JPS60170013A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS60170013A JPS60170013A JP2388484A JP2388484A JPS60170013A JP S60170013 A JPS60170013 A JP S60170013A JP 2388484 A JP2388484 A JP 2388484A JP 2388484 A JP2388484 A JP 2388484A JP S60170013 A JPS60170013 A JP S60170013A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic core
- coil conductor
- magnetic
- etching
- Prior art date
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- Pending
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分９ｊｔ
本発明は、商密度の磁気記録、再４１−をＰ」能とする
薄１模磁気ヘットに関する。
薄１模磁気ヘットに関する。
背景技術とその問題点
例えばＰＣＭ信号を記録または再生する多チャンネル、
Ｊなわち多素子磁気ヘッドとし゛Ｃ薄Ｍ Ｍｌ気ヘッド
が用いられる。
Ｊなわち多素子磁気ヘッドとし゛Ｃ薄Ｍ Ｍｌ気ヘッド
が用いられる。
従来、この種の薄膜磁気ヘットは第１図及び第２図にネ
オ如く構成されζいる。先ず第１図に７にずものはコイ
ル導体を−１−に形成した薄膜磁気ヘッドであって磁性
または非磁性の基１ｍ ＋１１の上にパーマロイ、セン
ダスト、アモルファス等のスパッタ、蒸着等の手段によ
り上部磁性コア膜（２）を形成し、その上に５ｉ０２等
の非磁性絶縁膜（３）を介し′ζ−ｊ−のコイル導体１
ｍ （４１が形成され、その上に非磁性絶縁膜（５）が
被着されて更にその上に上部磁性コア映（６）が形成さ
れる。そして両磁性コア欣＋２１ （６１はコイル導体
層（４）を囲む形でギャップ（７）を介して閉磁路を形
成し”ζいる。
オ如く構成されζいる。先ず第１図に７にずものはコイ
ル導体を−１−に形成した薄膜磁気ヘッドであって磁性
または非磁性の基１ｍ ＋１１の上にパーマロイ、セン
ダスト、アモルファス等のスパッタ、蒸着等の手段によ
り上部磁性コア膜（２）を形成し、その上に５ｉ０２等
の非磁性絶縁膜（３）を介し′ζ−ｊ−のコイル導体１
ｍ （４１が形成され、その上に非磁性絶縁膜（５）が
被着されて更にその上に上部磁性コア映（６）が形成さ
れる。そして両磁性コア欣＋２１ （６１はコイル導体
層（４）を囲む形でギャップ（７）を介して閉磁路を形
成し”ζいる。
このように形成される薄膜磁気ヘッドにおいて上部磁性
コア膜（６）の形成の際、コイル導体層（４）は所要の
厚さを有するので図下の如くコイル導体１−（４）の両
端部で段差を生じる。この段差のため上部磁性コ”ｒ股
１ｅ＋は平坦部分（６ａ）の膜厚ｔ１より段差部分（６
ｂ）における膜厚ｔ２は通常のスパッタや蒸着等の手段
では必然的に肉薄となる。この段差部分（６ｂ）の膜厚
Ｌ２はコイル導体層（４）の両端部のテーパー角θによ
って制御可能であるが、このテーパー角θは通常のイオ
ンミリング、プラズマエツチング等のドライエツチング
法では４５°〈θ＜９０°の範囲で変えられるだけでこ
の範囲ごは上部磁性コア股（６）の平坦部分（６ａ）と
段差部分（６ｂ）のＩＩ！厚は１．＝１２となることは
不Ｉ′ＩＪ能である。
コア膜（６）の形成の際、コイル導体層（４）は所要の
厚さを有するので図下の如くコイル導体１−（４）の両
端部で段差を生じる。この段差のため上部磁性コ”ｒ股
１ｅ＋は平坦部分（６ａ）の膜厚ｔ１より段差部分（６
ｂ）における膜厚ｔ２は通常のスパッタや蒸着等の手段
