JPS60209917A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｌ（は０１北厨− この発明は磁気記録媒体に関し、特に走行安定性、耐久
性等のすぐれた強磁性薄膜を磁気記録層とする磁気記録
媒体に関するものである。

■は宣見皮擢 現在、磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピュ
ーター、磁気ディスク等の分野で広範囲に使用されるよ
うになっており、それに伴い、磁気記録媒体に記録する
情報量も年々増加の一途をたどり、そのため磁気記録媒
体に対しては記録密度の向上が益々要求されるようにな
ってきている。

塗布型の磁気記録媒体より薄型化が容易で飽和磁化も大
きい非バインダー型磁気記録媒体、即ち強磁性薄膜から
なる磁気記録媒体は、腐食、衝撃及び摩擦強度に問題が
あり、磁気信号の記録、再生及び消去の過程で磁気ヘッ
ドとの高速相対運動により摩擦もしくは破壊が生ずるこ
とがある。すなわち電気メッキ、無電解メッキ、スパッ
タリング、真空蒸着、イオンブレーティング等の方法に
よる強磁性薄膜を設けた磁気記録媒体はバインダーを含
まないため、磁気ヘッドとの接触摺動時に摩擦のため磁
気記録層が削りとられるか、破壊され易いものであった
。

又、強磁性薄膜からなる磁気記録媒体はその表面が腐食
し易いが、腐食が進行すると、ヘッドタッチ、耐摩耗性
等の実用特性が劣化し、電磁変換特性にも悪影響を及ぼ
す。

そのため磁気金属薄膜表面上に潤滑剤を塗布する方法（
特公昭３９−２５２４６号公報）があるが、そのような
方法では磁気ヘッド等で潤滑剤が拭きとられる等して潤
滑作用が永続的でなく、又、潤滑作用を継続的に磁気記
録層上に供給する手段として磁気記録層の反対側の面に
液状又は半固体状の潤滑剤及び有機バインダーを主成分
とする潤滑層（バックコート層）を設ける方法（特公昭
５７−２９７６９号公報）も提案され、この方法では磁
気記録層の裏面ににじみ出た潤滑剤がロール状に巻かれ
た際磁気記録層に移り、磁気記録層の表面に常に潤滑剤
を供給でき、磁気記録層の耐久性（スリキズやハガレの
程度）や動摩擦係数の変化において、すぐれた効果が奏
せられるとするものであるが、前記方法のバックコート
層のみに潤滑剤を含有させたものでは磁気薄膜と磁気ヘ
ッドとの摩擦レベルは高く、走行不良をもたらし、又、
耐腐食、防錆効果においても未まだ充分なものとは言え
ないものであった。

Ｑす見班勿ｌ水 本発明者等はそれらの欠点を改善すべく、鋭意研究の結
果、強磁性薄膜からなる磁気記録層において、薄膜表面
上にトップコート層を設けることにより、前記欠点とさ
れていた摩擦、削れ及び走行性の改善されたすぐれた磁
気記録媒体が得られることを見出したものである。

前記のとおり、特公昭５７−２９７６９号公報の潤滑剤
を含有するバックコート層のみを有するものにあっては
、摩擦レベルが高く、走行不良を生ずる。すなわちトッ
プコートをしていない蒸着膜にあっては、バックコート
層に潤滑剤が含まれていると、該潤滑剤が裏型転写され
、そのため蒸着膜が酸素導入のないもの（酸素不含有物
）の場合の蒸着膜においてはそれほどでもないが、酸素
が導入されたもの（酸素含有物）の場合には膜が不安定
な状態となり、出力ダウンして目づまりをしたり、画像
が出ないか、或いは摩擦抵抗未だ大きく、不十分であり
、時には膜がとれるか或いは壊れてしまうのである。特
にスチール時の測定において、膜がつきぬけて取れてし
まい、目づまりを発生し、大問題となる。

又強磁性薄膜にトップコート層を設ける場合、潤滑剤の
みではトップコート層のない前記と同様の不都合が生ず
るが、放射線硬化型分子量２，０００未満の化合物、酸
化防止剤及び滑潤剤をトップコート層に含有させること
により、該ポリマーによる補強効果によって削れが少な
く、防錆性、耐腐食性、耐久性、走行安定性にすぐれ、
バックコート層の潤滑剤が裏型転写しても、強磁性薄膜
はトップコート層により保護されるというすぐれた磁気
記録媒体が得られることを見出し１本発明に到達したも
のである。

即ち、本発明は非磁性基材の一方の面に強磁性薄膜から
なる磁気記録層、他方の面にバックコート層を設けた磁
気記録媒体において、該磁気記録層には、強磁性薄膜の
表面上に放射線硬化型分子量２，０００未満の化合物、
酸化防止剤及び潤滑剤とからなるトップコート層が設け
られ、該バックコート層が、無機顔料、有機バインダー
、潤滑剤を含む塗膜からなることを特徴とする磁気記録
媒体に関するものである。

本発明の強磁性薄膜に用いられる強磁性金属あるいは強
磁性合金としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強
磁性金属あるいはＦ　ｅ　−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−
Ｎｉ、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｆａ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｃ
：ｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｇｏ−Ｐｒ
、Ｃｏ　Ｇｄ、Ｃｏ−３ｍ、Ｇｏ−Ｐｔ％Ｎｉ−Ｃｕ、
Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｄ。

Ｍｎ−Ｂ　ｔ、　Ｍｎ−８ｂ、　Ｍｎ−Ａ　Ｉのような
磁性合金を挙げることができる。

強磁性薄膜は非磁性基材、即ちポリエステルフィルム、
ポリアミドフィルム等のプラスチックフィルム、アルミ
板、ステンレス板等の金属板、ガラス板のような無機質
の板等の公知の基材の上に直接あるいは非磁性薄膜層を
介して、上記金属又は合金を真空蒸着、スパッタリング
、イオンブレーティング、メッキその他の方法で形成さ
れ得る。

本発明の強磁性薄膜は前記どのような方法によって製造
されたものでも勿論用いることができるが、前記特公昭
５７−２９７６９号公報実施例５に記載の真空度５．０
ＸＬＯ−６Ｔｏｒｒの真空中で、その幅方向が蒸発源に
対して５０°傾斜して蒸着するもの（１）よりも、現在
一般に行なわれているところの、蒸着方向が長手方向に
傾斜（９０゜〜３０°）し、幅方向には傾斜していない
もので、雰囲°気として、０２又は０２とＡｒを導入し
ながら、〜１．Ｘ　１０−’Ｔ　ｏ　ｒ　ｒで蒸着した
もの（２）が好ましく用いられる。

前記の（１）の方法で製造された蒸着膜は全面金属状態
（空気中に取り出した後に自然酸化された表面を除けば
）であるのに対して、（２）の方法の微量の酸素ガスの
存在する真空中で金属又は合金を蒸着するものでは磁性
金属は酸素を含有しその酸素は金属と固溶せず、酸化物
の状態で存在する。そして、この酸化物の存在が磁気記
録媒体にとっては好ましく、特にベースとの界面及びベ
ースと反対側の表面に酸化物が多く存在する場合に、本
発明において良好な特性が得られることが判明した。

又、強磁性金属薄膜への酸素導入法としては前記の酸素
の存在下での蒸着のほかに、酸素の存在しない真空蒸着
での蒸着膜を、例えば９０℃、２０％ＲＨ等の雰囲気中
で強制酸化し、そのベースと反対側の表面を酸化物のみ
とすることもできる。

