却したのち触媒をr別する。p液を
室温まで放冷したのち、水60m1を加えると、3.3
’−ジアミノジフェニルスルホンの結晶を得る。収量4
7g(収率94係)、融点170〜172℃。
実施例4 3.6′−ジアミノ−6−クロロジフェニルスルホン8
.5g(0,03モル)、5チパラジウム/活性炭0.
4,9.86係ギ酸26I、28%アンモニア水2.4
Iおよびエタノールを50〜60℃で18時間攪拌した
。同温度で触媒を沢別し、冷却すると6,5′−ジアミ
ノジフェニルスルホンの淡褐色結晶が析出した。収量6
4g(収率86係)、融点171〜172℃。
特許出願人 三井東圧化学株式会社 1 436−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)一般式(D J(2N NH2 (式中、Xは水素原子または塩素原子を示し、Yは塩素
    原子を示し、4−位または6−位である)で表わされる
    ジフェニルスルホン化合物ヲパラジウム触媒の存在下に
    、ギ酸またはギ酸塩で還元し脱塩素化させることを特徴
    とする3、6′−ジアミノジフェニルスルホンのIA 
    遣方法。
JP12482883A 1983-07-11 1983-07-11 3,3′−ジアミノジフエニルスルホンの製造方法 Granted JPS6016967A (ja)

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