では必然的に肉薄となる。この段差部分（６ｂ）の膜厚
Ｌ２はコイル導体層（４）の両端部のテーパー角θによ
って制御可能であるが、このテーパー角θは通常のイオ
ンミリング、プラズマエツチング等のドライエツチング
法では４５°〈θ＜９０°の範囲で変えられるだけでこ
の範囲ごは上部磁性コア股（６）の平坦部分（６ａ）と
段差部分（６ｂ）のＩＩ！厚は１．＝１２となることは
不Ｉ′ＩＪ能である。
このように薄膜磁気ヘッドは磁束を通ずことができる磁
性コアは薄膜により形成され°ζいるため記録、再生効
率は磁性コアのＰｒｆ４１！、’：によって定まるごと
になり、またこの効率の制約は磁路中の磁性コアの最も
肉薄の部分で決定されるので本例においては上部磁性コ
アＨ＠ ＋６１の段差部分（６ｂ）の膜厚によっ°ＣＣ
記録再再生効率定まるごとになる。
性コアは薄膜により形成され°ζいるため記録、再生効
率は磁性コアのＰｒｆ４１！、’：によって定まるごと
になり、またこの効率の制約は磁路中の磁性コアの最も
肉薄の部分で決定されるので本例においては上部磁性コ
アＨ＠ ＋６１の段差部分（６ｂ）の膜厚によっ°ＣＣ
記録再再生効率定まるごとになる。
そごで本例においては上部磁性コア腺（６）の段差部分
（６ｂ）の膜厚を厚くすれば効率の向」二を図ることが
６１能で、この膜厚を厚くする手法としてコイル導体層
（４）のエツチング形成方法を変えることが考えられる
が、上述した通雷のドライエツチング法以外ではそのエ
ツチングに時間が費やされると共に高密度マルチトラン
クヘッドを形成する場合トラックピッチが狭くなるとＩ
Ｖ膜のパターンニング、エツチングは不可能となる。ま
た磁性コア１ 膜の磁気特性面からみても凹凸部分では
コア欣面内に不用な磁区が発生し透磁率の低］・をきた
し、記録、再生効率が租くなる等の欠点がある。
（６ｂ）の膜厚を厚くすれば効率の向」二を図ることが
６１能で、この膜厚を厚くする手法としてコイル導体層
（４）のエツチング形成方法を変えることが考えられる
が、上述した通雷のドライエツチング法以外ではそのエ
ツチングに時間が費やされると共に高密度マルチトラン
クヘッドを形成する場合トラックピッチが狭くなるとＩ
Ｖ膜のパターンニング、エツチングは不可能となる。ま
た磁性コア１ 膜の磁気特性面からみても凹凸部分では
コア欣面内に不用な磁区が発生し透磁率の低］・をきた
し、記録、再生効率が租くなる等の欠点がある。
また、第２図にネオものはコイル導体を二層に形成した
薄映磁気ヘッドであっ°ζ、基板ｆｉｌに形成された下
部磁性コ゛Ｆ ＩＱ ＋２１の上に非磁性絶縁膜（３）
を介して第１のコイル導体Ｉｎ （４１を所要間隔で形
成して第１の非磁性絶縁膜（５）を被着し、その上に第
２のコイル導体１ｔ＃（４’）を、第１のコイル導体１
ｔｉｉ （４１の各間隔部に位置するように形成し、更
にその上に第２の非磁性絶縁Ｈ９！（５’）を被着しＣ
その上に上部磁性コア膜（６）を形成して構成される。
薄映磁気ヘッドであっ°ζ、基板ｆｉｌに形成された下
部磁性コ゛Ｆ ＩＱ ＋２１の上に非磁性絶縁膜（３）
を介して第１のコイル導体Ｉｎ （４１を所要間隔で形
成して第１の非磁性絶縁膜（５）を被着し、その上に第
２のコイル導体１ｔ＃（４’）を、第１のコイル導体１
ｔｉｉ （４１の各間隔部に位置するように形成し、更
にその上に第２の非磁性絶縁Ｈ９！（５’）を被着しＣ
その上に上部磁性コア膜（６）を形成して構成される。
このようにコイル導体を多１鰻に形成した薄膜磁気ヘッ
ドは記録電流を低減し、再生出力を向上さ−Ｕる点で自
利であるが、各種の考１．銀が必要でその１つにコイル
導体１ｍ Ｉｆｔ部を平坦化させ上部磁性コア映の特性
劣化を防止し°Ｃいるが、コイル導体ＩＨの両端部１な
わちフロントギャップ部（７）及びハックギャップ部（
７′）の近傍での段差は避けられず、従って上述の第１
図に示す一月−コイル導体の薄膜磁気ヘッドと同様に」
二部磁性コア腺（６）の段差部分（６ｂ）は平坦部分（
