JPS6023341B2 - 耐熱性フオトレジスト組成物およびその製造方法 - Google Patents
耐熱性フオトレジスト組成物およびその製造方法Info
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- JPS6023341B2 JPS6023341B2 JP15668777A JP15668777A JPS6023341B2 JP S6023341 B2 JPS6023341 B2 JP S6023341B2 JP 15668777 A JP15668777 A JP 15668777A JP 15668777 A JP15668777 A JP 15668777A JP S6023341 B2 JPS6023341 B2 JP S6023341B2
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、絶縁性および耐熱性に優れた新規なフオトレ
ジスト組成物に関するものである。
ジスト組成物に関するものである。
今までに各種のフオトレジストが開発されているが、こ
れらの多くは感光性というだけであり、感光性と絶縁性
および耐熱性などの特性を合わせ持ったものはない。近
年、電子産業分野では、半導体回路、ハイブリッド回路
およびプリント回路などにおいては、高密度化の要請に
より、多層化の方向に進んでいる。
れらの多くは感光性というだけであり、感光性と絶縁性
および耐熱性などの特性を合わせ持ったものはない。近
年、電子産業分野では、半導体回路、ハイブリッド回路
およびプリント回路などにおいては、高密度化の要請に
より、多層化の方向に進んでいる。
しかしながら、従釆のフオトレジストでは、絶縁性およ
び耐熱性などの特性が悪く、上記回路に残存させること
は不可能であり、絶縁性および耐熱性が優れた、上記回
絡に残存させることの可能なフオトレジストが望まれて
いる。本発明者らは、上記特性を持ったフオトレジスト
を開発すべ〈鋭意研究した結果、有機極性溶媒に可溶性
のポリアミドィミドに、アクリレート基を導入する事に
より、はじめて実用特性を有する耐熱性フオトレジスト
が得られる事を見い出し、本発明を完成するに到った。
び耐熱性などの特性が悪く、上記回路に残存させること
は不可能であり、絶縁性および耐熱性が優れた、上記回
絡に残存させることの可能なフオトレジストが望まれて
いる。本発明者らは、上記特性を持ったフオトレジスト
を開発すべ〈鋭意研究した結果、有機極性溶媒に可溶性
のポリアミドィミドに、アクリレート基を導入する事に
より、はじめて実用特性を有する耐熱性フオトレジスト
が得られる事を見い出し、本発明を完成するに到った。
即ち、本発明は、
｛１｝ 一般式
又は、
又は、
〔ここでＡＪは
Ａ正′は
（Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは〇，Ｓ
〇２，ＣＨ２，Ｃ〇，Ｃ〇〇，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓを示
し、これらは互いに同一であっても異なっていても良い
。
〇２，ＣＨ２，Ｃ〇，Ｃ〇〇，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓを示
し、これらは互いに同一であっても異なっていても良い
。
）を示し、ＹＩは
ＹはＨまたはＹ，（ＺはＨまたはＣＨ３）を示し、ｍは
０または正の整数、ｎは正の整数を示す。
０または正の整数、ｎは正の整数を示す。
〕で表わされるポリマーと、エチレン系不飽和二重結合
を有する化合物と、およびカルボニル化合物、過酸化物
、アゾ化合物、ィオウ化合物、ハロゲン化物の中から選
ばれた一驚以上の光重合開始剤とからなる事を特徴とす
る耐熱性フオトレジスト組成物、および【２）一般式 又は、 又は、 〔ここでＡＪは ＡＪ′は （Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは。
を有する化合物と、およびカルボニル化合物、過酸化物
、アゾ化合物、ィオウ化合物、ハロゲン化物の中から選
ばれた一驚以上の光重合開始剤とからなる事を特徴とす
る耐熱性フオトレジスト組成物、および【２）一般式 又は、 又は、 〔ここでＡＪは ＡＪ′は （Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは。
，Ｓ〇２，ＣＨ２，Ｃ〇，Ｃ〇〇，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓ
を示し、これらは互いに同一であっても異なっていても
良い。）を示し、ｍは０または正の整数、ｎは正の整数
を示す。〕で表わされる有機極性溶媒に可溶のポリアミ