酸素を含有する強磁性薄膜の酸素の含有量は磁気記録層
が強磁性薄膜のみからなり、トップコート層のないもの
では、バックコート層に潤滑剤が含有されたものであっ
ても、摩擦レベルが高く、走行安定性がなく、又耐久性
においても劣るものである。そしてトップコート層のな
い蒸着膜において、現在行なわれている蒸着法で製造さ
れる蒸着膜は前述の通り酸素を含有するものであること
が知られ、これは酸素を含有しない蒸着膜に比して耐食
性、抗磁力、電磁変換特性等の点ですぐれているが、磁
気ヘッド等との摩擦抵抗が未だ千者ンχ−１−．ム一　
キ鰐φ堂什　耐久性め占で官田レベルの特性が得られて
いない。そして前記の如く、特公昭５７−２９７６９号
公報記載のようにバックコート層に潤滑剤を含有させる
だけでは、バックコート層の滑潤剤が蒸着膜に裏型転写
し、膜をいため、出力が不安定となって画像が出なくな
ったり、特にスチール時の測定において膜がつきぬけて
とれてしまい、目づまりを発生して、満足できる磁気記
録媒体は得られないこと、又、トップコート層に滑潤剤
のみを塗布するものでは一時的な摩擦の低下しか得られ
ず、防錆性、耐腐食性、耐久性の点でも著しく劣ること
が判明し、それを解決するための技術手段として１本発
明では特定のトップコート層を設けるものである。

本発明のトップコート層は、放射線硬化型分子量２，０
００未満の化合物、酸化防止剤及び潤滑剤を含有するも
のである。

本発明のトップコート層で用いられる放射線硬化型分子
量２，０００未満の化合物としては、イオン化エネルギ
ーに感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有
すアクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステ
ル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレ
ートのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン
酸誘導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あ
るいは重合乾燥する基を分子中に含有または導入した分
子量２，０００未満の化合物等を用いることができる。

それらの放射線硬化型分子量２，０００未満の化合物は
スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリ
コールジメタクリレート、１，６−ヘキサングリコール
ジアクリレート、１．６−ヘキサングリコールジアクリ
レート等も挙げられるが、特に好ましいものとして、Ｎ
−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトールト
リアクリレート（メタクリレート）、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート（メタクリレート）、トリメチ
ロールプロパンジアクリレート（メタクリレート）、フ
ェノールエチレンオキシド付加物のアクリレート（メタ
クリレート）、下記一般式で示されるペンタエリスリト
ール縮金環にアクリル基（メタクリ基）又はε−カブロ
ラ特特殊ペンタエリスリトール縮合物上いう）、ｍ＝１
、ａ　＝　３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエリ
スリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１．ａ＝６、ｂ＝ｏ
の化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Ｃと
いう）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊
ペンタエリスリトール縮合物りという）、及び下記一般
式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる。

（１）（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ，）３−ＣＣＨ，０）
１（特殊アクリレートＡ） （２）　＜ＣＨｉ　＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）　３−ＣＣ％
　ＣＨ３（特殊アクリレートＢ） （３）ＥＣ）１２＝ｃＨｃＯ（ＯＣｘ％）ｎ　０ＣＨ２
）３　ＣＣＨ２ＣＮ５（ｎ年３）　（特殊アクリレート
Ｃ） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ＣＨＣＨＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２ λ　２ （特殊アクリレートＦ） （７）　Ｃ）Ｉｊ　Ｃ００ＣＨ＝　ＣＨ７１（特殊アク
リレートＧ） （８）ＣＨ２−ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４　Ｃ０
ＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレートエ） ＣＨｘ　ＣＨａ　ＯＣｏ　（ＣＩ（２）ｒ　０ＣＯＣＨ
＝ＣＨ２（特殊アクリレートＪ） Ａ　−（Ｘ−Ｙ）−ｎＸ−Ａ Ａニアクリル酸、Ｘ：多価アルコール Ｙ：多塩基酸　（特殊アクリレートＫ）放射線硬化型分
子量２，０００未満の化合物を用いることにより、強磁
性薄膜との付着性がよく、トップコート層が該分子量２
．．０００未満の化合物により補強され、塗膜の破断強
度が上り、塗膜の強化が為され、トップコート削れが少
なく、かつ高温走行での耐久性が改善できる。そこでド
ロップアウトの少ない、かつロール状に巻き取った形で
の硬化の際の巻きしまりのない、長さ方向で均一の特性
を有する磁気記録媒体が得られる。前記放射線硬化型分
子量２，０００未満の化合物がない場合、高温走行での
ストップを生じ、ケズレが大であり、付着が生じるが、
放射線硬化型分子量２．０００未満の化合物を用いると
、架橋性が上り、トップコートの削れがなくなり、走行
中の目づまりがなく、スチール特性が向上する。又、放
射線硬化型ポリマーと比較しても、削れや目づまりがよ
り少なくなり、更にスチール特性が向上する上に、ポリ
マーに比べて分子量が小さいため、粘度が低く、塗布層
が均一となり、そのため電磁変換特性でエンベロープが
良好となる。

本発明では放射線硬化型分子量２，０００未満の化合物
を用いるが、分子量が２，０００以上となると摩擦抵抗
が高くなる傾向となる。

又、放射線硬化型分子量２，０００未満の化合物を用い
ると、トップコート層の製造上、連続処理が可能であり
、オンライン上で処理できるので、省エネルギー、コス
トの低減に役立つ。これらの化合物は単独又は混合物の
形で用いることができる。

本発明で用いられる酸化防止剤としては、通常の酸化防
止剤が用いられ、これらは１）フェノール系酸化防止剤
、２）アミン系酸化防止剤、３）リン系酸化防止剤、４
）硫黄系酸化防止剤、５）有機酸、アルコール、エステ
ル系酸化防止剤、６）キノン系酸化防止剤、７）無機酸
、無機塩系酸化防止剤のように構造的に大別される。

上記各種酸化防止剤の具体例を挙げると、１）フェノー
ル系酸化防止剤としては、２，６−ジー第三ブチル−Ｐ
−クレゾール、２，６−ジー第三ブチル−フェノール、
２，４−ジ−メチル−６−第三ブチル−フェノール、ブ
チルヒドロキシアニソール、２，２′−メチレンビス（
４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、４．４’−
ブチリデンビス（３−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、４．４″−チオビス（３−メチル−６−第三ブチ
ルフェノール）、テトラキス【メチレン−３（３，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ートコメタン、１，１゜３−トリス（２−メチル−４−
ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ジブチ
ルヒドロキシトルエン、没食子酸プロピル、グアヤク脂
、ノルジヒドログアヤレチン酸等がある。放射線硬化型
としてはモノグリコールサリチレート、２，５−ジ第三
ブチルハイドロキノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、２，４．５−トリヒドロキシブチロフェノン、
ハイドロキノン等のメタクリレート、アクリレート、ビ
ニルタイプが挙げられる。

２）アミン系酸化防止剤としては、フェニル−β−ナフ
チルアミン、σ、−ナフチルアミン、Ｎ、Ｎ’−ジー第
ニブチルーＰ−フェニレンジアミン、フェノチアジン、
Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミンの他、
アルカノールアミン、リン脂暫答ｈ＜ｓｔ＝げられる。