６ａ）に比し肉薄となり士別と同様な問題が生ずる。
ドは記録電流を低減し、再生出力を向上さ−Ｕる点で自
利であるが、各種の考１．銀が必要でその１つにコイル
導体１ｍ Ｉｆｔ部を平坦化させ上部磁性コア映の特性
劣化を防止し°Ｃいるが、コイル導体ＩＨの両端部１な
わちフロントギャップ部（７）及びハックギャップ部（
７′）の近傍での段差は避けられず、従って上述の第１
図に示す一月−コイル導体の薄膜磁気ヘッドと同様に」
二部磁性コア腺（６）の段差部分（６ｂ）は平坦部分（
６ａ）に比し肉薄となり士別と同様な問題が生ずる。
発明の目的
本発明は、上述したような薄映磁気ヘッドにおいて、上
部磁性コア膜を均一な膜１νで平坦化して形成テキ、−
、Ｌ’： ８１１磁性コアの特性を劣化させることなく
記録、再生効率の向上をはかるようにし、史に上部磁性
コ゛７のエツチング時間の短縮化、パターンニングの精
度向上をばかり、製造の簡易化が弓部なｓ欣磁気ヘッド
を提供するものである。
部磁性コア膜を均一な膜１νで平坦化して形成テキ、−
、Ｌ’： ８１１磁性コアの特性を劣化させることなく
記録、再生効率の向上をはかるようにし、史に上部磁性
コ゛７のエツチング時間の短縮化、パターンニングの精
度向上をばかり、製造の簡易化が弓部なｓ欣磁気ヘッド
を提供するものである。
発明の概要
本発明は上記の］」的を達成するために、磁性基板、１
・部磁性ニドｒ１模、ギヤ・ノプハＩ ｔＷ Ｉ模及び
−Ｆ部磁ｆ’１．：Ｉ ）’税が舶次形成され、１一部
磁性二１ア股の一部に四部を形成し、ごの凹部に：１イ
ル導体を設りるごとによ幻薄股磁気ヘットを構成するも
のである。
・部磁性ニドｒ１模、ギヤ・ノプハＩ ｔＷ Ｉ模及び
−Ｆ部磁ｆ’１．：Ｉ ）’税が舶次形成され、１一部
磁性二１ア股の一部に四部を形成し、ごの凹部に：１イ
ル導体を設りるごとによ幻薄股磁気ヘットを構成するも
のである。
実り缶ｆ夕ｊｌ
第３図以トを参照し°（本発明の詳細な説明する。
第３図は本発明の一実施例とし”（の１３１９磁気ヘツ
ドの製造］１程説明図である。
ドの製造］１程説明図である。
同図においζ（１１）は例えばＭｎ −Ｚｎ系フェライ
ト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト等より成る磁性基板で平滑
に加工仕上げした後、この基１３ｊ（１１）の平面上に
センダスト、パーマロイ、アモルファス等によりスパッ
タ、蒸着等の手段で１・部磁性コ′／股（１２ンを、後
で構成するコイル導体１挨と絶縁１模厚を含めた合計の
映１νｌ程度に形成し、この上部磁性コ′ｒ１１Ｑ（１
２）のコイル導体形成部（１２ａ）をドライエツチング
等により除去する（同図Ａ）。
ト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト等より成る磁性基板で平滑
に加工仕上げした後、この基１３ｊ（１１）の平面上に
センダスト、パーマロイ、アモルファス等によりスパッ
タ、蒸着等の手段で１・部磁性コ′／股（１２ンを、後
で構成するコイル導体１挨と絶縁１模厚を含めた合計の
映１νｌ程度に形成し、この上部磁性コ′ｒ１１Ｑ（１
２）のコイル導体形成部（１２ａ）をドライエツチング
等により除去する（同図Ａ）。
次にコア１９除去部（１２ａ）を含め上部（（ｉ ｆ！
ｌコア１％（１２）σＮ−にＳ ｉ（ｈ等の非磁性絶縁
膜（１３）を形成しく同図Ｂ）、この非磁性絶縁膜（１
３）を介し一ζコ゛７膜除去部（１２ａ ）に第１のコ
イル導体ｊ−（１４）を形成し、Ｐｌｉ”ＪＭ間隔形状
にパターンニングする（同図Ｃ）。この場合第１のコイ
ル導体１−（１４）はｊｉｉ図Ｃ′に示す如き形状、す
なわちコア映除去部（１２ａ）内にフロントギャップ側
及びハフクギ中ツブ側から等間隔形状にパターンニング
し“ζもよい。このようにバクーンニングされた第１の
コイル導体ＮＣ１４）の上に非磁性絶縁膜（１３’）を
被着しく同図り及びＤ′）、そしてこの非磁性絶縁１１