ドィミドと、（メタ）アクリル酸クロライド又はグリシ
ジル（メタ）アクリレートを、有機極性溶媒中で反応さ
せる事を特徴とする耐熱性フオトレジストの製造方法を
提供するものである。通常のポリアミドィミドは、有機
極性溶媒に対して不落である為に、アクリレート基の導
入およびコーティングが不可能であり、またポリアミド
ィミド合成の途中の段階の有機犠牲溶媒に可能なポリア
ミド酸は、アクリレート基の導入は一応可能であるが、
反応のコントロールがむづかしく、またポリアミド酸は
アミド結合に隣接してカルボキシル基や存在しているた
めに、加水分解を受け易く、溶液として長期間保存して
おくと、加水分解のために重合体の分子量が著しく低下
するという欠点を有しており、更にポリアミド酸をポリ
ァミドィミドに転化させるのに、コーティング後高温処
理が必要である。
を示し、これらは互いに同一であっても異なっていても
良い。）を示し、ｍは０または正の整数、ｎは正の整数
を示す。〕で表わされる有機極性溶媒に可溶のポリアミ
ドィミドと、（メタ）アクリル酸クロライド又はグリシ
ジル（メタ）アクリレートを、有機極性溶媒中で反応さ
せる事を特徴とする耐熱性フオトレジストの製造方法を
提供するものである。通常のポリアミドィミドは、有機
極性溶媒に対して不落である為に、アクリレート基の導
入およびコーティングが不可能であり、またポリアミド
ィミド合成の途中の段階の有機犠牲溶媒に可能なポリア
ミド酸は、アクリレート基の導入は一応可能であるが、
反応のコントロールがむづかしく、またポリアミド酸は
アミド結合に隣接してカルボキシル基や存在しているた
めに、加水分解を受け易く、溶液として長期間保存して
おくと、加水分解のために重合体の分子量が著しく低下
するという欠点を有しており、更にポリアミド酸をポリ
ァミドィミドに転化させるのに、コーティング後高温処
理が必要である。
このような欠点を除いた本発明では、有機極性溶媒に可
溶なポリアミドィミドを用いる事により容易にアクリレ
ート基を導入する事が出来、また得られたフオトレジス
トは安定で、かつコーティング可能で、溶剤を除去する
だけで熱安定性および電気的特性の良好なフオトレジス
ト膜を得る事が可能となる。本発明の、一般式 又は、 又は、 〔ここでＡ【は ＡＪ′は‐ （Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは〇，Ｓ
〇２，ＣＨ２，Ｃ〇．Ｃ〇〇，ＣくＣＨ３）２，Ｓを示
し、これらは互いに同一であっても異なってし、ても良
い。
溶なポリアミドィミドを用いる事により容易にアクリレ
ート基を導入する事が出来、また得られたフオトレジス
トは安定で、かつコーティング可能で、溶剤を除去する
だけで熱安定性および電気的特性の良好なフオトレジス
ト膜を得る事が可能となる。本発明の、一般式 又は、 又は、 〔ここでＡ【は ＡＪ′は‐ （Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは〇，Ｓ
〇２，ＣＨ２，Ｃ〇．Ｃ〇〇，ＣくＣＨ３）２，Ｓを示
し、これらは互いに同一であっても異なってし、ても良
い。
）を示し、Ｙ．は
ＹはＨまたはＹ，（ＺはＨまたはＣＨ３）を示し、ｍは
０または正の整数、ｎは正の整数を示す。
０または正の整数、ｎは正の整数を示す。
〕で表わされるポリマーは、次の一般式又は、
又は、
〔ここでＡＪは
ＡＪ′は
（Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは。
，Ｓ〇２，ＣＨ２，Ｃ〇．Ｃ〇〇，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓ
を示し、これらは互いに同一であっても異なっていても
良い。）を示し、ｍは０または正の整数、ｎは正の整数
を示す。〕で表わされる有機極性溶媒に可溶性のポリア
ミドィミドと、（メタ）アクリル酸クロライド又はグリ
シジル（メタ）アクリレートなどを反応して得る事が出
来る。上記有機極性溶媒に可溶性のポリアミドィミドと
（メタ）アクリル酸クロライド又はグリシジル（メタ）
アクリレートとの反応は、（メタ）アクリル酸クロラィ
ド又はグリシジル（メタ）アクリレートをボリアミドイ
ミドの重合単位１モルに対して０．００１〜１０モル使
用される。
を示し、これらは互いに同一であっても異なっていても
良い。）を示し、ｍは０または正の整数、ｎは正の整数
を示す。〕で表わされる有機極性溶媒に可溶性のポリア
ミドィミドと、（メタ）アクリル酸クロライド又はグリ
シジル（メタ）アクリレートなどを反応して得る事が出
来る。上記有機極性溶媒に可溶性のポリアミドィミドと
（メタ）アクリル酸クロライド又はグリシジル（メタ）
アクリレートとの反応は、（メタ）アクリル酸クロラィ
