JPS60218656A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS60218656A JPS60218656A JP7391784A JP7391784A JPS60218656A JP S60218656 A JPS60218656 A JP S60218656A JP 7391784 A JP7391784 A JP 7391784A JP 7391784 A JP7391784 A JP 7391784A JP S60218656 A JPS60218656 A JP S60218656A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- charge
- undercoat layer
- electron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子供与性物質を含む下引き層を有する電子
写真感光体に関する。
写真感光体に関する。
゛電子写真感光体は基本的には基体と感光層との徊成で
ある。しかしながら、基体と感光層の接着性改良、感光
層の塗工性向上、基体の保設、基体上の欠陥の被覆、感
光層の電気的破壊に対する保five j基体から感光
層への電荷注入性改良などのために、基体と感光層の中
間に下引き層なもうけることが有効である。
ある。しかしながら、基体と感光層の接着性改良、感光
層の塗工性向上、基体の保設、基体上の欠陥の被覆、感
光層の電気的破壊に対する保five j基体から感光
層への電荷注入性改良などのために、基体と感光層の中
間に下引き層なもうけることが有効である。
下引き層は従来よりポリビニルアルコール、ポリビニル
メチルエーテル、ポリ−N−ビニルイミダゾール、エチ
ルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリ/
I/酸コポリマー、カゼイン、ゼラチン、ポリアミド等
が知られている。
メチルエーテル、ポリ−N−ビニルイミダゾール、エチ
ルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリ/
I/酸コポリマー、カゼイン、ゼラチン、ポリアミド等
が知られている。
下引き層に要求される特性として、まず牙−に電気的特
性が挙げられる。電子写真感光体に用いるのであるから
、電子写真特性に影響を与えないことが重要で、このた
めには電気抵抗が低いことが必要である。電気抵抗が高
いと、下引きJ&に帝′t4i、fti位が印加され、
いわゆる残留電位として、画(象にかぶりが発生する。
性が挙げられる。電子写真感光体に用いるのであるから
、電子写真特性に影響を与えないことが重要で、このた
めには電気抵抗が低いことが必要である。電気抵抗が高
いと、下引きJ&に帝′t4i、fti位が印加され、
いわゆる残留電位として、画(象にかぶりが発生する。
さらに電気抵抗が、外部環境の変化、特に大気中の湿度
の変化によって影響を受けないことも必要である。例え
ば、低湿度によって電気抵抗が上昇すると、かぶりを生
ずるようになる。
の変化によって影響を受けないことも必要である。例え
ば、低湿度によって電気抵抗が上昇すると、かぶりを生
ずるようになる。
又、逆に高湿条件下で電気抵抗が低下する様な材料な用
いた場合、基体からの電荷注入或は下引きj曽自体、か
ら感光層への電荷注入な生じ易い。感 −光・層の全域
にわたって注入を生じる場合は暗部電位の減少となり、
又部分的に極く微細な膜の凹凸。
いた場合、基体からの電荷注入或は下引きj曽自体、か
ら感光層への電荷注入な生じ易い。感 −光・層の全域
にわたって注入を生じる場合は暗部電位の減少となり、
又部分的に極く微細な膜の凹凸。
欠陥等があった場合は、通常の複写機のコピー画母上ベ
タ黒部で微小な白ポチとなって現われる。
タ黒部で微小な白ポチとなって現われる。
更に感光体上の電位とトナーを付着せしめて現像する部
分とを逆転させる所謂反転現像プロセスを応用するマイ
クロリーダープリンタや、レーザービームプリンター等
では前述の欠陥は画1象上白地部で黒カブリとなる為に
、大きな問題である。
分とを逆転させる所謂反転現像プロセスを応用するマイ
クロリーダープリンタや、レーザービームプリンター等
では前述の欠陥は画1象上白地部で黒カブリとなる為に
、大きな問題である。
以上の説明を要約すれば、感光体が使用される+12
全環境域か10〜10 Ω・Gの体積抵抗率な有する下
