JPS6021596A - 印刷配線板の製造方法 - Google Patents
印刷配線板の製造方法Info
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- JPS6021596A JPS6021596A JP12797783A JP12797783A JPS6021596A JP S6021596 A JPS6021596 A JP S6021596A JP 12797783 A JP12797783 A JP 12797783A JP 12797783 A JP12797783 A JP 12797783A JP S6021596 A JPS6021596 A JP S6021596A
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Landscapes
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「発明の技術分野1
本発明は、l?ミアゲイディブ法ににる印刷配線板の製
造方法に係り、特に回路精度、スルーボール信頼1!1
の優れた印刷配線板の製造方法に関lる。
造方法に係り、特に回路精度、スルーボール信頼1!1
の優れた印刷配線板の製造方法に関lる。
[発明の技術的背景とその問題点]
従来、印刷配線+i +11、銅張積層板を木材とし、
回路となる部分にフA−トレジスト、インクレジスト等
を用いてパターンを印刷し、これを硬化させた後、塩化
第二鉄や塩化第二銅の水溶液を用いて印刷されていシ1
い露出部分を1ニツヂング除去して回路を形成りるエツ
チドフォイル法が主流であっlこ 。
回路となる部分にフA−トレジスト、インクレジスト等
を用いてパターンを印刷し、これを硬化させた後、塩化
第二鉄や塩化第二銅の水溶液を用いて印刷されていシ1
い露出部分を1ニツヂング除去して回路を形成りるエツ
チドフォイル法が主流であっlこ 。
エツヂドフォイル法ひは、素材となる銅鶴の70〜80
%が■ツヂング除去isれるためMlとしてのコストが
高くイすることや、スルーホール部の接続を電気銅メッ
キで行うため基板表裏の銅箔はメッキにより10〜80
ミク[1ンの厚さどなり、これが1ツチング処J!I!
′C:C:開時間り−ることになり、アンダーカッ1
ヘヤ)オーバー・ハング等の現象をおこし、回路精度の
高い印刷配線板の製造には適さない等、まだ問題がある
。
%が■ツヂング除去isれるためMlとしてのコストが
高くイすることや、スルーホール部の接続を電気銅メッ
キで行うため基板表裏の銅箔はメッキにより10〜80
ミク[1ンの厚さどなり、これが1ツチング処J!I!
′C:C:開時間り−ることになり、アンダーカッ1
ヘヤ)オーバー・ハング等の現象をおこし、回路精度の
高い印刷配線板の製造には適さない等、まだ問題がある
。
111年、−に記Jツヂドフォイル法の欠点を解消し、
回路のファインパターン化、イ[(コスト化、省資源化
に対応Jべく必要な回路のみを化学メッキ及び電気メッ
キで形成J−るセミアディティブ法が急速に発1バして
ぎた。 セミアディティブ法は、スルーボールを右Jる
積層板上にアクリルニトリルゴl\どノボラック型フェ
ノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂またはエポキシ
樹脂などとの混合物からなる熱硬化型ブタジェン系接着
剤を塗イhし、加熱硬化せしめて接着剤層を形成し、こ
の接着剤層を親水化及び活P1化処理し、更にスルーホ
ール内壁を含む全面に化学銅メッキ層を゛形成した1G
。
回路のファインパターン化、イ[(コスト化、省資源化
に対応Jべく必要な回路のみを化学メッキ及び電気メッ
キで形成J−るセミアディティブ法が急速に発1バして
ぎた。 セミアディティブ法は、スルーボールを右Jる
積層板上にアクリルニトリルゴl\どノボラック型フェ
ノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂またはエポキシ
樹脂などとの混合物からなる熱硬化型ブタジェン系接着
剤を塗イhし、加熱硬化せしめて接着剤層を形成し、こ
の接着剤層を親水化及び活P1化処理し、更にスルーホ
ール内壁を含む全面に化学銅メッキ層を゛形成した1G
。
ホール内壁と所定の回路パターンを除く全面にメツキレ
ジス1へを被覆する。 次いで電気銅メッキを施してボ
ール内壁及び所定の回路パターンに電気銅メッキ層を形
成した後、前記レジストを剥離し露出Jる化学銅メツ4
一層を過硫酸アンモニウム等のエツチング液で溶解除去
して印刷配線板を製造づる方法である。
ジス1へを被覆する。 次いで電気銅メッキを施してボ
ール内壁及び所定の回路パターンに電気銅メッキ層を形
成した後、前記レジストを剥離し露出Jる化学銅メツ4
一層を過硫酸アンモニウム等のエツチング液で溶解除去
して印刷配線板を製造づる方法である。
しかしながら、前記セミアディティブ法は、化学銅メッ
キ層にこれど[61じ祠負の電気銅メッキ層を形成さけ
るため、化学銅メッキ層を過硫酸)アンモニウム等でT
ツヂングMる際、電気銅メッキ層も■ツヂングされる欠
点h<ある。 しがも電気メッキされるスルーホール内
壁はJcil様に電気メッキされる回路パターンに比し
Cコ−ツヂング液の液切れが悪いためXlツヂング庶合
いが回路パターンの2〜5倍となる。 !!■にスルー
ホールコーナ一部は」−ツヂング液が溜りfすlく、]
〕ツチノツチングよってはわずか 1〜3ミク[]ンの
化学銅メッキ層を]、ツチングリ−る間にコーナ一部の
電気銅メッキ層、化学銅メッキに?1仝てがエツチング
され、断線を起こづ一場合もある。 J111論上ファ
インパターン化を可能とするセミアディティブ法である
が実際の工程では;1:だJ:だ欠点が多い。
キ層にこれど[61じ祠負の電気銅メッキ層を形成さけ
るため、化学銅メッキ層を過硫酸)アンモニウム等でT
ツヂングMる際、電気銅メッキ層も■ツヂングされる欠
点h<ある。 しがも電気メッキされるスルーホール内
壁はJcil様に電気メッキされる回路パターンに比し
Cコ−ツヂング液の液切れが悪いためXlツヂング庶合
いが回路パターンの2〜5倍となる。 !!■にスルー
ホールコーナ一部は」−ツヂング液が溜りfすlく、]
〕ツチノツチングよってはわずか 1〜3ミク[]ンの
化学銅メッキ層を]、ツチングリ−る間にコーナ一部の
電気銅メッキ層、化学銅メッキに?1仝てがエツチング
され、断線を起こづ一場合もある。 J111論上ファ
インパターン化を可能とするセミアディティブ法である
が実際の工程では;1:だJ:だ欠点が多い。
U発明の目的1
本発明の目的は、十記しミ7ディティブ法の問題点を解
消し、回路パターン精度、スルーボール信頼1(1に優
れた印刷配線板の製造み払を提供しようとするものであ
る、。
消し、回路パターン精度、スルーボール信頼1(1に優
れた印刷配線板の製造み払を提供しようとするものであ
る、。
[発明の概要」
本発明は上記の目的を達成させるためには、電気銅メッ
キ層表面にエツチング液に溶解しない又は溶解しにくい
保護層を形成させ、かつ後工程の酸処理で保護層が容易
に溶解剥離可能な工程を見い出Uばよいことに着眼し、
鋭意研究を重ねた。
キ層表面にエツチング液に溶解しない又は溶解しにくい
保護層を形成させ、かつ後工程の酸処理で保護層が容易
に溶解剥離可能な工程を見い出Uばよいことに着眼し、
鋭意研究を重ねた。
その結束、酸化剤を含む水溶液で処理することにより、
エツチング液には溶解しにくく、酸処理には容易に溶解
除去できる酸化物層を得ることができた。 この酸化物
層の形成により、スルーホール内壁及び回路パターン」
−の電気銅メッキ層のエツチングを防止して、回路パタ
ーン精度が良好でスルーボール信頼性の極めて高い印刷
配線板の製造方法を見い出した。
エツチング液には溶解しにくく、酸処理には容易に溶解