、アミン集でもジメチルアミノエチルメタクリレート、
アクリレートあるいはビニルタイプ等の放射線硬化可能
のものが放射線硬化型として挙げられる。

３）リン系酸化防止剤としては放射線硬化型或いは放射
線硬化型でないものが用いられ、リン酸エステル部分の
Ｒとしてはアルキル基、アルキルフェニル基、その他酸
化エチレン、酸化プロピレンを含有し、そのＲとしてＣ
が１〜２６が好ましく、更に好ましいのは１〜２２であ
る。リン酸ステルとしてはモノ、ジ、トリのものが含ま
れ、モノあるいはジの成分が多いものであってもよく、
トリタイプのものはカットされていてもよい。またリン
酸エステルはＮＨ４タイプのもの及びメタクリレート、
アクリレート、ビニルタイプのものも含まれる。具体的
にはトリフェニルホスファイト、トリオクタデシルホス
ファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリルトリ
チオホスファイト等の亜リン酸エステルや、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミド、ブチルホスフェート、セチ
ルホスフェート、ブトキシエチルホスフェート、２−エ
チルヘキシルホスフェート、β−クロロエチルホスフェ
ート、ブトキシエチルホスフェートジエチルアミン塩、
ジ（２−エチルヘキシル）ホスフェート、エチレングリ
コールアシッドホスフェート、（２−ヒドロキシエチル
）メタクリレート・ホスフェート、ブチルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、カプリルヒドロキシメタ
クリレート・ホスフェート、ミリスチルヒドロキシメタ
クリレート・ホスフェート、ステアリルヒドロキシメタ
クリレート・ホスフェート、セチルヒドロキシメタクリ
レート・ホスフェート、ブチルフェニルヒドロキシメタ
クリレート・ホスフェート、アミルフェニルヒドロキシ
メタクリレート・ホスフェート、ノニルフェニルヒドロ
キシメタクリレート・ホスフェート、及びこれらのアク
リレートタイプ、フェニルホスフェート、その他のアル
コール、及びノニルフェニル等のフェニルホスフェート
、バナジウム系酸性リン酸エステル等のリン酸エステル
が挙げられる。

４）硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ラウ
リルステアリルチオジプロピオネート、シミリスチルチ
オジプロピオネート、ジステアリルβ、β′−チオジブ
チレート、２−メルカプトベンゾイミダゾール、ジラウ
リルサルファイドの他、４，４′−チオ−ビス（３−メ
チル−６−第三ブチル−フェノール）、２．２’−チオ
−ビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）等の
メタクリレート、アクリレート、ビニルタイプ等の放射
線硬化型が挙げられる。またこれらは酸化エチレン、酸
化プロピレンを含有していてもよい。

５）有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤として
はソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、
アジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、
これらの放射線硬化型であってもよい。

６）キノン系酸化防止剤としてはヒドロキノン、トコフ
ェロール等があり、これらの中で放射線硬化型であって
もよい。

７）無機酸、無機塩系酸化防止剤としてはリン酸がその
代表例として挙げられる。

上記酸化防止剤の中でも、強磁性薄膜への裏型転写を抑
え得るという点から、分子中にアクリル系二重結合を有
する放射線硬化型のもの、例えばモノグリコールサリチ
レートメタクリレート（アクリレート）、４−第三ブチ
ルカテコールメタクリレート（アクリレート）、ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート（アクリレート）、エチ
ルヒドロキシメタクリレート（アクリレート）ホスフェ
ート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレート（
アクリレート）、ステアリルメタクリレート（アクリレ
ート）ホスフェート、及び上記のもののフェニルタイプ
のもの、２．２′チオ−ビス（４−メチル−６−第三ブ
チル−フェノール）メタクリレート（アクリレート）等
が好ましい。リン酸エステルの製法としては公知の方法
で行なわれるが、特開昭５７−４４２２３号公報記載の
方法も挙げられる。放射線硬化型酸化防止剤では強磁性
薄膜へのオンライン硬化ができるため熱硬化時の巻きし
まりによる裏型転写による表面性の劣化−がなく、その
ため出力の低下がない。強磁性薄膜のトップコートは８
００Ａ以下が好適であり、これ以上厚くすると型持の低
下を生じる。またあまり厚すぎると強磁性薄膜の表面粗
度が１００Ａ以下のため、この上の酸化防止剤の層が厚
さを増し該層が削れる。このようなことは本発明におい
てはじめて判明したことである。そしてドロップアウト
の防止、ロール状に巻かれたときの内外径の個所による
出力差の減少といった特性上の効果の他、オンライン上
での製造が可能といった処理上の効果をもあげ得るもの
である。

本発明で用いられる潤滑剤としては従来この種磁気記録
媒体に用いられる潤滑剤としてシリコンオイル、弗素オ
イル、脂肪酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラ
フィン、界面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸
および／又は脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。

脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣ○Ｏ
Ｈ，Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂肪
酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と該
脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が２１〜２３個より成
る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使用
される。

シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。

潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、
ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所による出力差の減少の他、オンライン上での製
造が可能である等の利点を持つ。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系あるいはビニル系二重結合とを分子中に有する化
合物、例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、ビニル酢酸エステル、アクリル酸アミド系化合物、
ビニルアルコールエステル、メチルビニルアルコールエ
ステル、アリルアルコールエステル、グリセライド等が
あり、これらの潤滑剤を構造式で表すと、　ｃＨ３ＣＨ
２＝ＣＨＣ０ＯＲ，ＣＨ２＝Ｃ−Ｃ○○Ｒ１ＣＨ２＝Ｃ
Ｈ−ＣＨ２ＧＯＯＲ１ ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣ：Ｈ２０ＣＯＲ１ＲＣＯＯＣＨ
２−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ココでＲは直鎖又は分枝状の飽
和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７以上、好ま
しくは１２以上２３以下であり、これらは弗素置換体と
することもてきる。弗素置換体としては ＣｎＦ２ｎ＋１−１　ＣｎＦ２ｎ＋１＋（ＣＨ２）ｍ　
（但し、　ｍ＝１〜５）、Ｒ ＼ ＣｎＦ、＋ｎ＋＋ＳＯ２ＮＣＨ２ＣＨ２−１ＣｎＦ２ｎ
ｑ（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２−１Ｃｎ　Ｆ　２　
ｎ−１００Ｑ　−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−等がある。

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレ−１〜）、
グリセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコ
ールのメタクリレ−１〜（アクリレート）、シリコーン
のメタクリレート（アクリレート）、ステアリン酸ビニ
ル、ミリスチン酸ビニル等が挙げられる。

本発明のトップコ−１・層には上記添加剤の外にポリマ
ーも用いることができる。それらのポリマーは従来、磁
気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化性又は
反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが一得られる
冷謹輸ｒｔｅ答の占ｈ１＾箇／ｌ−型、特に放射線硬化
型の樹脂が好ましい。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量が１０，０００〜２００，０００、重合度が約２０
０〜２，０００程度のもので、例えば塩化ビニール−酢
酸ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩化ビ
ニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリル共
重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、ア
クリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エス
テル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル
−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン
−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂
、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリ
ル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、
ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロース
誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオ
ネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジェン
共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル−
アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成
ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物が使用される
。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は２００，０００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹
脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好
ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂
、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂
、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミ
ン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプ
レポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソ
シアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオ
ールとポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／ト
リフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリア
ミン樹脂、及びこれらの混合物である。

而して好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレ
タンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、或
いは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体（カルボン酸導入のものも含む）、又はアクリル変性
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
カルボン酸導入のものも含む）及びウレタンアクリレー
トからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、放射
線硬化系樹脂については前記の好ましい組合せの外に、
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合
乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入し
た樹脂等を用いることができる。その他、使用可能なバ
インダー成分としては、単量体としてアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリルアミド等がある。二重結合のあるバ
インダーとしては、種々のポリエステル、ポリオール、
ポリウレタン等をアクリル二重結合を有する化合物で変
性することもできる。更に必要に応じて多価アルコール
と多価カルボン酸を配合することによって種々の分子量
のものもできる。放射線感応樹脂として上記のものはそ
の一部であり、これらは混合して用いることもできる。