Ｇｔ！ （１３’） ０） ｌ−に第２のごｚイル導体
１ｔＪ（１４’）を形成し、第１のこＩイル導体１ｔｍ
（＋４）の間隔部に入るようにパターンニングしてこの
表面を平坦化し、その上に非磁性絶縁膜（１５）を被着
形成する（同図Ｅ及びＥ’）。
ｌコア１％（１２）σＮ−にＳ ｉ（ｈ等の非磁性絶縁
膜（１３）を形成しく同図Ｂ）、この非磁性絶縁膜（１
３）を介し一ζコ゛７膜除去部（１２ａ ）に第１のコ
イル導体ｊ−（１４）を形成し、Ｐｌｉ”ＪＭ間隔形状
にパターンニングする（同図Ｃ）。この場合第１のコイ
ル導体１−（１４）はｊｉｉ図Ｃ′に示す如き形状、す
なわちコア映除去部（１２ａ）内にフロントギャップ側
及びハフクギ中ツブ側から等間隔形状にパターンニング
し“ζもよい。このようにバクーンニングされた第１の
コイル導体ＮＣ１４）の上に非磁性絶縁膜（１３’）を
被着しく同図り及びＤ′）、そしてこの非磁性絶縁１１
Ｇｔ！ （１３’） ０） ｌ−に第２のごｚイル導体
１ｔＪ（１４’）を形成し、第１のこＩイル導体１ｔｍ
（＋４）の間隔部に入るようにパターンニングしてこの
表面を平坦化し、その上に非磁性絶縁膜（１５）を被着
形成する（同図Ｅ及びＥ’）。
次いでト８１３磁９１＋コア股（１２）上のバックギャ
ップ部に当る部分の非磁性絶縁膜を全゛（エツチング除
去し、フロントギャップ部は所要のギャップ長となるよ
うに非磁性絶縁膜（１５’）を形成することにより上部
磁１＋１：＋ア欣形成前の工程は終ｒする（同図Ｆ及び
１？′）。この場合フロントギャップ部は前段工程で形
成されＣいる非磁性絶縁膜を所要のギャップ長に相当す
る膜厚になるようにイオンエツチング或いはラップ研摩
して形成しζもよい。
ップ部に当る部分の非磁性絶縁膜を全゛（エツチング除
去し、フロントギャップ部は所要のギャップ長となるよ
うに非磁性絶縁膜（１５’）を形成することにより上部
磁１＋１：＋ア欣形成前の工程は終ｒする（同図Ｆ及び
１？′）。この場合フロントギャップ部は前段工程で形
成されＣいる非磁性絶縁膜を所要のギャップ長に相当す
る膜厚になるようにイオンエツチング或いはラップ研摩
して形成しζもよい。
そし“ζ最後に上部磁性コア股（１６）を形成するごと
により薄膜磁気ヘッド素体が形成され（同図Ｇ及びＧ′
）、この素体をトラック中加工することにより第４図に
ボず薄膜磁気ヘッド００１が得られる。
により薄膜磁気ヘッド素体が形成され（同図Ｇ及びＧ′
）、この素体をトラック中加工することにより第４図に
ボず薄膜磁気ヘッド００１が得られる。
なお、本例の図示の構成においてはコイル導体を二層に
形成しであるが、三）−以上多層に形成することもｒ＝
Ｊ能で、特に偶数１−の場合は順次コイル導体パターン
の間隔に入るように積層形成できるので表面の平坦化が
容易となる。
形成しであるが、三）−以上多層に形成することもｒ＝
Ｊ能で、特に偶数１−の場合は順次コイル導体パターン
の間隔に入るように積層形成できるので表面の平坦化が
容易となる。
以上のように本例の工程をとることにより、Ｊ二部磁性
コア膜形成面は概略平坦化力沖Ｊ能となり、多少のバク
ーンニング誤差、各層の膜厚誤差を含めても段差を１μ
ｍ前後に押えることが可能となっζ、上部磁性コア膜は
均一膜厚で平坦に形成できる。この上部磁性コア映の膜
厚は記録媒体の抗磁力及び所要のデプス値によっ”ζ決
められるが、近年の尚密度記録媒体であるメタルパウダ
ー等の高抗磁力媒体の場合、５μｍ以上の膜厚が必要と
なり、この場合１μｍ前後（２μｍ以上）の段差は磁気
特性上はとんど問題とならず、また１μｍ１１ｆ後の段
差の場合通常のスパッタ蒸着でも均一な膜厚に形成でき
る。
コア膜形成面は概略平坦化力沖Ｊ能となり、多少のバク
ーンニング誤差、各層の膜厚誤差を含めても段差を１μ
ｍ前後に押えることが可能となっζ、上部磁性コア膜は
均一膜厚で平坦に形成できる。この上部磁性コア映の膜
厚は記録媒体の抗磁力及び所要のデプス値によっ”ζ決