引き層材料を開発しなければならない。
引き層材料を開発しなければならない。
これは非常に困難である。
ところで、前述の低湿下での残留電位の上昇、高湿下で
のカプリの発生程度等は、必ずしも下引き層の電気抵抗
のみで決定されるものではない。
のカプリの発生程度等は、必ずしも下引き層の電気抵抗
のみで決定されるものではない。
下引き層中の電荷移動、トラッピング、注入等の緒特性
が大きく関与している。
が大きく関与している。
本発明の主たる目的は環境特性の極めて安定な電子写真
感光体を提供することにある。特に下引き層材料として
低湿環境中で安定なアクリル系樹脂を改質して、高湿特
性の改善(特に反転現1象系の白地カブリ対策)された
電子写真感光体を提供することな目的とする。
感光体を提供することにある。特に下引き層材料として
低湿環境中で安定なアクリル系樹脂を改質して、高湿特
性の改善(特に反転現1象系の白地カブリ対策)された
電子写真感光体を提供することな目的とする。
本発明は、基体上に下引き層と感光層とを有する電子写
真感光体に於て、該下引き層がアクリル系樹脂中に電子
供与性物質を添加したものであることを特徴とする電子
写真感光体から構成される。
真感光体に於て、該下引き層がアクリル系樹脂中に電子
供与性物質を添加したものであることを特徴とする電子
写真感光体から構成される。
即ち本発明は、特に高湿下で牙2図(6)で生ずる電荷
注入を防止するために、アクリル系樹脂中[%E電子供
与性物質添加したものを下引き層として使用する事を特
徴とする。
注入を防止するために、アクリル系樹脂中[%E電子供
与性物質添加したものを下引き層として使用する事を特
徴とする。
即ち添加した電子供与性物質は矛6図(2)に示す様に
プラス電荷注入の阻止層として機能する。
プラス電荷注入の阻止層として機能する。
暗所帯電時の電荷注入は、極く少数のプラス電荷(フリ
ーキャリア)Kよるものであり、これを阻止する為には
、僅かな量の電子供与性物質の添加により、若干のキャ
リア・トラップを形成すれば良い。又、@露光時は、相
当数のプラス電荷が生成されるので、アクリル系樹脂層
中に電子供与性物質を加えることでの感度の低下は全く
な(S0更に説明すれば、低湿下における残留電位の上
昇が懸念されるが、電子供与性物質の添加で、所謂電気
抵抗はむしろ低下するものであり、低湿での残留電位上
昇は、樹脂層そのものの特性によるものであり、全く影
響は与えない。又、高湿下での挙動も極く少数キャリア
の変化に富与するものであり、所謂電気抵抗は殆ど変化
しない。 −電子供与性物質の添加量は1〜50,00
0 ppmの範囲が可能だが、10〜1000 ppm
が効果的で、且つ弊害(感度の低下、メモリーの増加等
)が少ない。
ーキャリア)Kよるものであり、これを阻止する為には
、僅かな量の電子供与性物質の添加により、若干のキャ
リア・トラップを形成すれば良い。又、@露光時は、相
当数のプラス電荷が生成されるので、アクリル系樹脂層
中に電子供与性物質を加えることでの感度の低下は全く
な(S0更に説明すれば、低湿下における残留電位の上
昇が懸念されるが、電子供与性物質の添加で、所謂電気
抵抗はむしろ低下するものであり、低湿での残留電位上
昇は、樹脂層そのものの特性によるものであり、全く影
響は与えない。又、高湿下での挙動も極く少数キャリア
の変化に富与するものであり、所謂電気抵抗は殆ど変化
しない。 −電子供与性物質の添加量は1〜50,00
0 ppmの範囲が可能だが、10〜1000 ppm
が効果的で、且つ弊害(感度の低下、メモリーの増加等
)が少ない。
次に高湿で白地カプリ(反転現像系)を発生する原理を
説明する。
説明する。
】・1図は機能分離型感光体の層構成の1例を示す。該
感光体を、(1)−次マイナス帯電、(2) 790n
m 赤外レーザー露光、(3)約1秒間後、(4)マイ
ナス・トナーによる反転現像、(5)プラス帯電による
転写、(6)クリー二/グ、(7)弦音光による残留電
位の消去の繰り返しプロセスで使用した時の(1ン〜(
4)の状態を第2図に示す。即ち、Va (暗部電位)
部に注入されたプラス電荷がカブリを生ずるのである。
感光体を、(1)−次マイナス帯電、(2) 790n
m 赤外レーザー露光、(3)約1秒間後、(4)マイ
ナス・トナーによる反転現像、(5)プラス帯電による
転写、(6)クリー二/グ、(7)弦音光による残留電
位の消去の繰り返しプロセスで使用した時の(1ン〜(
4)の状態を第2図に示す。即ち、Va (暗部電位)