ド又はグリシジル（メタ）アクリレートをボリアミドイ
ミドの重合単位１モルに対して０．００１〜１０モル使
用される。
アクリレート基の導入率は、０．１〜１００％すなわち
ｍ／ｎ＝０〜１０００が用いられ、特にｍ／ｎ＝０〜１
００が好ましい範囲である。
ｍ／ｎ＝０〜１０００が用いられ、特にｍ／ｎ＝０〜１
００が好ましい範囲である。
またアクリレート基は末端に導入されても良い。反応は
、有機極性溶媒、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎージメチルホルムアミド、Ｎーメチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホアミ
ド中で行われ、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキ
サン、クレゾール等の通常の溶媒を共存させても良く、
１５０００以下の温度で１〜２４時間行われる。
、有機極性溶媒、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎージメチルホルムアミド、Ｎーメチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホアミ
ド中で行われ、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキ
サン、クレゾール等の通常の溶媒を共存させても良く、
１５０００以下の温度で１〜２４時間行われる。
また上記反応に、触媒として３級アミン或いは４級アン
モニウム塩などを用いても良い。アクリレート基を導入
したポリアミドィミド溶液は、そのままでもある特定の
用途に使用することが可能であるが、水、メタノール、
アセトン、トルェン、シクロヘキサン等のポリマーを溶
媒しない溶剤中に沈殿させて分離取得して、不純物を取
り除いた後、ジメチルアセトアミド等の極性溶媒中に再
び溶解して使用するのが好ましい。
モニウム塩などを用いても良い。アクリレート基を導入
したポリアミドィミド溶液は、そのままでもある特定の
用途に使用することが可能であるが、水、メタノール、
アセトン、トルェン、シクロヘキサン等のポリマーを溶
媒しない溶剤中に沈殿させて分離取得して、不純物を取
り除いた後、ジメチルアセトアミド等の極性溶媒中に再
び溶解して使用するのが好ましい。
上記の一般式又は、
又は、
〔ここでＡ【は
ＡＪ′は
（Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは〇，Ｓ
〇２，ＣＨ２，Ｃ〇，Ｃ〇〇，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓを示
し、これらは互いに同一であっても異なってし「ても良
い。
〇２，ＣＨ２，Ｃ〇，Ｃ〇〇，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓを示
し、これらは互いに同一であっても異なってし「ても良
い。
）を示し、ｍは０または正の整数、ｎは正の整数を示す
。〕で表わされる有機極性溶媒に可溶性のポリアミドィ
ミドの製造法としては、一般式（ここでＲは水素、アル
キル基、ハロゲンを示し、Ｘは○，Ｓ０２，Ｃ仏，Ｃ○
，ＣＯＯ，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓを示し、これらは互いに
同一であっても異なっていても良い。
。〕で表わされる有機極性溶媒に可溶性のポリアミドィ
ミドの製造法としては、一般式（ここでＲは水素、アル
キル基、ハロゲンを示し、Ｘは○，Ｓ０２，Ｃ仏，Ｃ○
，ＣＯＯ，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓを示し、これらは互いに
同一であっても異なっていても良い。
）で表わされる芳香族ジァミンとトリメリト酸クロラィ
ドを反応させる方法、一般式 （ここでＲは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは
○，Ｓ０２，Ｃ仏，Ｃ０，ＣＯＯ，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓ
を示し、これらは互いに同一であっても異なっていても
良い。
ドを反応させる方法、一般式 （ここでＲは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは
○，Ｓ０２，Ｃ仏，Ｃ０，ＣＯＯ，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓ
を示し、これらは互いに同一であっても異なっていても
良い。