さらに好ましいのは（Ａ）放射線により硬化性をもつ不
飽和二重結合を２個以上有する、分子量５，０００〜１
００，０００のプラスチック状化合物、（Ｂ）放射線に
より硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有するか、
又は放射線硬化性を有しない、分子量３，０００〜１０
０，０００のゴム状化合物、および（Ｃ）放射線により
硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有する、分子量
２００〜３，０００の化合物を、（Ａ）２０〜７０重量
％、（Ｂ）２０〜８０重量％、（Ｃ）ｌＯ〜４０重景％
の割合で用いた組合せである。

これにより、塗膜の破断強度が上り、塗膜の強化が為さ
れ、バックコート削れが少なく、バックコート層から磁
性層への無機充填剤粉末の移転がないためドロップアウ
トの少ない、かつ、ロール状に巻き取った形での硬化の
際の巻きしまりのない、長さ方向で均一の特性を有する
磁気記録媒体が得られる。

強磁性薄膜表面に放射線硬化型分子量２，０００未満の
化合物、酸化防止剤及び潤滑剤を含むトップコート層を
設ける方法としては、前記添加剤を溶剤で希釈して強磁
性金属薄膜上に薄く塗布したり、該添加剤を大気中、不
活性ガス中、あるいは真空中で気化せしめてその蒸気を
強磁性金属表面に当てるなどの手段があり、これらを適
用することができる。このとき放射線硬化型分子量２，
０００未満の化合物、酸化防止剤、潤滑剤を混合、塗布
して硬化したり、先ず放射線硬化型分子量２゜０００未
満の化合物、酸化防止剤を塗布、硬化後、該塗布膜上に
前記潤滑剤を塗布或いは蒸着して塗布膜或いは蒸着膜を
形成することができる。前記添加剤の塗布に当っては、
溶剤を用いて行なうことができる。又、前記添加剤の蒸
着は、該添加剤を大気中、不活性ガス中、あるいは真空
中で気化せしめてその蒸気を膜を形成すべき物質の表面
に当てて行なうものである。

添加剤の蒸着法によるものでは、その膜の表面が均一と
なり、出力波形が良好なものが得られる。

本発明のトップコート層における放射線硬化型分子量２
，０００未満の化合物、酸化防止剤、潤滑剤の使用割合
は放射線硬化型分子量２，０００未満の化合物二酸化防
止剤＝１０：９０〜９０：１０、好ましくは３０　：　
７０〜７０：３０（重量）、潤滑剤は分子量２，０００
未満の化合物＋酸化防止剤１００重量部に対し０．５〜
１００重量部である。

放射線硬化型分子量２，０００未満の化合物の量がこれ
より少ないと皮膜の強度が低下し、削れやすくなる。又
、酸化防止剤がこれより少ないと錆止め効果が弱まり１
強磁性薄膜の腐食が起こり、膜のダメージが大きく、電
磁変換特性において出力が低下する。

トップコート層の厚みとしては１０〜８０〇八が好まし
い。あまり厚すぎると型持の低下を生じたり、ケズレを
生ずる。又、あまり薄すぎると目づまりが発生する。ト
ップコートなしの強磁性薄膜の表面粗度は１００Ａ以下
が好ましいため、この上にトップコート層を形成する場
合、あまり厚すぎるとケズレを生ずることが判った。あ
まり少なすぎるとトップコート層の吸着が弱すぎ、目づ
まりを発生することが予想される。このようなことは本
発明ではじめて判明したものである。特に好ましい範囲
としては１０〜３０〇八である。

本発明において、トップコート層に前記の放射線硬化型
分子量２，０００未満の化合物を含有することによりト
ップコート層が補強され、削れが少なく、酸化防止剤を
含有することにより、防錆効果カ著しく、又潤滑剤を含
ませることにより、磁性層の表面の摩擦抵抗が低下する
という効果が奏せられ、走行安定性、耐久性の優れた、
ドロップアウトの減少した磁気記録媒体が得られる。

本発明のバックコート層は無機顔料、有機バインダー及
び潤滑剤を含有するものからなる。

無機顔料としては、１）導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト、また２）無機充填剤として５ｉ０２、
ＴｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，Ｃｒ２Ｏ３、Ｓ　ｉ　Ｃ，Ｃａ
ｂ、ＣａＣＯ３、酸化亜鉛、ゲーサイト、％　Ｆ　ｅ　
２０３、タルク、カオリン、ＣａＳＯ４、窒化硼素、フ
ッ化黒鉛、二硫化モリブデン、ＺｎＳ等があり、中でも
Ｃａ　ＣＯ３、カオリン、ＺｎＯ、ゲーサイト、ＺｎＳ
やカーボンが使用される。この様な無機顔料の使用量は
１）に関してはバインダー１００重量部に対して２０〜
２００重量部、又２）に関しては１０〜３００重量部が
適当であり、無機顔料量があまり多くなると。

塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多くなる
という欠点がある。

種バックコート層に用いられる種類のものはいずれも用
いることができるが、カプリル酸、カプリン酸、ラウリ
ン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベ
ヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リル
ン酸、ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（Ｒ
ＣＯＯＨ，Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）；前記の
脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、に等）またはアル
カリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）から成る金属石鹸
；レシチン等が使用される。この他に炭素数１２以上の
高級アルコール、およびこれらの硫酸エステル、界面活
性剤、チタンカップリング剤、シランカップリング剤等
も使用可能である。これらの潤滑剤（分散剤）はバイン
ダー１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲で添加
される。

潤滑剤としては上記の他にシリコンオイル、グラファイ
ト、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、炭素数１
２〜１６個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一価
のアルコールからなる脂肪真心７”１５ＩＩノ箇６丁ｇ
（ユ企濫オ６す１り１１１川１−４〜Ｊｌゴ壱トシ！、
ｎｋＩし脂と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が２１
〜２３個より成る一価のアルコールとから成る脂肪酸エ
ステル等が使用される。これらの潤滑剤はバインダー１
００重量部に対して０．２〜２０重量部の範囲で添加さ
れる。

またその他の添加剤としてはこの種のバンクコートに用
いるものは何でも用いることができるが、例えば帯電防
止剤としてサポニンなどの天然界面活性剤；アルキレン
オキサイド系、グリセリン系、グリシドール系などのノ
ニオン界面活性剤；高級アルキルアミン類、第４級アン
モニウム塩類、ピリジンその他の複素環類、ホスホニウ
ム又はスルホニウム類などのカチオン界面活性剤；カル
ボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エス
テル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸
類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸また
は燐酸エステル類等の両性活性剤などが使用される。

本発明のバックコート層で用いる有機バインダーは、従
来、磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化
性又は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得
られる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型の
樹脂が好ましい。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量がｉｏ、ｏｏｏ〜２００．ｏｉｔｏ、重合度が約２
００〜２，０００程度のもので、例えば塩化ビニール−
酢酸ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）
、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体
（カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩化
ビニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重
合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、
アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸
エステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エ
ステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステ
ル−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロ
ン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹
脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニト
リル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体
、ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロー
ス誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイアセ
テート、セルローストリアセテート、セルロースプロピ
オネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジェ
ン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル
−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合
成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物が使用され
る。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は２００，０００以下の分子量であり。