部に注入されたプラス電荷がカブリを生ずるのである。
特に高湿で電荷注入を生ずるのは、アクリル系樹脂層の
抵抗が1/10〜1/100に変化する為である。
抵抗が1/10〜1/100に変化する為である。
本発明に使用するアクリル系樹脂としては、メタクリル
樹脂を基体として、エポキシ変性アクリル、ウレタン変
性アクリル、スチレン共重合体、ABS 樹脂等が挙げ
られ、その種類は厖大であるが、実除に使用し得るもの
は、その中でも電気抵抗が10 Ω・口以下で、且つ溶
剤可溶型又は硬化U(熱又は紫外綜電子線等)に限ら7
Iる。
樹脂を基体として、エポキシ変性アクリル、ウレタン変
性アクリル、スチレン共重合体、ABS 樹脂等が挙げ
られ、その種類は厖大であるが、実除に使用し得るもの
は、その中でも電気抵抗が10 Ω・口以下で、且つ溶
剤可溶型又は硬化U(熱又は紫外綜電子線等)に限ら7
Iる。
電子供与性物質としては多核芳香族炭化水素す経返し単
位とする重合体があり、例えばボI) −N−ビニル力
ルバゾール、ポリ−1−とニルピレン、ポリ−9−ビニ
ルアントラセン、ポリ−9−ビニルフェニルアントラセ
ン、ポリアセナフタレン。
位とする重合体があり、例えばボI) −N−ビニル力
ルバゾール、ポリ−1−とニルピレン、ポリ−9−ビニ
ルアントラセン、ポリ−9−ビニルフェニルアントラセ
ン、ポリアセナフタレン。
ポリ−9−(4−ペンテニル)カルバゾール、ポリ−9
−(5−ヘキシル)カルバゾール、ホリメチレ/・ビレ
7、或いはビレ/のN位館換アクリル誠アミド重合体及
びこの重合体のアルキル、ニトロ、アミノ、ハロゲン又
はヒドロキシ置換体が与げられる。またN−ビニルカル
バゾールとメチルアクリレートとの共重合体、1−ビニ
ルビレ/とホルムアルデヒドとの縮重合体や1−とニル
ビレ/とブタジエ/とのブロック共重合体も使用できる
。更にまた以上のような重合体ではな0単量体とし、て
、例えばカルバゾール、N−エチルカルバゾール、ピレ
ン、テトラフェン、1+7 セfルビレン、2,3−べ
/ゾ、クリセン、6.7−ベ/ゾビレン、1−ブロモピ
レン、1−エテルビレ/。
−(5−ヘキシル)カルバゾール、ホリメチレ/・ビレ
7、或いはビレ/のN位館換アクリル誠アミド重合体及
びこの重合体のアルキル、ニトロ、アミノ、ハロゲン又
はヒドロキシ置換体が与げられる。またN−ビニルカル
バゾールとメチルアクリレートとの共重合体、1−ビニ
ルビレ/とホルムアルデヒドとの縮重合体や1−とニル
ビレ/とブタジエ/とのブロック共重合体も使用できる
。更にまた以上のような重合体ではな0単量体とし、て
、例えばカルバゾール、N−エチルカルバゾール、ピレ
ン、テトラフェン、1+7 セfルビレン、2,3−べ
/ゾ、クリセン、6.7−ベ/ゾビレン、1−ブロモピ
レン、1−エテルビレ/。
1−メチ/1/L’し/、ペリジ/、2−フェニルレイ
/ドール、テトラセン、と七/、1,3.6.8−テト
ラフェニルピレン、クリセン、フルオレン、フェナンス
レノ、2.3−ベンゾビレ/、アントラキノン、ジベン
ゾチオフェン、ナフタレン及び1−フェニルナフタレン
、トリス(ジアルキルアミノフェニル)メタンロイコ体
、ビス(ジアルキルアミノフェニル)メタン、ビス(ジ
アルキルアミノフェニル キルアミノフェニル ゾール、ピラゾリ/肪導体等カー挙げられる。
/ドール、テトラセン、と七/、1,3.6.8−テト
ラフェニルピレン、クリセン、フルオレン、フェナンス
レノ、2.3−ベンゾビレ/、アントラキノン、ジベン
ゾチオフェン、ナフタレン及び1−フェニルナフタレン
、トリス(ジアルキルアミノフェニル)メタンロイコ体
、ビス(ジアルキルアミノフェニル)メタン、ビス(ジ
アルキルアミノフェニル キルアミノフェニル ゾール、ピラゾリ/肪導体等カー挙げられる。
本発明の電子写真感光体につ(・て更に詳しく説明する
と、まず基体は、アルミニウム、黄銅、ステンレスなど
の金属、またはポリエチレン7″レフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレ
ン、ナイロン、ポリスチレンなどの高分子材料、硬質紙
等の材料を円筒状に成型するか、フィルムや箔にして用
いられる。
と、まず基体は、アルミニウム、黄銅、ステンレスなど
の金属、またはポリエチレン7″レフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレ
ン、ナイロン、ポリスチレンなどの高分子材料、硬質紙
等の材料を円筒状に成型するか、フィルムや箔にして用