）で表わされるビスィミドカルボン酸と３，３ージィソ
シアナートジフェニルを反応させる方法、一般式 ○＝
Ｃ＝Ｎ−Ａｒ〔又はＡｒ′）−Ｎ＝Ｃコ○〔ここでＡ【
はＡ止′は （Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは〇，Ｓ
〇２，ＣＨ２，Ｃ〇，Ｃ〇〇，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓを示
し、これらは互いに同一であっても異なっていても良い
。
シアナートジフェニルを反応させる方法、一般式 ○＝
Ｃ＝Ｎ−Ａｒ〔又はＡｒ′）−Ｎ＝Ｃコ○〔ここでＡ【
はＡ止′は （Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘは〇，Ｓ
〇２，ＣＨ２，Ｃ〇，Ｃ〇〇，Ｃ（ＣＨ３）２，Ｓを示
し、これらは互いに同一であっても異なっていても良い
。
）を示す。〕で表わされるジィソシアナートと式のビス
ィミドカルボン酸を反応させる方法などがある。
ィミドカルボン酸を反応させる方法などがある。
本発明に使用されるエチレン系不飽和二重結合を有する
化合物としては、２ーェチルヘキシル（メタ）アクリレ
ート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリ
レート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
プチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロ
ールメタンテトラ（メタ）アクリレート、（メタ）アク
リルアミド、Ｎ，Ｎ′ーメチレンビス（メタ）アクリル
アミド、ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミドな
どがある。これらの化合物は上記ポリマーに対して、０
．１〜１０の重量％特に０．５〜５０重量％の範囲で好
ましく使用される。本発明に使用される光重合開始剤と
しては、アセトフエノン、ジアセチル、ベンゾフエノン
、ベンゾイン、ベンゾインイソフ。
化合物としては、２ーェチルヘキシル（メタ）アクリレ
ート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリ
レート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
プチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロ
ールメタンテトラ（メタ）アクリレート、（メタ）アク
リルアミド、Ｎ，Ｎ′ーメチレンビス（メタ）アクリル
アミド、ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミドな
どがある。これらの化合物は上記ポリマーに対して、０
．１〜１０の重量％特に０．５〜５０重量％の範囲で好
ましく使用される。本発明に使用される光重合開始剤と
しては、アセトフエノン、ジアセチル、ベンゾフエノン
、ベンゾイン、ベンゾインイソフ。
ロピルエーテル、クロロアントラキノン、ナフトキノン
などのカルボニル化合物、過酸化ペンゾイルなどの過酸
化物、アゾビスィソブチロニトリルなどのアゾ化合物、
テトラエチルチウラムジスルフイドなどのイオウ化合物
、四塩化炭素などのハロゲン化物などがあり、これらは
単独或いは混合して用いても良い。これらの光重合開始
剤の添加量は、上記ポリマ−に対して０．０１〜２の重
量％特に０．１〜１の重量％が好ましい範囲である。本
組成物は実質的に溶解する前記反応溶媒などの適当な溶
媒を用い、溶液の粘度は所望の被膜の厚さに合わせて調
節することができ、この溶液は頃霧または浸糟法或いは
ローラーなどにより塗布される。
などのカルボニル化合物、過酸化ペンゾイルなどの過酸
化物、アゾビスィソブチロニトリルなどのアゾ化合物、
テトラエチルチウラムジスルフイドなどのイオウ化合物
、四塩化炭素などのハロゲン化物などがあり、これらは
単独或いは混合して用いても良い。これらの光重合開始
剤の添加量は、上記ポリマ−に対して０．０１〜２の重
量％特に０．１〜１の重量％が好ましい範囲である。本
組成物は実質的に溶解する前記反応溶媒などの適当な溶
媒を用い、溶液の粘度は所望の被膜の厚さに合わせて調
節することができ、この溶液は頃霧または浸糟法或いは
ローラーなどにより塗布される。
本発明の画像形成プロセスの１例を次に示す。
本発明にかかる組成物を基板上に塗布し、実質的に粘性
のない状態に乾燥して、アクリレート基の光重合を生じ
させる為に、例えば水銀ランプなどの紫外線で所定のパ
ターンに露光される。蕗光時間は適宜選定されるが、長
い露光時間は一般的に有害ではない。紫外線などによる