塗布、乾燥後に加熱することにより、縮合、付加等の反
応により分子量は無限大のものとなる。又、これらの樹
脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融
しないものが好ましい。具体的には例えばフェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂
、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アク
リル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセ
ルローソシアネートプレポリマーの混合物、メタクリル
酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物
、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合
物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／
高分子量ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネ
ートの混合物、ポリアミン樹脂、及びこれらの混合物で
ある。

而して好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレ
タンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）、或
いは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体（カルボン酸導入のものも含む）、又はアクリル変性
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
カルボン酸導入のものも含む）及びウレタンアクリレー
トからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、放射
線硬化系樹脂については前記の好ましい組合せの外に、
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれへのニス子ルＩｌ／存
給山１らか７カ旧「ノ工−舌鈷合、ジアリルフタレート
のようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘
導体等の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるい
は重合乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または
導入した樹脂等を用いることができる。その他、使用可
能なバインダー成分としては、単量体としてアクリル酸
、メタクリル酸、アクリルアミド等があるユニ重結合の
あるバインダーとしては、種々のポリエステル、ポリオ
ール、ポリウレタン等をアクリル二重結合を有する化合
物で変性することもできる。更に必要に応じて多価アル
コールと多価カルボン酸を配合することによって種々の
分子量のものもできる。放射線感応樹脂として上記のも
のはその一部であり、これらは混合して用いることもで
きる。さらに好ましいのは（Ａ）放射線により硬化性を
もつ不飽和二重結合を２個以上有する、分子量ｓ、ｏｏ
ｏ〜１００，０００のプラスチック状化合物、（Ｂ）放
射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有す
るか、又は放射線硬化性を有しない、分子量３，０００
〜１００．０００のゴム状化合物、および（Ｃ）放射線
により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有する、
分子量２００〜３，０００の化合物を、（Ａ）２０〜７
０重量％、（Ｂ）２０〜８０重量％、（Ｃ）１０〜４０
重量％の割合で用いた組合せである。

これにより、塗膜の破断強度が上り、塗膜の強化が為さ
れ、バックコート削れが少なく、バックコート層から磁
性層への無機充填剤粉末の移転がないためドロップアウ
トの少ない、がっ、ロール状に巻き取った形での硬化の
際の巻きしまりのない、長さ方向で均一の特性を有する
磁気記録媒体が得られる。

本発明の磁気記録媒体の製造において、有機バインダー
が熱硬化型では、製造過程において、バックコート層の
潤滑剤が磁性薄膜に裏型転写し、前述のような不安定な
走行にょる出力ダウンが発生し、画像が出なくなるとか
、或いは摩擦レベルが未だ大きく不十分であり、裏型転
写により強磁°性薄膜が取れたり或いは破壊されるとい
う現象が生じ好ましくない。そのためトップコートを最
初に行なうことが考えら九るが、操作上、傷つきやすく
不都合な場合が多い。更に、熱硬化型の場合、硬化時の
巻きしまりによるバックコート面の裏型転移のため、熱
硬化中のジャンボロールの内側、外側での電磁変換特性
の差が問題となる。

これに対して、放射線硬化型樹脂の場合、製造上、連続
硬化が可能であり、硬化時間も短かく、上記の裏型転写
がないのでドロップアウトが防止でき、その上、放射線
硬化及びトップコート処理がオンライン上で処理できる
ので、省エネルギー対策、製造時の人員の減少にも役立
ち、コストの低減にもつながる。特性面では熱硬化時の
巻きしまりによるドロップアウトの外に、ロール状に巻
かれたときの内外径の個所の圧力のちがいにより磁気テ
ープの長さ方向の距離による出力差が生じることもなく
なる。

前記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）からなる放射線硬化型樹
脂バインダーにおいて、（Ａ）だけでは柔軟性がなくも
ろく、ＣＢ）だけでは弾性の欠けより破壊エネルギー大
となるが、脆性エネルギーを大とするには限度があり、
また（Ａ）、（Ｂ）だけでは硬度が低いためか、高温多
湿下で粘着性を生じ静摩擦が高くなった。これに対し、
（Ａ）、（Ｂ）に更に（Ｃ）を組合せることにより、架
橋性が増大し、バインダーの引張り強度大、破断エネル
ギー、脆性エネルギーが大となり、パックコートケズレ
もなく、硬化度が高い強靭な塗膜になる。

そのため５０℃、８０％、５日間の高温保存下においた
ところ、粘着を生ぜず、摩擦係数も低く、画像ひずみを
生じなかった。これは（Ｃ）を加えることによりバック
コート膜の架橋性が増し、硬化度が増したためである。

（Ａ）、（Ｂ）に更に（Ｃ）を加えることにより、（Ａ
）、（Ｂ）のみよりなる組成の場合に比べ、（Ａ）成分
が低分子量の方迄使えるようになった。これは（Ａ）成
分よりなるプラスチック状のものを、（Ｃ）成分を導入
することにより可塑性を向上させた硬化度の向上となる
ため、粘弾性に富んだ脆性エネルギーの大か乙楡Ｗンか
。か＊、出１九六 本発明の放射線硬化型樹脂バインダーにおいて、（Ａ）
の分子量５，０００未満、（Ｂ）の分子量３．５００未
満では塗膜が固くなってバックコート削れが激しく、電
磁変換特性も低下し、また（Ｂ）の分子量１００，００
０を超えると分散不良のため電磁変換特性が低下すると
共に、（Ｂ）が放射線硬化性の場合にはその特性が低下
して強度低下を生じる。（Ｃ）については、分子量が３
゜０００を超えると架橋性が低下し、塗膜の強度が低下
する。（Ａ）は１０，０００〜８０，０００、（Ｂ）は
３．００’０〜８０，０００．（Ｃ）は２００〜２，５
００が好ましい分子量範囲で、（Ｂ）は放射線硬化性の
ものが、架橋性を上げ、塗膜強度が大となるので好まし
い。

（Ａ）、ＣＢ）、（Ｃ）の配合比率は、（Ａ）が２０〜
７０重量％、好ましくは３０〜７０重量％、（Ｂ）が２
０〜８０重量％、好ましくは２０〜６０重量％、（Ｃ）
が１０〜４０重景％、好ましくは１０〜３０重量％であ
る。

本発明の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の化合物の分子量は次
のような測定方法による数平均分子量によっている。

＊ＧＰＣによるバインダーの平均分子量測定ＧＰＣ（Ｇ
ｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔ　ｉｏｎ　Ｃｈｌｏｍａｔｏｇｒ
ａｐｈｙ）とは試料中の分子を移動相中のその大きさに
基いて分離する方法で、分子ふるいの役をする多孔質ゲ
ルをカラムに充填し液体クロマトグラフィーを行なう方
法である。

平均分子量を算出するには標準試料として分子量既知の
ポリスチレンを使いその溶出時間から検量線を作成する
。これよりポリスチレン換算の平均分子量を計算する。

与えられた高分子量物質中に分子量Ｍ１である分子がＮ
ｉ個あったとすると 数平均分子量Ｍ　ｎ　＝　ΣＮ１Ｍ１　で表わせる。

ΣＮｉ 本発明の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の化合物における不飽
和二重結合は１分子当り（Ａ）は２以上、好ましくは５
以上、（Ｂ）は１以上、好ましくは５以上、（Ｃ）は１
以上、爵ましくは３以上である。