められるが、近年の尚密度記録媒体であるメタルパウダ
ー等の高抗磁力媒体の場合、５μｍ以上の膜厚が必要と
なり、この場合１μｍ前後（２μｍ以上）の段差は磁気
特性上はとんど問題とならず、また１μｍ１１ｆ後の段
差の場合通常のスパッタ蒸着でも均一な膜厚に形成でき
る。
第５図は本発明の他の実施例としての薄膜磁気ヘッドの
製造工程説明図ごある。
製造工程説明図ごある。
本例はコイル導体が一層で形成されるとごろがコイル導
体を多層（図示では二Ｉｄ）に形成する上述の実施例と
は異るところである。
体を多層（図示では二Ｉｄ）に形成する上述の実施例と
は異るところである。
ずなわぢ、本例の場合磁性基＆（１１）に１・゛部磁性
コア膜（１２）を形成し、コイル導体形成部（１２ｂ）
をエツチング除去した後（同図Ａ）、コア膜除去部＜１
２ａ）を含む下部磁性コア膜（１２）の全体にわたって
非磁性絶縁Ｍ（１３）をスパッタ、蒸着、プラズマＣＶ
Ｉ）等の手段により下部磁性コア欣（１２）と略同じ
膜厚に形成しく同図Ｂ）、その後、コア膜除去部（１２
ａ）の絶縁膜にコイル導体形成用溝部（１３ａ）をプラ
ズマエツチング等で例えば１１Ｊｉ面知形状にエツチン
グにより等間隔で形成する（同図Ｃ）。
コア膜（１２）を形成し、コイル導体形成部（１２ｂ）
をエツチング除去した後（同図Ａ）、コア膜除去部＜１
２ａ）を含む下部磁性コア膜（１２）の全体にわたって
非磁性絶縁Ｍ（１３）をスパッタ、蒸着、プラズマＣＶ
Ｉ）等の手段により下部磁性コア欣（１２）と略同じ
膜厚に形成しく同図Ｂ）、その後、コア膜除去部（１２
ａ）の絶縁膜にコイル導体形成用溝部（１３ａ）をプラ
ズマエツチング等で例えば１１Ｊｉ面知形状にエツチン
グにより等間隔で形成する（同図Ｃ）。
次いでその上にコイル導体形成用溝部（１３ａ）の深さ
と同じ膜厚の導体層（１４）を形成しく同図Ｄ）、溝部
（１３ａ）以外をエツチング或いはラップ研摩等の手段
により除去し、その表面を平坦化することによりコイル
導体（１４ａ）が形成される（同図Ｅ）。その後その表
面上にギヤツブ形成用絶縁［１（１５）を形成し、パッ
クギャップ部分の絶縁膜（１５）をエツチングにより除
去しく同図Ｆ）、コンタクト窓をエツチング形成する（
図ボせず）。
と同じ膜厚の導体層（１４）を形成しく同図Ｄ）、溝部
（１３ａ）以外をエツチング或いはラップ研摩等の手段
により除去し、その表面を平坦化することによりコイル
導体（１４ａ）が形成される（同図Ｅ）。その後その表
面上にギヤツブ形成用絶縁［１（１５）を形成し、パッ
クギャップ部分の絶縁膜（１５）をエツチングにより除
去しく同図Ｆ）、コンタクト窓をエツチング形成する（
図ボせず）。
そして最後に上部磁性コア腺（１６）を形成してパター
ンニングすることにより薄膜磁気ヘッド素体を形成しく
同図Ｇ）、トラック中加工することにより第６図に示す
薄膜磁気ヘッド（１０’）が得られる。
ンニングすることにより薄膜磁気ヘッド素体を形成しく
同図Ｇ）、トラック中加工することにより第６図に示す
薄膜磁気ヘッド（１０’）が得られる。
以上のように本例の場合も上述した実施例の場合と同様
に上部磁性コア膜形成面の概略平坦化が可能となり、上
部磁性コア映を均一膜厚で平坦に形成できる。
に上部磁性コア膜形成面の概略平坦化が可能となり、上
部磁性コア映を均一膜厚で平坦に形成できる。
発明の効果
以上のように本発明にょるＰＪ股磁気ヘッドは磁性基扱
上に形成した下部磁性コア膜の一部に四部を形成し、こ
の四部にコイル導体を設りるので上部磁性コア１模形成
面にはコイル導体による段差はほとんど生ぜず上部磁性
コア股を均−膜厚で平坦に形成できて、磁気特性を劣化
させることなく、記録、再生効率が向上し、また製造に
おい′ζも上部磁性コア１漢は最低限の膜厚ですむので
エツチング時間の短縮化及びコアパターンニングの精度
の向上をはかることができて、信頼性の晶い薄肋磁気ヘ
ッドを得るごとができる等の効果を自する。