除去できる酸化物層を得ることができた。 この酸化物
層の形成により、スルーホール内壁及び回路パターン」
−の電気銅メッキ層のエツチングを防止して、回路パタ
ーン精度が良好でスルーボール信頼性の極めて高い印刷
配線板の製造方法を見い出した。
即ち、本発明は、スルーホールを有する接着剤イ」積層
板を親水化及び活性化処理し、スルーホール内壁を含む
全表面に化学銅メッキ層を形成した後、スルーホール内
壁と回路部分を除く表面にメツキレジストを被覆して回
路パターンを形成し、更に前記スルーホール内壁と回路
パターン表面上5− に電気銅メツ−1一層を形成しでイ【る基板全体を酸化
剤を含む水溶液C処Jll! !、て前記?11′気銅
メッキ層表面に酸化物層を形成さけ/、:後、前記メッ
キ1ノジス[・を剥離し、露出した前記化学銅メッキ層
を過硫酸アンモニウム水溶液で溶解除去し、次いで酸処
理を施して前記酸化物層を溶解除去せしめることを特徴
と覆る印刷配線板の製造方法である。
板を親水化及び活性化処理し、スルーホール内壁を含む
全表面に化学銅メッキ層を形成した後、スルーホール内
壁と回路部分を除く表面にメツキレジストを被覆して回
路パターンを形成し、更に前記スルーホール内壁と回路
パターン表面上5− に電気銅メツ−1一層を形成しでイ【る基板全体を酸化
剤を含む水溶液C処Jll! !、て前記?11′気銅
メッキ層表面に酸化物層を形成さけ/、:後、前記メッ
キ1ノジス[・を剥離し、露出した前記化学銅メッキ層
を過硫酸アンモニウム水溶液で溶解除去し、次いで酸処
理を施して前記酸化物層を溶解除去せしめることを特徴
と覆る印刷配線板の製造方法である。
本発明をざらIJ8″F+、<説明する。
まず、メッキの下地としく接着剤層を表面にもつ積層板
すなわち、1g着剤イ1ぎ積層板をつくる。
すなわち、1g着剤イ1ぎ積層板をつくる。
紙フェノール基材、紙−r−ボー1ニジ阜材、ガラスエ
ポキシ基材の積層板に、接着剤として例えばアクリルニ
1〜リルゴムとノボラック511、レゾール型のフェノ
ール樹脂ヌは/及びエポキシ樹脂とからなり、必要に応
じて微粉末シリカ、ジルコニウム化合物を配合した樹脂
を塗布、転写した接着剤付プリプレグを用いて同時成形
等を行い接着剤付積層板を得る。 この積層板にプレス
等によってスルーボールを設け、次いで接着剤層ど化学
銅メッキ層の密着強度を−にげるためにり自ム酸−硫酸
、重り[16一 l\煎〜(イを酸、り目ム酸〜ホウフッ耐等を用いて親
水化処Jq!を行い、次いで通常行われている塩化第一
スズ、塩化パラジウム、塩酸を含む活性化処理液を用い
て活性化処理を行う。 親水化及び活性化処理を施した
スルーホールを有づる接着剤イー1ぎ積層板表面に化学
銅メッキを行い通常3〜5flIl11ワの化学銅メッ
キ層を形成させる。 次にスルーボール内壁と必要回路
部分を除く表面にメツキレジストを被覆して回路パター
ンを形成する。これはスルーホール内壁と回路パターン
の電気銅メッキを行うためのものでスクリーン印刷等に
よって行われる。 次いでメツキレシストが被覆されて
いないスルーホール内壁と回路パターン部に電気銅メッ
キ層を形成させる。 電気銅メッキ浴として1jピロリ
ン酸銅浴、硫酸浴等が使用されビロリン酸銅浴はメッキ
のつきまわりが良く緻密な電気銅が得られ、またスルー
ホールの信頼性も良い。
ポキシ基材の積層板に、接着剤として例えばアクリルニ
1〜リルゴムとノボラック511、レゾール型のフェノ
ール樹脂ヌは/及びエポキシ樹脂とからなり、必要に応
じて微粉末シリカ、ジルコニウム化合物を配合した樹脂
を塗布、転写した接着剤付プリプレグを用いて同時成形
等を行い接着剤付積層板を得る。 この積層板にプレス
等によってスルーボールを設け、次いで接着剤層ど化学
銅メッキ層の密着強度を−にげるためにり自ム酸−硫酸
、重り[16一 l\煎〜(イを酸、り目ム酸〜ホウフッ耐等を用いて親