本発明のバックコート層で有機バインダーが放射線硬化
型である場合、トップコート層で用いられる放射線硬化
型ポリマーと同様のものが用いられ、その樹脂組成物の
種類、組合せ、製法等に関してトップコート層の項で示
した例示は全てバンクコート層についても当てはめるこ
とができるものである。

高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間に架
橋を起こすものが知られている。分子間に架橋を起こす
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリド
ンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインがあ
る。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起るので、前記変性体
の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用バックコ
ート樹脂として使用可能である。

更にまた、この方法によれば溶剤を使用しないができる
ので、この様な樹脂をバックコート用として用いること
ができる。

本発明の放射線硬化性バインダー用組成物の特に好まし
い組合せとしては、（Ａ）の化合物が一部ケン化した塩
化ビニール−酢酸ビニール共重合体、カルボン酸が導入
された塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体、フェノキ
シ樹脂にポリイソシアネート化合物を反応させて得られ
たイソシアネート基を有する化合物に、イソシアネート
基との反応性を有する官能基をもつアクリル化合物ある
いはメタクリル化合物を反応させてなる化合物であり、
（Ｂ）の化合物がポリオールにイソシアネート化合物を
反応させて得られた、インシアネート化合物又はポリオ
ール（ポリウレタンエラストマー）に１反応性を有する
官能基をもつアクリル化合物あるいはメタクリル化合物
を反応させてなる化合物であり、（Ｃ）は多官能（メタ
）クリレートモノマー、オリゴエステルアクリレートま
たは（Ｂ）の低分子量化合物というものである。

リマーの架橋、バックコート層に用いる有機バインダー
、トップコート層あるいはバックコート層に含まわる潤
滑剤、酸化防止剤が放射線硬化型の場合の架橋に当って
使用する活性エネルギー線としては、放射線加速器を線
源とした電子線、Ｃ。

６０を線源としたシー線、５ｒ９０を線源としたβ−線
、ｘ、ｉｉｉ生器を線源としたＸ線あるいは紫外線等が
使用される。

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。

上記バックコート層、及びトップコート層を硬化する際
に使用する放射線特性としては、透過力の面から加速電
圧１００〜７５０ＫｅＶ、好ましくは１５０〜３００Ｋ
ａＶの放射線加速器を用い吸収線量を０．５〜２０メガ
ランドになるように照射するのが好都合である。

本発明の放射線硬化に際しては、米国エナージーサイエ
ンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速器
（エレクトロカーテンシステム）等がテープコーティン
グ加エラインへの導入、加速器内部の２次Ｘ線の遮蔽等
に極めて有利である。

勿論、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用してもよい。

また放射線架橋に際しては、Ｎ２ガス、Ｈｅガス等の不
活性ガス気流中で放射線をバックコート層、トップコー
ト層に照射することが重要であり、空気中で放射線を照
射することは、バインダー成分の架橋に際し放射線照射
により生じた０３等の影響でポリマー中に生じたラジカ
ルが有利に架橋反応に働くことを阻害するので極めて不
利である。

従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で５％である。Ｎ２、Ｈｅ、ＣＯ２
等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。

本発明のトップコート層には光重合増感剤を加えること
により紫外線硬化を行なうこともできる。

該光重合増感剤としては従来公知のものでよく、例えば
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル
、払−メチルベンゾイン、σ、−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフエン
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アントラキノン。

フエナントラキノン等のキノン類、ベンジルジスルフィ
ド、テトラメチルチウラムモノスルフィド等のスルフィ
ド類、等を挙げることができる。光重合増感剤は樹脂固
形分に対し、０．１〜１０重量％の範囲が望ましい。

磁気記録媒体の製造に際し、熱硬化系バックコート面形
成においては、バンクコート面を磁性面より先に形成す
るとバックコート面の熱硬化処理はベースとの巻きしま
りのためベース面の表面粗度を低下させ好ましくない。

そのため磁性面を形成した後熱硬化処理を行なっていた
。そのため、バンクコート処理は、磁性塗膜を支持体上
に形成した後、その支持体の裏面になされるのが普通で
あるが、本発明で放射線硬化性バインダーを用いた時カ
セットテープ、ビデオカセットテープ、ビデオテープ接
触転写プリント用マスターテープ等には本発明の放射線
硬化性バインダーを用いたバックコート層と、放射線硬
化型分子量２，０００未満の化合物、酸化防止剤と潤滑
剤を含有するトップコート層を設けた金属薄膜からなる
磁気記録層とを組合せることにより、極めて良好な電磁
変換特性と物性信頼性を有する高性能テープを得ること
ができ、本発明の磁気記録媒体は有用性の大きいすぐれ
たものであるということができる。

（ホ　■を　するための　のン、 以下に本発明の実施例を示す。なお、本発明がこの実施
例に限定されるものでないことは理解されるべきである
。

実施例１ （１）皿並亙立展戒 蓋盈並亙鳳上 厚さ１２　Ｐｍのポリエステルフィルムを円筒状冷却キ
ャンの局面に沿わせて移動させ、０２＋Ａし真空度を１
．０ＸＩＯ−’Ｔｏｒｒとしたチャンバー内で、Ｃｏ８
０、Ｎｉ２Ｏよりなる合金を溶融し、入射角９０°〜３
０°の部分のみ斜め蒸着し膜厚０．１５ｐｍのＣｏ−Ｎ
ｉ−０薄膜を形成した。酸素はベースとの界面およびベ
ースと反対側の表面に多く偏在していた。またベースと
反対側の表面はほぼ酸化物のみで覆われていた。Ｈｃ”
１００００ｅ。

膜中の平均酸素量はＣｏとＮｉに対する原子比（Ｏｘｌ
ＯＯ）で４０％であった。

ｏＮ　ｉ 孜員立亙１ス 厚さ１２．ｍｍのポリエステルフィルムを円筒状冷却キ
ャンの周面に沿わせて移動させ、真空度を５．０ＸＩＯ
−’Ｔｏｒｒとしたチャンバー内で、渡藍ｉ羨１上の場
合と同様に蒸着した。膜厚は０゜１５５ｍで実質的にＣ
ｏ−Ｎｉより成る。

このテープを９０℃、２０％ＲＨ雰囲気中で強制酸化し
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。Ｈｅ
”９０００ｅ、膜中の平均酸素量はＣｏとＮｉに対する
原子比で４５％であった。

羞Ｊｉｌｔ熊Ｊ− 酸素による酸化工程を省略した以外は蒐棗作１鳳１と同
様に厚さ！　２）−ｍのポリエステルフィルムを円筒状
冷却キャンの局面に沿わせて移動させ、真空度を５．０
Ｘ１０−ＩｓＴｏｒｒとしたチャンバー内で、蓋電作Ｌ
ＩＬ土の場合と同様に蒸着した。膜厚は０　、１’５　
Ｐｍで実質的にＣｏ−Ｎｉより成るものであった。Ｈｃ
＝９５００ｅ。

比 厚さ１２２ｍ幅１７２インチのポリエチレン・テレフタ
レートベースを真空度４．０Ｘ１０−６Ｔｏｒｒの真空
中で、その幅方向が蒸発源に対して５０°に傾斜するよ
うに走行させつつ、Ｃｏ７５−Ｎｉ２５（重量比）の合
金を蒸着せしめた。膜厚０．２Ｐｒｎでベースの長さの
方向の磁気特性が抗磁力４２００ｅ、角型比０．８０の
磁性薄膜が得られた。