露光後、前記重合溶媒或いは前記重合溶媒と前記沈殿溶
媒との混合溶媒またはアルカリ水溶液などの適当な溶剤
を用いて非露光部を洗い出す。また場合によっては、洗
い出し後加熱処理を施しても良い。以下に本発明の態様
を一層明確にするために、実施例を挙げて説明するが、
本発明は実施例によりその範囲を制限されるものではな
い。
のない状態に乾燥して、アクリレート基の光重合を生じ
させる為に、例えば水銀ランプなどの紫外線で所定のパ
ターンに露光される。蕗光時間は適宜選定されるが、長
い露光時間は一般的に有害ではない。紫外線などによる
露光後、前記重合溶媒或いは前記重合溶媒と前記沈殿溶
媒との混合溶媒またはアルカリ水溶液などの適当な溶剤
を用いて非露光部を洗い出す。また場合によっては、洗
い出し後加熱処理を施しても良い。以下に本発明の態様
を一層明確にするために、実施例を挙げて説明するが、
本発明は実施例によりその範囲を制限されるものではな
い。
実施例 １
ｍ−フエニレンジアミン２．５夕（０．０２３モル）と
ピリジン２の‘とをジメチルアセトアミド３５の‘に乾
燥した窒素を通じながら溶解し、氷水で５℃に冷却して
、トリメリト酸無水物の４一酸クロラィド４．３夕（０
．０２０モル）を加えた。
ピリジン２の‘とをジメチルアセトアミド３５の‘に乾
燥した窒素を通じながら溶解し、氷水で５℃に冷却して
、トリメリト酸無水物の４一酸クロラィド４．３夕（０
．０２０モル）を加えた。
ただちに発熱反応がおこり、溶液の温度は３５℃まで上
昇した。室温でさらに１時間損拝を続けた後、無水酢酸
１０の‘とビＩＪジン４の‘との混合物を加え、５ぴ○
で２時間燈拝した後、メタノール２５０私と水５００の
‘との混合溶媒中に注ぎ、ポリァミドィミドを沈殿させ
、次いでメタノール洗浄した後乾燥した。このようにし
て得られた有機極性溶媒に可溶性のポリアミドィミド１
．５夕をジメチルアセトアミド２０の‘に溶解し、次い
でグリシジルメタクリレート０．８１夕を加えて、５５
℃で５時間反応させた後、メタノール１２５の‘と水２
５０の‘との混合溶媒中に注ぎ、アクリレート基を導入
したポリアミドィミドを沈殿させ、次いでメタノール洗
浄した後乾燥して、定量的に生成物を得た。得られた生
成物のァクリレート基の導入率は、５％であった。上記
アクリレート基の導入されたポリアミドイミド０．２夕
とテトラメチロールメタンテトラアクリレート０．０１
夕およびペンゾインイソプロピルエーテル０．００４夕
をジメチルアセトアミドに溶解して、ガラス基板に塗布
乾燥した後、水Ｗの水銀ランプを用いて、所定のパター
ンを５分間蕗光した。
昇した。室温でさらに１時間損拝を続けた後、無水酢酸
１０の‘とビＩＪジン４の‘との混合物を加え、５ぴ○
で２時間燈拝した後、メタノール２５０私と水５００の
‘との混合溶媒中に注ぎ、ポリァミドィミドを沈殿させ
、次いでメタノール洗浄した後乾燥した。このようにし
て得られた有機極性溶媒に可溶性のポリアミドィミド１
．５夕をジメチルアセトアミド２０の‘に溶解し、次い
でグリシジルメタクリレート０．８１夕を加えて、５５
℃で５時間反応させた後、メタノール１２５の‘と水２
５０の‘との混合溶媒中に注ぎ、アクリレート基を導入
したポリアミドィミドを沈殿させ、次いでメタノール洗
浄した後乾燥して、定量的に生成物を得た。得られた生
成物のァクリレート基の導入率は、５％であった。上記
アクリレート基の導入されたポリアミドイミド０．２夕
とテトラメチロールメタンテトラアクリレート０．０１
夕およびペンゾインイソプロピルエーテル０．００４夕
をジメチルアセトアミドに溶解して、ガラス基板に塗布
乾燥した後、水Ｗの水銀ランプを用いて、所定のパター
ンを５分間蕗光した。
次いでジメチルアセトアミドとメタノール（３：２容量
比）の混合溶媒を用いて非露光部を洗い出して、ネガ型
の凹凸パターンを得た。その後の熱天秤による耐熱テス
トでは、窒素気流下１０℃／分の昇温速度で重量減少を
測定した所４００℃まで顕著な重量減少は認められなか
った。実施例 ２ 実施例１で得た有機極性溶媒に可溶性のポリアミドイミ
ド１．５夕をジメチルアセトアミド２０の【に溶解し、
次いでアクリル酸クロラィド０．５２夕とピリジン１の
‘を加えて、５５ｑ０で９時間反応させた後、メタノー
ル１２５の‘と水２５０私との混合溶媒中に注ぎ、アク
リレート基を導入したポリアミドィミドを沈殿させ、次
いでメタノール洗浄した後乾燥して、定量的に生成物を
得た。
比）の混合溶媒を用いて非露光部を洗い出して、ネガ型
の凹凸パターンを得た。その後の熱天秤による耐熱テス
トでは、窒素気流下１０℃／分の昇温速度で重量減少を
測定した所４００℃まで顕著な重量減少は認められなか
った。実施例 ２ 実施例１で得た有機極性溶媒に可溶性のポリアミドイミ