水化処Jq!を行い、次いで通常行われている塩化第一
スズ、塩化パラジウム、塩酸を含む活性化処理液を用い
て活性化処理を行う。 親水化及び活性化処理を施した
スルーホールを有づる接着剤イー1ぎ積層板表面に化学
銅メッキを行い通常3〜5flIl11ワの化学銅メッ
キ層を形成させる。 次にスルーボール内壁と必要回路
部分を除く表面にメツキレジストを被覆して回路パター
ンを形成する。これはスルーホール内壁と回路パターン
の電気銅メッキを行うためのものでスクリーン印刷等に
よって行われる。 次いでメツキレシストが被覆されて
いないスルーホール内壁と回路パターン部に電気銅メッ
キ層を形成させる。 電気銅メッキ浴として1jピロリ
ン酸銅浴、硫酸浴等が使用されビロリン酸銅浴はメッキ
のつきまわりが良く緻密な電気銅が得られ、またスルー
ホールの信頼性も良い。
こうしてスルーホール内壁と回路パターン上に電気銅メ
ッキ層を形成した基板全体を亜塩素酸塩又は塩素酸塩を
含むノフルカリ水溶液等の酸化剤を含む水溶液で処理し
C電気銅メツキーにに酸化物層を形成ざIる。 本発明
の第一のポイン[〜は酸化剤を含む水溶液を使用り−る
ことである。 酸化剤どしては、塩素酸塩、ししくは亜
塩素酸塩、もしくは次亜鮎A * M塩のアルカリ水溶
液、過硫酸塩を含むアルカリ水溶液、硫酸銅−過マンガ
ン酸カリ混液、次亜硫酸ソーダー酢酸鉛混液、硫酸銅−
塩素酸カリ混液などが挙げられる。 また必要に応じて
yjh作用を行う物質を添加してもよい。 処理方法と
しでは浸漬が一般的で通常80〜90℃で5分間稈麻浸
漬づ−れば十分である。 次に前記メツキレシスト被膜
を剥離して、露出した化学銅メッキ層を過硫酸アンモニ
ウム水溶液ぐ溶解除去する。
ッキ層を形成した基板全体を亜塩素酸塩又は塩素酸塩を
含むノフルカリ水溶液等の酸化剤を含む水溶液で処理し
C電気銅メツキーにに酸化物層を形成ざIる。 本発明
の第一のポイン[〜は酸化剤を含む水溶液を使用り−る
ことである。 酸化剤どしては、塩素酸塩、ししくは亜
塩素酸塩、もしくは次亜鮎A * M塩のアルカリ水溶
液、過硫酸塩を含むアルカリ水溶液、硫酸銅−過マンガ
ン酸カリ混液、次亜硫酸ソーダー酢酸鉛混液、硫酸銅−
塩素酸カリ混液などが挙げられる。 また必要に応じて
yjh作用を行う物質を添加してもよい。 処理方法と
しでは浸漬が一般的で通常80〜90℃で5分間稈麻浸
漬づ−れば十分である。 次に前記メツキレシスト被膜
を剥離して、露出した化学銅メッキ層を過硫酸アンモニ
ウム水溶液ぐ溶解除去する。
本発明の第二のポイン1−は、前記酸化剤を含む水溶液
で形成ぼしめた酸化物層を酸の希釈水溶液で処理溶解除
去]Iしめることである。 酸としては、塩酸、硫酸、
リン酸等が用いられスプレー又は浸漬で行われる。
で形成ぼしめた酸化物層を酸の希釈水溶液で処理溶解除
去]Iしめることである。 酸としては、塩酸、硫酸、
リン酸等が用いられスプレー又は浸漬で行われる。
その他一般的な処理操作、例えば親水化処]!J! 1
1の中和処理や活性化処理前の塩酸処理等を行うことは
、本発明の効果を損なうものではない。
1の中和処理や活性化処理前の塩酸処理等を行うことは
、本発明の効果を損なうものではない。
以」二のどどぎ工程を経て回路精度、スルーボールの信
頼1′!1の優れた印刷配線板の製造方法を提供ツるこ
とができる。
頼1′!1の優れた印刷配線板の製造方法を提供ツるこ
とができる。
[発明の実施例]
以下、実施例により本発明をより具体的に説明覆る。
実施例
紙■ボキシ積層板(当21製E P ’L )にアクリ
ル二1〜リルゴム40重量部、レゾール型71ノール樹
脂20重間部、ビスフェノール型エポキシ樹脂20重量
部、微粉末シリカ10重開部及び硬化剤10@m部をメ
ヂルエヂルケI・ソートルエン混合溶剤で溶解した化学
メッキ用接着剤をディップ方式で塗布し風乾後、160
℃で40分間加熱硬化して厚さ約30ミクロンの接着剤
層を形成した。 続いてこの接着剤層fqftli層板
