JPS58215713A - 垂直磁気記録用薄膜ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ＋１１　　発明の技術分野 本発明は、垂直磁気記録用薄膜ヘッドに関するものであ
る。

（２）技術の背景 磁気記録方式には、記録媒体の面に対して水平方向に磁
化させる水平磁気記録方式と、記録媒体の厚さ方向に磁
化させる垂直記録方式とがあるが、垂直磁気記録方式は
水平磁気記録方式に比べて飛躍的に記録密度を高めるこ
とができるという利点を有している。

このため、垂直磁気記録再生用のヘラＰが種々開発され
てきているが、十分な磁気書込み効率を得ることができ
るヘッドは未だに得られていない。

（３）従来技術と問題点 第１図及び第２図はそれぞれ従来の垂直磁気記録用ヘッ
ドを示す、第１図に示すヘッドは、基板１上に薄膜コイ
ルブロック２を形成し、該薄膜コイルブロック２の表面
に沿わせて薄膜磁極３を形成し、該薄膜磁極３の先端を
基板１の端部に導いた構成となっている。また、第２図
に示すヘッドは、非磁性体４の上端に固着した磁性体５
の周シに手巻きコイルブロック６を配設し、磁性体５及
び非＾性体４０表面に非磁性体４の下端に向って延びる
薄膜磁極７を形成し、核薄膜磁極７０表面を保護層８で
覆った構成となっている。これら第１図及び第２図に示
すヘッドの場合、いずれもコイルブロックのコイル中央
部分が磁気記録媒体９から遠く離れてしまうため、磁路
の途中における磁束の漏洩量が多くなシ、高い書込み効
率が得られなくなる＝ 一方、第３図に示すように、簿膜コイルブロック１０の
中央部において基板１１上に磁極１２を垂直に配置する
ことが考えられているが、この構成の場合、微細な磁極
１２を基板１１上に垂直罠配設することは非常に困難で
ＩＤ、未だ実現されていない。また、第４図に示すヘッ
ドが知られている。このヘッドは２枚のガラス板１３．
１４の一方の突合せ面に薄膜の磁極１５ｔｌ−形成した
状態で両ガラス板１３．１４の突合せ面を薄膜コイルｆ
０ツク１６上で接着した構成となっているが。

この構成の場合、薄膜磁極１５の形成及び２板のガラス
板１３．１４の貼シ合せ等が面倒であシ、製作に時間が
かかルかつ、高コストであるという欠点がある。また、
この第４図に示すヘッドの場合、コイルブロック１６は
ガラス板１３．１４の板厚外だけ記録媒体１７から遠ざ
かるが、ｆラス板１３．１４の板厚はコイルブロック１
６の厚み等に比べて実際には相当大きなものとなるため
。

記録媒体への書込み効率が低くなるという欠点がある。

（４）発明の目的 上記従来技術の欠点に鑑み１本発明は、容易に製作でき
、且つ、磁気記録媒体への書込み効率の高い垂直磁気記
録用薄膜ヘッドを提供することを目的とする。

（５）発明の構成 上記目的は１本発明によれば、基板と、該基板上に形成
された薄膜コイルブロックと、該薄膜コイルブロックの
中央部において基板上から立ち上る側面をもつように形
成された第１の非磁性膜層と、該第１の非磁性膜層の前
記側面に沿って形成された薄膜磁極と、該薄膜磁極の表
面を覆うように前記基板上に形成された第２の非磁性膜
層とからなシ、前記薄膜磁極の一部が露出するように。

前記第１及び第２の非磁性膜層及び薄膜磁極が基板に平
行な方向に研削されていることを特徴とする垂直磁気記
録用薄膜ヘッドを提供することによって達成される。

（６）　　発明の実施例 以下１図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第５図は本発明の一実施例に係る垂直磁気記録用薄膜ヘ
ッドの形成途中過程を示し、第６図はその完成状態を示
す。薄膜ヘッドの構成を形成の順序に従って説明すると
、はじめに、第５図に示すように、基板２０上に薄膜コ
イルブロック２１が形成される。基板２０はｓ　Ｎ１ｚ
ｎフエ２イトのような強磁性基板であってもよく、また
、非磁性基板の表面に強磁性薄膜を形成したものであっ
てもよい。薄膜コイルブロック２１はコイル導体層及び
絶縁膜層の・９ターンの組合せＫよって多巻コイル状に
作られる。薄膜コイルブロック２１を形成する方法とし
てはフォトエツチング法又はマスク蒸着法を用いること
ができる。