上に形成した下部磁性コア膜の一部に四部を形成し、こ
の四部にコイル導体を設りるので上部磁性コア１模形成
面にはコイル導体による段差はほとんど生ぜず上部磁性
コア股を均−膜厚で平坦に形成できて、磁気特性を劣化
させることなく、記録、再生効率が向上し、また製造に
おい′ζも上部磁性コア１漢は最低限の膜厚ですむので
エツチング時間の短縮化及びコアパターンニングの精度
の向上をはかることができて、信頼性の晶い薄肋磁気ヘ
ッドを得るごとができる等の効果を自する。
第１図は従来の薄Ｍ９１磁気ヘッドの一例のＷＥ面図、
第２図は同、他例の…１面図、第３図は本発明によるＭ
膜磁気ヘッドの一例の製造工程図、第４図は同、＠股俳
気ヘットの一例の断面図、第５図は本発明による薄膜磁
気ヘソ１−の他例の製造」二稈図、第６図は同、ｔｉｔ
１ＩＲ４（ｔｉ＆気ヘットの他例の…目ｈ１図である
。 図中００１ （Ｉｌｌ’）は薄欣母気ヘット、（１１）
は磁性基板、（Ｉ２）はト部磁性：１ア股、（１３）は
絶縁膜、（１４） （１４’）はコイル導体、（１５’
）はギヤツブ用踏股、（１６）は１部研Ｐ↓：Ｉ −ｊ
’ ＩＩＱである。 同 松隈秀盛′つ） 第１図
第２図は同、他例の…１面図、第３図は本発明によるＭ
膜磁気ヘッドの一例の製造工程図、第４図は同、＠股俳
気ヘットの一例の断面図、第５図は本発明による薄膜磁
気ヘソ１−の他例の製造」二稈図、第６図は同、ｔｉｔ
１ＩＲ４（ｔｉ＆気ヘットの他例の…目ｈ１図である
。 図中００１ （Ｉｌｌ’）は薄欣母気ヘット、（１１）
は磁性基板、（Ｉ２）はト部磁性：１ア股、（１３）は
絶縁膜、（１４） （１４’）はコイル導体、（１５’
）はギヤツブ用踏股、（１６）は１部研Ｐ↓：Ｉ −ｊ
’ ＩＩＱである。 同 松隈秀盛′つ） 第１図
Claims (1)
- 磁性基扱、上部磁性コア膜、ギヤツブ用薄映及〜 び上
部磁性コア１挨が順次形成され、十記ト部磁性コ”ｒ膜
の一部に四部を形成し、該凹部にコイル導体を設けたご
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2388484A JPS60170013A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2388484A JPS60170013A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60170013A true JPS60170013A (ja) | 1985-09-03 |
Family
ID=12122869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2388484A Pending JPS60170013A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60170013A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62114113A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5593519A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
-
1984
- 1984-02-10 JP JP2388484A patent/JPS60170013A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5593519A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62114113A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
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