ド１．５夕をジメチルアセトアミド２０の【に溶解し、
次いでアクリル酸クロラィド０．５２夕とピリジン１の
‘を加えて、５５ｑ０で９時間反応させた後、メタノー
ル１２５の‘と水２５０私との混合溶媒中に注ぎ、アク
リレート基を導入したポリアミドィミドを沈殿させ、次
いでメタノール洗浄した後乾燥して、定量的に生成物を
得た。
得られた生成物のアクリレート基の導入率は、１０％で
あった。上記アクリレート基の導入されたポリアミドィ
ミド０．２夕とトリメチロールプロパントリアクリレー
ト０．０１夕および１，４ーナフトキノン０．００４夕
をジメチルアセトアミドに溶解して、ガラス基板に塗布
乾燥した後、水Ｗの水銀ランプを用いて、所定のパター
ンを５分間露光した。次いでジメチルアセトアミドとメ
タ／ール（３：２容量比）の混合溶媒を用いて、非琢光
部を洗い出して、ネガ型の凹凸パターンを得た。その後
の熱天秤による耐熱テストでは、窒素気流下１０ｑｏ／
分の昇温速度で重量減少を測定した所、４００℃まで顕
著な重量減少は認められなかった。尚、上記実施例以外
の有機極性溶媒に可溶性のポリアミドィミドを用いた場
合も同様であった。
あった。上記アクリレート基の導入されたポリアミドィ
ミド０．２夕とトリメチロールプロパントリアクリレー
ト０．０１夕および１，４ーナフトキノン０．００４夕
をジメチルアセトアミドに溶解して、ガラス基板に塗布
乾燥した後、水Ｗの水銀ランプを用いて、所定のパター
ンを５分間露光した。次いでジメチルアセトアミドとメ
タ／ール（３：２容量比）の混合溶媒を用いて、非琢光
部を洗い出して、ネガ型の凹凸パターンを得た。その後
の熱天秤による耐熱テストでは、窒素気流下１０ｑｏ／
分の昇温速度で重量減少を測定した所、４００℃まで顕
著な重量減少は認められなかった。尚、上記実施例以外
の有機極性溶媒に可溶性のポリアミドィミドを用いた場
合も同様であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ここでＡｒは ▲数式、化学式、表等があります▼ Ａｒ′は ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、ＸはＯ，
ＳＯ＿２，ＣＨ＿２，ＣＯ，ＣＯＯ，Ｃ（ＣＨ＿３）＿
２，Ｓを示し、これらは互いに同一であつても異なつて
いても良い。 ）を示し、Ｙ＿１は ▲数式、化学式、表等があります▼ ＹはＨまたはＹ＿１（ＺはＨまたはＣＨ＿３）を示し、
ｍは０または正の整数、ｎは正の整数を示す。 〕で表わされるポリマーと、エチレン系不飽和二重結合
を有する化合物と、およびカルボニル化合物、過酸化物
、アゾ化合物、イオウ化合物、ハロゲン化物の中から選
ばれた一種以上の光重合開始剤とからなる事を特徴とす
る耐熱性フオトレジスト組成物。２ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ここでＡｒは、 ▲数式、化学式、表等があります▼ Ａｒ′は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、Ｘ▲数式、
化学式、表等があります▼はＯ，ＳＯ＿２，ＣＨ＿２，
ＣＯ，ＣＯＯ，Ｃ（ＣＨ＿３）＿２，Ｓを示し、これら
は互いに同一であつても異なつていても良い。 ）を示し、ｍは０または正の整数、ｎは正の整数を示す
。〕で表わされる有機極性溶媒に可溶のポリアミドイミ
ドと、（メタ）アクリル酸クロライド又はグリシジル（
メタ）アクリレートを、有機極性溶媒中で反応させる事
を特徴とする耐熱性フオトレジストの製造方法。２ 一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は、 〔ここでＡｒは、 ▲数式、化学式、表等があります▼ Ａｒ′は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒは水素、アルキル基、ハロゲンを示し、ＸはＯ，
ＳＯ＿２，ＣＨ＿２，ＣＯ，ＣＯＯ，Ｃ（ＣＨ＿３）＿
２，Ｓを示し、これらは互いに同一であつても異なつて
いても良い。 ）を示し、ｍは０または正の整数、ｎは正の整数を示す
。〕で表わされる有機極性溶媒に可溶のポリアミドイミ
ドと、（メタ）アクリル酸クロライド又はグリシジル（
メタ）アクリレートを、有機極性溶媒中で反応させる事
を特徴とする耐熱性フオトレジストの製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15668777A JPS6023341B2 (ja) | 1977-12-27 | 1977-12-27 | 耐熱性フオトレジスト組成物およびその製造方法 |