いられる。
絶は体の場合には、導電処理なする必要があるが、それ
には導電性物質の含浸、金属箔のラミネート、金属の蒸
着などの方法がある。さらに、基体の表面粗度が大きい
場合には表面の平滑化のために導電性の塗料を塗布する
こともある。導電性の塗料としては、アルミニウム、銅
、銀、金、ニッケル込の金属粉体、酸化スズ、酸化イン
ジウム、酸化アンチモン、酸化テタ/、酸化亜鉛等の金
属酸化物粉体、カーボン粉体等の粉体の単独、もしくは
複数種をポリウレタン−、エポキシ−、アルキド−、ポ
リエステル−、アクリル−メラミン−、シリコーン−、
フェノール−樹脂等の結着剤樹脂に分散したものが用い
られる。導電性の塗料を塗布した導電層の厚さは基体の
表面粗度の2乗倍以上が好ましい。
には導電性物質の含浸、金属箔のラミネート、金属の蒸
着などの方法がある。さらに、基体の表面粗度が大きい
場合には表面の平滑化のために導電性の塗料を塗布する
こともある。導電性の塗料としては、アルミニウム、銅
、銀、金、ニッケル込の金属粉体、酸化スズ、酸化イン
ジウム、酸化アンチモン、酸化テタ/、酸化亜鉛等の金
属酸化物粉体、カーボン粉体等の粉体の単独、もしくは
複数種をポリウレタン−、エポキシ−、アルキド−、ポ
リエステル−、アクリル−メラミン−、シリコーン−、
フェノール−樹脂等の結着剤樹脂に分散したものが用い
られる。導電性の塗料を塗布した導電層の厚さは基体の
表面粗度の2乗倍以上が好ましい。
基体、もしくは、基体の表面に形成された導電層の上に
本発明の下引き層が塗布形成される。その厚さは0.1
〜10μ程度が好ましい。
本発明の下引き層が塗布形成される。その厚さは0.1
〜10μ程度が好ましい。
この上に感光層が形成される。
感光層は、CdS色累色感増感た酸化亜鉛,セレン粉体
、無定形シリコン粉体、、ポリビニルカルバゾール、フ
タロシアニン顔料、オキサジアゾール等の有機顔料等を
必要に応じて結着剤樹脂と共に塗布形成される。
、無定形シリコン粉体、、ポリビニルカルバゾール、フ
タロシアニン顔料、オキサジアゾール等の有機顔料等を
必要に応じて結着剤樹脂と共に塗布形成される。
また、有機光導電物質を用いる場合、特性の向上のため
の効果的な方法として、n元により電荷担体を発生する
電荷発生層と、発生した電荷担体を移動させる能力な持
つ電荷輸送層を組み合わせることもある。
の効果的な方法として、n元により電荷担体を発生する
電荷発生層と、発生した電荷担体を移動させる能力な持
つ電荷輸送層を組み合わせることもある。
電荷発生層は、スープ/レッド、ダイアンブルー:ジエ
ナスグリーンBなどのアゾ顔料、アルゴールイエロー、
ピレンキノン、インダンスレンブリリア/トバイオレッ
トRRPなとのキノ/顔料、キノシアニン顔料,ペリレ
ン顔料、インジゴ−チオインジゴ等のインジゴ顔料、イ
ンドファーストオレンジトナーなどのビスベンゾイミダ
ゾール顔″料、銅フタロシアニアなどの7りロシアニン
顔料、キナクリド/顔料、ビリリウム系染料等の電荷発
生物質を,ポリニス7″/I/、ポリステレ/、ポリ酢
酸ビニル、アクリ/l/.ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルピロリドン、メチルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース、セルロースエステル類などの結
着剤樹脂に分散して形成される。
ナスグリーンBなどのアゾ顔料、アルゴールイエロー、
ピレンキノン、インダンスレンブリリア/トバイオレッ
トRRPなとのキノ/顔料、キノシアニン顔料,ペリレ
ン顔料、インジゴ−チオインジゴ等のインジゴ顔料、イ
ンドファーストオレンジトナーなどのビスベンゾイミダ
ゾール顔″料、銅フタロシアニアなどの7りロシアニン
顔料、キナクリド/顔料、ビリリウム系染料等の電荷発
生物質を,ポリニス7″/I/、ポリステレ/、ポリ酢
酸ビニル、アクリ/l/.ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルピロリドン、メチルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース、セルロースエステル類などの結
着剤樹脂に分散して形成される。
また5蒸着などによって形成することもできる。
電<tr発生層の厚さは0.05〜[J.5μ程度であ
る。
る。
また、電荷輸送層は主鎖又は側鎖にアントラセン、ビレ
/、フエナ/トレ/,コロネ/なトノ多環芳香族化合物