の所定個所にドリルでスルーホールをあ()た侵、接着
剤層をり1]ム酸−硫酸混液で親水化処理し、常法に従
って活性化処理をした後、化学銅メッキ液に浸漬し、2
.0μの化学銅メッキ9一 層をスルーホール内ε!を含む全面に形成した。
ル二1〜リルゴム40重量部、レゾール型71ノール樹
脂20重間部、ビスフェノール型エポキシ樹脂20重量
部、微粉末シリカ10重開部及び硬化剤10@m部をメ
ヂルエヂルケI・ソートルエン混合溶剤で溶解した化学
メッキ用接着剤をディップ方式で塗布し風乾後、160
℃で40分間加熱硬化して厚さ約30ミクロンの接着剤
層を形成した。 続いてこの接着剤層fqftli層板
の所定個所にドリルでスルーホールをあ()た侵、接着
剤層をり1]ム酸−硫酸混液で親水化処理し、常法に従
って活性化処理をした後、化学銅メッキ液に浸漬し、2
.0μの化学銅メッキ9一 層をスルーホール内ε!を含む全面に形成した。
その後スルーボール内壁及び所定の回路パターンを除く
化学銅メッキ層仝而にメツキレシストを被覆した。 次
いC;)%硫酸水溶液で活ヤ1化し、電気銅メッキ処理
をしてスルーホール内壁及び回路パターンに電気銅メッ
キ層を形成した。 次に亜塩素酸すIヘリウI\4(l
a/ 、Q 、水酸化プトリウム15(]/j!、お
よび緩衝剤としてリン酸ナトリウム50/ j!を含む
水溶液に80℃で5分間浸漬し電気銅メッキ層上に黒色
の酸化物層を得た。 次に塩化メチレンを用いてメツキ
レジストを剥1ilt除去した後、20%過硫酸ファン
しニウム液に浸漬して露出した化学銅メッキ層を溶解除
去した。
化学銅メッキ層仝而にメツキレシストを被覆した。 次
いC;)%硫酸水溶液で活ヤ1化し、電気銅メッキ処理
をしてスルーホール内壁及び回路パターンに電気銅メッ
キ層を形成した。 次に亜塩素酸すIヘリウI\4(l
a/ 、Q 、水酸化プトリウム15(]/j!、お
よび緩衝剤としてリン酸ナトリウム50/ j!を含む
水溶液に80℃で5分間浸漬し電気銅メッキ層上に黒色
の酸化物層を得た。 次に塩化メチレンを用いてメツキ
レジストを剥1ilt除去した後、20%過硫酸ファン
しニウム液に浸漬して露出した化学銅メッキ層を溶解除
去した。
この間電気銅メツ47層の酸化物層に変化は生じなかっ
た。 次に1規定J3.i ’e111に数秒間浸漬処
理し電気メツキ層表面の酸化物層を溶解除去して印刷配
線板を得た。
た。 次に1規定J3.i ’e111に数秒間浸漬処
理し電気メツキ層表面の酸化物層を溶解除去して印刷配
線板を得た。
得られた印刷配線板におljるスルーホール内壁及び回
路パターンの電気銅メッキ層の厚さを1ツヂング処即前
の電気銅メッ二V層の状態と比較した− 10− ところその厚さはほとんど変化しておらず、しかもスル
ーホール内壁と回路パターンとの銅メッキ厚さのバラつ
きは全く認められなかった。 第1図及び第2図に示し
たごとく銅メッキ層が精度よく付着していた。
路パターンの電気銅メッキ層の厚さを1ツヂング処即前
の電気銅メッ二V層の状態と比較した− 10− ところその厚さはほとんど変化しておらず、しかもスル
ーホール内壁と回路パターンとの銅メッキ厚さのバラつ
きは全く認められなかった。 第1図及び第2図に示し
たごとく銅メッキ層が精度よく付着していた。
比較例
実施例と同様の方法で化学メッキ用接着剤例積層板を作
り、穴あ(ブ、親水化、活性化、化学銅メッキ、レジス
ト被覆、電気銅メッキ処理し、次に酸化処理を施すこと
なくレジメ1〜を剥離後、過硫酸アンモニウムで化学銅
メッキ層を溶解除去し、印刷配線板を得た。 得られた
銅メッキ層の精度は第3図及び第4図に示したごとく芳
しくなかつlこ 。
り、穴あ(ブ、親水化、活性化、化学銅メッキ、レジス
ト被覆、電気銅メッキ処理し、次に酸化処理を施すこと
なくレジメ1〜を剥離後、過硫酸アンモニウムで化学銅
メッキ層を溶解除去し、印刷配線板を得た。 得られた