| GB7844576A GB2008784B (en) | 1977-11-17 | 1978-11-15 | Heat resistant photoresist composition and process for preparing the same |
| US05/961,462 US4208477A (en) | 1977-12-26 | 1978-11-16 | Heat resistant photoresist composition and process for preparing the same |
| FR7832525A FR2409535A1 (fr) | 1977-11-17 | 1978-11-17 | Composition " photoresist " resistant a la chaleur et procede de preparation de celle-ci |
| DE19782849981 DE2849981A1 (de) | 1977-11-17 | 1978-11-17 | Waermebestaendiges photoresistmaterial und verfahren zu seiner herstellung |
| US06/104,050 US4316974A (en) | 1977-12-26 | 1979-12-17 | Polymers for use in heat resistant photoresist composition and process for preparing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15668777A JPS6023341B2 (ja) | 1977-12-27 | 1977-12-27 | 耐熱性フオトレジスト組成物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5489623A JPS5489623A (en) | 1979-07-16 |
| JPS6023341B2 true JPS6023341B2 (ja) | 1985-06-07 |
Family
ID=15633123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15668777A Expired JPS6023341B2 (ja) | 1977-11-17 | 1977-12-27 | 耐熱性フオトレジスト組成物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6023341B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS572316A (en) * | 1980-06-05 | 1982-01-07 | Toshiba Chem Corp | Thermosetting resin composition |
| JPS572317A (en) * | 1980-06-07 | 1982-01-07 | Toshiba Chem Corp | Thermosetting resin composition |
| JPS5920304A (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-02 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 光重合開始剤組成物 |
| JP2516897B2 (ja) * | 1983-10-21 | 1996-07-24 | 信越化学工業株式会社 | 感光性組成物 |
| JPH0646302B2 (ja) * | 1987-06-22 | 1994-06-15 | 株式会社日立製作所 | 耐熱感光性重合体組成物 |
| JP3338890B2 (ja) * | 1998-05-20 | 2002-10-28 | 富士通株式会社 | 感光性耐熱樹脂組成物、その組成物を用いた耐熱絶縁膜のパターン形成方法、及びその方法により得られるパターン化耐熱絶縁膜 |
| JP2006342335A (ja) * | 2005-05-11 | 2006-12-21 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリアミドイミドおよび樹脂組成物 |
-
1977
- 1977-12-27 JP JP15668777A patent/JPS6023341B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5489623A (en) | 1979-07-16 |
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