又はインドール、カル)くゾール、オキサゾール、イソ
オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール
、オキサジアゾール、ピラゾリ/、チ.アジアゾール、
ドリアプールなどの含窒素環式化合物を有する化合物、
ヒドラゾン化合物等の正孔輸送性物質を成膜性のある樹
脂に俗解させて形成される。これは電荷輸送性物質力1
一般的に低分子量で、それ自身では成膜性に乏しいため
である。その↓うな樹脂としては、ポリカーボネート、
ボリアリレート、ポリスチレン、ポリメタクリル酸エス
テル類、スチレン−メタクリル酸メチルコポリマー、ポ
リエステ/I/1スチレ/−アクリロニトリルコポリマ
ー、ポリサルホン等が挙げられる。電荷輸送層の厚さは
5〜60μ程度である。
/、フエナ/トレ/,コロネ/なトノ多環芳香族化合物
又はインドール、カル)くゾール、オキサゾール、イソ
オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール
、オキサジアゾール、ピラゾリ/、チ.アジアゾール、
ドリアプールなどの含窒素環式化合物を有する化合物、
ヒドラゾン化合物等の正孔輸送性物質を成膜性のある樹
脂に俗解させて形成される。これは電荷輸送性物質力1
一般的に低分子量で、それ自身では成膜性に乏しいため
である。その↓うな樹脂としては、ポリカーボネート、
ボリアリレート、ポリスチレン、ポリメタクリル酸エス
テル類、スチレン−メタクリル酸メチルコポリマー、ポ
リエステ/I/1スチレ/−アクリロニトリルコポリマ
ー、ポリサルホン等が挙げられる。電荷輸送層の厚さは
5〜60μ程度である。
具体的な配合比や感光層の構成などについては、実施例
によって詳しく述べる。
によって詳しく述べる。
実施例1
アクリル系樹脂としてアクリナール(三菱レイヨン(株
)製)にアントラキノンを100 ppm配合した場合
を以下に示す。
)製)にアントラキノンを100 ppm配合した場合
を以下に示す。
寸法が60φx 260 am干渉縞阻止の為に表面を
ブラスト処理し、粗面化したアルミシリンダー上に、上
記のアクリナールを10部、アントラキノンを肌ooi
部(100ppm )をメタノール60部、水40部
の混合液に溶解し、上記基体上に浸漬塗布して、1μ厚
の下引き層をもうけた。
ブラスト処理し、粗面化したアルミシリンダー上に、上
記のアクリナールを10部、アントラキノンを肌ooi
部(100ppm )をメタノール60部、水40部
の混合液に溶解し、上記基体上に浸漬塗布して、1μ厚
の下引き層をもうけた。
次にε型銅フタロシアニン(リオノールブルーES 、
東洋インキ製造(株)製)1部とブチラール樹脂(エス
レックBbl−2;積水化学(株)製)1部、シクロへ
キサノン10部な1111iφガラスピーズな入れたサ
ンドミル分散機で20時間分散したのち20部のメチル
エチルケトンで希釈した。
東洋インキ製造(株)製)1部とブチラール樹脂(エス
レックBbl−2;積水化学(株)製)1部、シクロへ
キサノン10部な1111iφガラスピーズな入れたサ
ンドミル分散機で20時間分散したのち20部のメチル
エチルケトンで希釈した。
この液を先に形成したポリアミド樹脂層の上に浸漬塗布
し乾燥させて電荷発生層を形成した。
し乾燥させて電荷発生層を形成した。
この時の膜厚は0.3μであった。
次いで、下記構造式のヒドラゾン化合物を10部
およびスチレン−メタクリル酸メチル共重合樹脂(商品
名: MS200 :製鉄化学(株ン製)15部をトル
エン80部に溶解した。この液な上記電荷発生層上に塗
布して100℃で1時間の熱風乾燥をして、16μ厚の
電荷輸送層を形成した。
名: MS200 :製鉄化学(株ン製)15部をトル
エン80部に溶解した。この液な上記電荷発生層上に塗
布して100℃で1時間の熱風乾燥をして、16μ厚の
電荷輸送層を形成した。
この積層型感光ドラムを、ガリウムーアルミーヒ累半導
体レーザー(発光波長78Dnm、出力5mw)を有す
るレーザープリンタ実験機(帯電は負極性)に装着して
65℃851RHの環境中に一昼夜放置した後、反転現
像で画像出しな行なったところ、ベタ白画1象上に白地
カブリは認められなかった。
体レーザー(発光波長78Dnm、出力5mw)を有す
るレーザープリンタ実験機(帯電は負極性)に装着して
65℃851RHの環境中に一昼夜放置した後、反転現
像で画像出しな行なったところ、ベタ白画1象上に白地
カブリは認められなかった。