銅メッキ層の精度は第3図及び第4図に示したごとく芳
しくなかつlこ 。
[発明の効果コ
以上説明したごとく、本発明によれば非回路パターン部
である露出化学銅メッキ層部分のエツチング時スルーホ
ール内壁及び回路パターンの電気銅メッキ層のエツチン
グを防11−でき、回路パターンの精度が良好でスルー
ホール信頼性の極めて高い印刷配線板を11!!I 造
し1qる方d1を412供できる・bのである。
である露出化学銅メッキ層部分のエツチング時スルーホ
ール内壁及び回路パターンの電気銅メッキ層のエツチン
グを防11−でき、回路パターンの精度が良好でスルー
ホール信頼性の極めて高い印刷配線板を11!!I 造
し1qる方d1を412供できる・bのである。
第1図、第2図は本発明に係る印刷配線板の新築1図
第3図
1
第2図
第4図
Claims (1)
- 1 スルーホールを有する接着剤付積層板を親水化及び
活性化処理し、スルーホール内壁を含む全表面に化学銅
メッキ層を形成した後、スルーホール内壁と回路部分を
除く表面にメツキレシストを被覆して回路パターンを形
成し、更に前記スルーホール内壁と回路パターン表面に
電気銅メッキ層を形成してなる基板全体を酸化剤を含む
水溶液C処理して前記電気銅メツ4一層表面に酸化物層
を形成させた後、前記メツキレシストを剥離し、露出し
た前記化学銅メッキ層を過硫酸アンモニウム水溶液で溶
解除去し、次いで酸処理を施して前記酸化物層を溶解除
去せしめることを特徴とする印刷配線板の製造方法、1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12797783A JPS6021596A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 印刷配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12797783A JPS6021596A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 印刷配線板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6021596A true JPS6021596A (ja) | 1985-02-02 |
Family
ID=14973375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12797783A Pending JPS6021596A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 印刷配線板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6021596A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56122194A (en) * | 1980-02-29 | 1981-09-25 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of manufacturing printed circuit board |
-
1983
- 1983-07-15 JP JP12797783A patent/JPS6021596A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56122194A (en) * | 1980-02-29 | 1981-09-25 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of manufacturing printed circuit board |
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