（２）バックコート層の形成 バックコート　１　（熱硬化型）　重量部酸化亜鉛　８
０ｍＰ　２００ 硬化剤　コロネートＬ　２０ 潤滑剤　ステアリン酸変性シリコーン　４ステアリン酸
ブチル　２ 硝化綿　４０ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
積木化学製、エスレックＡ）　３０ポリウレタンエラス
トマー　３０ （Ｂ、Ｆグツドリッチ社製、エラセン５７０３）混合溶
剤（ＭＩＢＫ／トルエン）２５０重量部の混合物を良く
混合溶解させる。

この塗料を１５／−のポリエステルフィルム上に塗布し
、赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた後、
表面平滑化処理後、８０℃に保持−たオーブン中にロー
ルを４８時間保持し、イソシアネートによる架橋反応を
促進させた。

バックコート　２　重量部 カーボンブラック　５゜ （Ａ）アクリル変性塩ビー酢ビービニルアルコール共重
合体　分子量４５．０００　５０（Ｂ）アクリル変性ポ
リウレタンエラストマー分子量　５．０００　５０ ステアリン酸　２ ステアリン酸ブチル　２ 混合溶剤（ＭＩＢＫ／ト／Ｌｒ−ン＝１／１）３００上
記混合物をボールミル中５時間分散させ、磁性面が形成
されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚ＩＰに
なるように塗布し、エレクトロカーテンタイプ電子線加
速装置を用いて加速電圧１５０Ｋｅｙ、電極電流１０ｍ
Ａ、吸収線量５　Ｍ　ｒ　ａｄ、Ｎ２ガス中で電子線を
バックコート層に照射した。

バックコート　３　重量部 硫化亜鉛　粒径可変　３゜ カーボンブラック　２５ アクリル変性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体（分子量３万）　４０７／１Ｊ１１１＋７亦
Ｊ４Ｊ１１Ａｈ＃％、？二Ｍ　＋　＋分子量２０．００
０　４０ 多官能アクリレ一ト分子量１．０００　２０オレイン酸
　４ ステアリンメタクリレート　２ 混合溶剤（ＭＩＢＫ／トルエン）　２５０これらをバッ
クコート層２と同様に処理、製造した。

、さうヶク≦１ユ１す１」−重量部 Ｃａ　Ｃ０３８０ｍ　Ｐ５０ アクリル変性塩ビ一酢ビービニルアルコール共重合体　
分子量３０．０００　３０ アクリル変性ポリウレタン工ラストマー分子量５０．０
００　３０ アクリル変性フエノキシ樹脂 分子量３５．０００　２０ 多官能アクリレ一ト分子量５００　２０ステアリン酸　
４ 溶剤（ＭＥＫ／）−ルエン＝１／１）　３００これらを
上記と同様に処理、製造した。

（３）トップコート層の形成 Ｏトップコート組成 ・プコー　１　重量部 ２．６ジ第三ブチルｐ−クレゾール　１ペンタ工リスリ
トールテトラアクリレート分子量３５２　１．５ ステアリン酸　０．１ ＭＥＫ　１００ トツプコート　２ モノグリコールサリチレートアクリレート　１ペンタ工
リスリトールテトラアクリレート分子量３５２　０．６ Ｎ−ビニルピロリドン分子量１１１　０．３ミリスチン
酸　０．３ ミリスチルアルコールのメタクリレート　１．ＯＭＥＫ
／トルエン（Ｌ／１）　１００ トツプコー韮 ジメチルアミノエチルメタクリレート　１トリメチルプ
ロパントリアクリレ一ト 分子量２９６　０．６ Ｎ−ビニルピロリドン分子量１１１　０’、３ステアリ
ン酸　０．１ ＭＥＫ／トルエン（１／１）　１００ トツプコート　４ メタアクリロキシエチルホスフェート　２特殊アクリレ
ートＤ　分子量５３４　１ステアリン酸　０．１ ステアリン酸変性シリコーン　０．１ トルエン　１００ トップコート組　５ ステアリルアルコールメタクリレートホスフェート　１ 特殊ペンタ工リスリトール綜合物Ｃ 分子量１２８２　１ ステアリン酸のアクリレート　０．２ ＭＥＫ／トルエン（１／１）　１００ ０トツプコート　の　゛　び性゛ １、トップコート層１は強磁性薄膜（１）上、トップコ
ート組成ｌをそのまま塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、
電極電流６ｍＡ、３Ｍｒ　ａｄ、Ｎ２ガ１　山−ｎ１＋
２２　１１Ｊ　＊、ｇ　す八　Ｊｂ　會ｒ＊　＋＜　Ｃ
：　ｎ　人　−ｙｓ　＊　−４−１２、トップコート層
２は強磁性薄膜（２）上、トップコート組成２を塗布し
、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流６ｍＡ、３　Ｍ　ｒ
　ａ　ｄ　、　Ｎ　２ガス中で照射を行なった。膜厚が
３００八であった。

３、トップコート層３は強磁性薄膜（１）上、トップコ
ート組成３を塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ。

電極電流１０ｍＡ、５Ｍｒａｄ、Ｎ２ガス中で照射を行
なった。膜厚が１００Ａであった。

４、トップコート層４は強磁性薄膜（３）上、トップコ
ート組成４を塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流
１０ｍＡ、５　Ｍ　ｒ　ａ　ｄ　、Ｎ２ガス中で照射を
行なった。膜厚が１００Ａであった。

５、トップコート層５は強磁性薄膜（２）上にトップコ
ート組成５を塗布し、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流
１０ｍＡ、５Ｍｒａｄ、Ｎ２ガス中で照射を行なった。

膜厚が１５０八であった。

６、ト・・プコート　６　重量部 ａ、ジメチルアミノエチルメタクリレート　ＩＮ−ビニ
ルピロリドン分子量１１１　２ＭＥＫ／　トルエン（１
／１）　１００このものを強磁性薄膜（１）上に塗布、
加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流１０ｍＡ、５　Ｍ　ｒ
　ａ　ｄ　。

Ｎ２ガス中で照射を行なった。

壬の上に す、ステアリルメタクリレート　０．３フツ素オイル（
テロメリゼーシ目ン法）０．２ＭＥＫ　、　、　１００ を塗布、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流４ｍＡ、２Ｍ
ｒａｄ−Ｎ２ガス中で照射を行なった。膜厚が１１０Ａ
であった。

７、強磁性薄膜（２）上のトップコート組成６のａの上
に４Ｘ１０−３Ｔｏｒｒの条件の雰囲気中でステアリル
アルコールを吸着させた。膜厚は１１０八であった。

８、強磁性薄膜（２）上のトップコート組成６のａの上
に４　Ｘ　１０−３Ｔｏ　ｒ　ｒの条件の雰囲気中でフ
ッ素変性オイルを吸着させた。膜厚は１０５Ａであった
。

比　トップコート１ トップコート１の組成の中から放射線硬化型分子量２，
０００未満の化合物を除き、その除いた分量だけ酸化防
止剤の分量を増やしたものである。

比　トップコート２ トップコート３の組成の中から放射線硬化型分子量２，
０００未満の化合物を除き、その除いた分量だけ酸化防
止剤の分量を増やしたものである。

これらの強磁性薄膜、バックコート、トップコートを各
々組合せて得られる磁気記録媒体の特性を以下の表に示
す。

叉凰舅上−１ 強磁性薄膜１にバックコート層１を形成し、トップコー
ト層１或いは３を各々形成した。

崖敢■上ユλ 強磁性薄膜の比較例のもの、又は強磁性薄膜ｌにバック
層ｌを１次いで各々比較トップコート層１．２を設けた
。

これらの例の磁気記録媒体の特性を第１表に示す。

第１表から、トップコート層に放射線硬化型ポリマーを
入れたものは、４０℃、６０％の走行性が改善されるこ
と（磁性面側の摩擦係数の上昇から判る、比較例では摩
擦係数０．７以上となって２回でストップする）、また
トップコート削れ。