比較例として、アントラキノンを含まない感光ドラムを
作成し、同様に画1象出しな行なったところ、濃度計(
マクベス社製Type 341 )で+o、oiに相当
する白地カブリが認められた。
作成し、同様に画1象出しな行なったところ、濃度計(
マクベス社製Type 341 )で+o、oiに相当
する白地カブリが認められた。
実施例2
実施例1と同じ条件で、下引き層材料として、メタラッ
ク(原意化成(株)製)10部、1−アセチルピレン0
.01部(1000ppm )をメタノール60部、ブ
タノール40部の混合液に溶解し、上記基体上に浸漬塗
布して、1μ厚のアクリル系樹脂層を設けた。
ク(原意化成(株)製)10部、1−アセチルピレン0
.01部(1000ppm )をメタノール60部、ブ
タノール40部の混合液に溶解し、上記基体上に浸漬塗
布して、1μ厚のアクリル系樹脂層を設けた。
以降の工程は実施例1と全く同じである。
比較例として、1−アセチルピレンを配合しない下引き
層を設けた感光ドラムを同様に作成した。
層を設けた感光ドラムを同様に作成した。
実症例1と同じ装置を使解し、同一環境条件で画像出し
評価を行なったところ、本発明の感光ドラムには、カブ
リが生ぜず、比較のドラムには+0606相当のカブリ
が認められた。
評価を行なったところ、本発明の感光ドラムには、カブ
リが生ぜず、比較のドラムには+0606相当のカブリ
が認められた。
矛1図は機能分離型電子写真感光体の層構成例であり、
aは基体
しは下引き層、
Cは電荷発生7@(CGL)
dは電荷輸送層(CTL) を示し、
矛2図は反転現酸プロセス(赤外レーザー・ビーム・プ
リンター)であり。 (1)は1次帯電(約−700V) (2)は露光(790皿 レーザー光)(3)は(2)
〜(4)に移動するタイムラグ(〜約1秒)(4)は現
像(マイナストナーによる反転現@)を示し 矛6図は暗部でのプラス電荷注入であり、(1)はかな
りの電荷注入が認められる比較例(従来例) (2)は下引き層が電荷注入を阻止する本発明の場合を
示す・ 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士狩野 有 第 (3) 第 (1) 12図 (4) 3図 (2)
リンター)であり。 (1)は1次帯電(約−700V) (2)は露光(790皿 レーザー光)(3)は(2)
〜(4)に移動するタイムラグ(〜約1秒)(4)は現
像(マイナストナーによる反転現@)を示し 矛6図は暗部でのプラス電荷注入であり、(1)はかな
りの電荷注入が認められる比較例(従来例) (2)は下引き層が電荷注入を阻止する本発明の場合を
示す・ 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士狩野 有 第 (3) 第 (1) 12図 (4) 3図 (2)
Claims (1)
- (11基体上に下引き層と感光層とを有する電子写真感
光体に於て、該下引き層がアクリル系樹脂中に電子供与
性物質を添加したものであることを%敵とする゛電子琴
に感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7391784A JPS60218656A (ja) | 1984-04-14 | 1984-04-14 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7391784A JPS60218656A (ja) | 1984-04-14 | 1984-04-14 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60218656A true JPS60218656A (ja) | 1985-11-01 |
Family
ID=13531994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7391784A Pending JPS60218656A (ja) | 1984-04-14 | 1984-04-14 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60218656A (ja) |
-
1984
- 1984-04-14 JP JP7391784A patent/JPS60218656A/ja active Pending
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