次に１基板２０上にはＡＪ、Ｃｕ、ＡノーＣｕ等からな
る第１の非磁、性・膜層２２が形成される。

第１の非磁性膜層２２は、薄膜コイルブロック２１の中
央部において好ましくは基板２０上から薄膜コイルブロ
ック２１よυも高い位置まで立ち上る側面２２Ａをもつ
ように形成される。このような第１の非磁性膜層２２は
、フォトエツチング法によっても作ることができるが、
フォトエツチング法の場合、側面２２Ａを滑らかに形成
するが困難である。これに対し、マスク蒸着法によって
この第１の非磁性膜層２２を形成した場合、側面２２Ａ
を滑らかに形成することができるので、後述する薄膜磁
極の形成上好ましい、ｔた、マスク蒸着法によれば１例
えば基板２０からの厚みｔが約２０μｍの第１の非□磁
性膜層２２を形成する場合に、側面２２Ａの立上シ開始
から立上シ終了までの幅Ｃを約１０μｍとすることがで
き、これによシ、側面２２Ａの傾斜角度を約６０°程度
にすることができる。

次に、第１の非磁性膜層２２の側面２２Ａに沿って薄膜
磁極２３が形成される。薄膜磁極２３はパーマロイ等の
強磁性体によって先端（上端）の幅が狭くなるような・
やターンに形成するのが好ましい、薄膜磁極２３を形成
する方法としては、スノ臂ツ！リング、メッキ等の手段
を用いることもできるが、マスク蒸着法によるのが好ま
しい。

次に、薄膜磁極２３０表面を覆うように、基板２０上に
Ｓ　ｉ　Ｃｈ　、　ＡＡ！ｔｏｓ等からなる第２の非磁
性膜層２４が形成される。この第２の非磁性膜層２４、
　　　　　　　　　　　　　は保護 層としての役割シを果すもので、好ましくは１図示する
如く薄膜コイルブロック層２１．薄膜磁極２３及び第１
の非磁性膜層２４全体を覆うように例、ｔｔｆス／々ツ
タリング法によって基板２０上に形次罠、薄膜磁極２３
の一部が露出するように。

第１及び第２の非磁性膜層２２，２４及び薄膜磁極２３
が、第６図に示すように、基板２０に平行な方向に研削
される。研削面はラッピングによって滑らかな平坦面罠
仕上げられる。なお、ラッピング後に８１０．ス／ｆツ
タ膜等の保護膜を形成するのが好ましい。

上記構成からなる垂直磁気記録用薄膜ヘッドの場合、薄
膜磁極２３が第１の非磁性膜層２２における傾斜した側
面２２Ａに沿って形成される丸め、薄膜磁極２３は磁気
記録媒体（図示せず）に対して垂直な向きにはならず、
磁気記録媒体に対し、勾配をもって対向する仁ととなる
。したがって。

こうした配置による書込み効率、再生効率等の低下は若
干生じるが、薄膜コイルブロック２１を磁気記録媒体に
対して十分に近接させることができるため、全体的にみ
れば、磁気記録媒体への書込み勢率及び再生効率を十分
に高めることができることとなる。

以上一実施例につき説明したが１本発明は上記実施例の
態様のみに限定されないことｔよいうまでもない。

（７）発明の効果 以上の説明から明らかなように１本発明による垂直磁気
記録用簿膜ヘッドによれば、薄膜コイルブロックを磁気
記録媒体に十分に近接させる仁とができるようになるか
ら、磁路途中における磁束の漏洩を低減させることがで
きるようになシ、磁気記録媒体への書込み効率及び再生
効率を十分に高めることができるようになる。また、基
板上への薄膜形成グロセスのみによって製作できるから
容易かつ短時間に製作できるという効果も有する。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図及び第一４図はそれぞれ従来の
垂直磁気記録用ヘッド及び磁気記録媒体を示す概略断面
図、第５図は本発明の一実施例に係る垂直磁気記録用薄
膜ヘッドの形成途中過程を示す概略断面図、第６図は本
発明の１一実施例に係る垂直磁気記録用薄膜ヘッドの完
成状態を示す概略断面図である。 図において、２０は基板、２１は薄膜コイルブロック、
２２は第１の非磁性膜層、２２Ａは側面、２３は薄膜磁
極、２４線第２の非磁性膜層をそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士　　青　木　　　朗 弁理士　西舘和之 弁理士　内田幸男 弁理士　　山　口　昭　之

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　基板と、該基板上に形成された薄膜コイルブロック
   と、該薄膜コイルブロックの中央部において基板上から
   立ち上る側面をもつように形成された第１の非磁性膜層
   と、該第１の非磁性膜層の前記側面に沿って形成された
   薄膜磁極と、該薄膜磁極の表面を覆うように前記基板上
   に形成された第゛２の非磁性膜層とからなシ、前記薄膜
   磁極の一部が露出するように、前記第１及び第２の非磁
   性膜層及び薄膜磁極が基板に平行な方向に研削されてい
   ることを特徴とする垂直磁気記録用薄膜ヘッド。 ２　前記第１の非磁性膜層はマスク蒸着によつ３　前記
   薄膜磁極はマスク蒸着によって前記第１の非磁性膜層の
   前記側面に沿って形成されてい