ガイド付着もポリマーなしの場合は大であったのが、小
〜中となるなど、改善されることが判る。

ヌｍよ 強磁性薄膜ｌ又は３にバック層２を形成し、その後トッ
プコート層３又は４を形成した。

失凰餌立 強磁性薄膜３に、ａではバック層ｌ、トップ層１の順で
、ｂではトップ層１、バック層１の順で各層を形成した
。

皮較板１−±−１ 表に示した各強磁性薄膜上に、同じく表に示したバック
層、トップ層をその順に形成した。

各磁気記録媒体の特性を第２表に示す。

第２表の結果を以下に考察する。

１．トップコート層に放射線硬化型分子量２，０００未
満の化合物が入ったことにより、摩擦が改良され、走行
性が改善され、トップコート削れ、バックコート削れも
改良される。

２、比較例３と実施例５−ａ、ｂを比べると、比較例３
ではトップコート層、バックコート層が放射線硬化型で
ないため熱硬化時の巻きしまりにより不均一となり、ト
ップコート面がケズレやすい。

また比較例３ではトップコート層が熱硬化性で熱硬化時
には硬化していないためバック層よりの裏型転写の影響
を受けて目づまりし易い。

一方、実施例５ではトップ層が放射線硬化タイプのため
、ａでは比較例３のように熱硬化時の巻きしまりがない
ので、バック層１の熱硬化時の影響だけである。そのた
めトップコートケズレも少なくなり、出力安定性も良く
なる。

バック、１〜ツブコートの形成方法については実施例５
のｂのようにトップ層を最初に形成しておいた方がバッ
ク層からの影響が少なくなり、出力安定性が良好となる
が、工程上、最初にトップコートを形成するとバックコ
ート工程でケズレやすいので工程管理を厳しくせねばな
らない。

３、実施例５−ａ、ｂと実施例３．４とを比べると両側
とも放射線硬化型の方が摩擦が低く、トップコートケズ
レも少ない。オンラインで操作できるため裏型転写がな
く、出力安定性は良好である。熱硬化時の巻きしまりが
ないためトップコートの表面性が良好であり、出力の低
下がない。ドロップアウトも巻きしまりによる影響がな
いため良好である。スチール特性は裏型転写による影響
がないため１０分以上と良好である。防錆性も良好であ
る。

両面放射線硬化型の場合はバック層、トップ層どちらが
先に形成されてもよい。

ヌ１］［（二ュ」− 強磁性薄膜（２）にバック層３（バインダーとしてＡＢ
Ｃ３成分を含む）を形成し、次いで各種トップ層を形成
したものについての特性を、バック層３の代りにバック
層２（ＡＢ２成分）を形成した参考例と比較した結果を
第３表に示す。

第３表の結果について以下に考察する。

１．４０℃、６０％走行ではバック層３成分よりなるも
のは５０回走行後での摩擦の上昇が少ない。

またパックコートケズレも全くない。そのためドロップ
アウトも少ない。

２、型持出力、スチール特性はいずれも良好である。バ
ックコート削れ、ドロップアウト、表面性についてはバ
ックコート３成分よりなるものの方が良好であることが
判った。

３、実施例８の２層コーティングのものは１層コーティ
ングのものより潤滑効果が良好のため摩擦係数が低いこ
とが判った。また蒸着法によるトップコートも２層コー
ティングの効果が生かされ良好なことが判った。更に表
面性を表に記載した以外の部分について顕微鏡モ観察し
たところ、蒸着法によるトップコートの表面性がこの中
で一番良いことも判った。また摩擦レベルが最も低いこ
とが判る。防錆性も良好である。

去’１１．１２一 実施例１１：実施例６においてベンゾインエチルエーテ
ル１部を溶解し塗布後、紫外線ランプ（出力８０Ｗ／有
効管長１ｃｍ）の下で毎分３０ｍのラインスピードで硬
化させた。

実施例１２：実施例６においてベンゾフェノン２部を溶
解し塗布後、紫外線ランプ（出力８０Ｗ／有効管長１ｃ
ｍ）の下で毎分３０ｍのラインスピードで硬化させた。

これらの特性を第４表に示すが、この表から判るように
紫外線硬化型のものでも良好な特性が得られている。

第　４　表 上記特性の測定方法について以下に記す。

１、スチール特性 ５　Ｍ　Ｈｚで記録し、再生出力のスチール特性を測定
す４．１０分以上をＯＫレベルとする。

２．４０℃、６０％走行 一般市販のＶＨ８方式ＶＴＲを改造し、初期摩擦、走行
後の摩擦を測定する。摩擦測定はデツキにテンションア
ナライザーを組み込んで行なう。

３、接触角 投影型の測定器にて注射器で一定量の水滴をたらし、１
分後の接触角を投影機より読みとる。

４、表面性 干渉顕微鏡にて５０．４００倍の倍率にて目視、及び写
真により調査する。

５、出力 中心周波数５　Ｍ　Ｈｚで記録、再生した場合のＳ／Ｎ
比（相対値）を示す。ＶＨ８のＶＴＲを改造し５　Ｍ　
Ｈｚまで測定できるようにする。

６、錆 ５０℃、９０％ＲＨの環境下に２日間保存する。

７、バックコート、トップコート面削れ一般市販のＶＨ
８方式ＶＴＲを改造し、４０°Ｃ１６０％走行にて５０
回走行後のバックコート。

トップコート面削れを観察する。バックコートについて
はＯ：非常にきれい、０：汚れがない、Δ：やや汚れ、
×：汚れがひどい、という状態を表わし、トップコート
については◎：削れかない、０：汚れ小、Δ：汚れ中、
×：汚れ大、という状態を表わす。

８・　ドロップアウト ２０℃、６０％でＶＨＳデツキを用い５ＭＨｚの単一信
号を記録し、再生した場合の信号が、平均再生レベルよ
り１８ｄＢ以上低下する時間が１５Ｐ秒以上であるもの
の個数を、サンプル１０個について１分間肖りで数え、
その平均をとる。

代理人　人多和　明敏 代理人　大多和　暁子

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基材の一方の面に強磁性薄膜からなる磁気
   記録層、他方の面にバックコート層を設けた磁気記録媒
   体において、該磁気記録層には、強磁性薄膜の表面上に
   放射線硬化型分子量２゜０００未満の化合物、酸化防止
   剤及び潤滑剤を含有するトップコート層が設けられ、該
   バックコート層が無機顔料、有機バインダー、潤滑剤を
   含む塗膜からなることを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）バックコート層の有機バインダーが放射線硬化型
   樹脂である、特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体
   。
3. （３）バックコート層の有機バインダーが（Ａ）放射線
   により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個以上有する分
   子量５，０．００−１００゜０００のプラスチック状化
   合物。 （Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
   以上有するか、又は放射線硬化性を有しない、分子量３
   ，０００〜１００，０００のゴム状化合物、および （Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個
   以上有する、分子量２００〜３，０００の化合物 よりなる樹脂組成物である特許請求の範囲第２項記載の
   磁気記録媒体。
4. （４）トップコート層の酸化防止剤が放射線硬化型のも
   のである特許請求の範囲第１項、第２項または第３項記
   載の磁気記録媒体。
5. （５）潤滑剤が放射線硬化型のものを含むものである特
   許請求の範囲第１項、第２項、第３項または第４項記載
   の磁気記録媒体。